ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 20.03.2024

Просмотров: 144

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

СОДЕРЖАНИЕ

Лавинно-пролітний діод

Будова і зонна діаграма

Принципи генерації

Типова конструкція лдп

Використання лпд для генерації нвч-коливань

Параметри лпд

Діод Ганна

Зона структура матеріалу

Механізм генерації

Утворення доменів

Режим прольоту

Умова реалізації генерації

Генерація нвч-коливань в діодах

Недоліки та переваги генераторів ганна

Оптоелектроніка

Переваги ое

Недоліки ое

Основні прилади ое

Основні поняття оптики

Електромагнітні хвилі

Механізми поглинання світла

Заломлення та відбиття cвітла

Формула друде-фойгта

Спектри пропускання та відбиття

Прямозонні та непрямозонні матеріали

Визначення Еg

Екситонне поглинання

Люмінесценція

Фоторезистивний ефект

Оптоелектроніка

Напівпровідники для виготовлення джерел світла світлодіоди

Параметри світлодіодів

Напівпровідникові лазери

Напівпровідникові фотоприймачі

Напівпровідникові фотоприймачі

Фотодіоди

Фотодіоди

Фотоприймачі з внутрішнім підсиленням

Основні параметри фотоприймачів

Фізичні принципи роботи се

Конструкція се

Поява струму при освітлені

Процеси у фотоперетворювачах

Точка максимальної потужності

Еквівалентна схема се

Сонячний спектр в космосі та на землі

Обмеження ефективності се

3) Напруга холостого ходу (Voc).

Гетеропереходи

Характеристики тонкоплівкових феп

Стан гетерограниці

Вплив границь зерен

Типи потенціальних бар’єрів на межі зерна

Вплив часу життя носіїв заряду на характеристики се

Нові матеріали поглинаючих шарів се

Багатоперехідні (каскадні) сонячні перетворювачі

Оптрони та їх застосування

Зростання ккд се

Оптрони та їх застосування

Оптрони та їх застосування

Оптрони та їх застосування

Основи мікроелектроніки

Елементи конструкції іс

Класифікація ic

Система умовних позначень іс

Гібридні ic

2 Необхідно мати універсальні іс.

Гібридна технологія

Плівкові конденсатори

Технологія створення ic

Технологія виготовлення інтегральних мдн- структур

Ізоляція

Біполярні транзистори

Багатоемітерні транзистори

Бт з бар'єром шотткі

Мон (мдн)- транзистори

Резистори

Конденсатори

Іс з інжекційним живленням

Іс з інжекційним живленням

Якщо Ф=0, то через фототранзистор проходить невеликий темновий струм

IТ=IКБ0(h21Е+1).

При освітленні області бази через вікно (Ф>0) в ній генеруються нерівноважні пари носіїв заряду – фотоелектрони та фотодірки, які дифундують до ЕП та КП. При цьому поле КП розділяє заряди: електрони рухаються до n - колектора, дірки – до p- бази. У колі колектора під дією цих електронів зростає струм на величину IФ. Дірки створюють у базі позитивний заряд, який зміщує ЕП у прямому напрямі і викликає інжекцію електронів. Унаслідок інжекції електронів через ЕП, їх дифузії через базу та екстракції через КП струм колектора додатково зростає на величину h21Е IФ. Тобто фотодірки у базі відіграють роль вхідного струму бази.

Структура і схема вмикання фототранзистора 

(а), статичні вихідні характеристики (б)

  • Загальний колекторний струм фототранзистора

IК=IФ+h21ЕIФ+IТ= (1+h21Е)IФ+IТ

  • Сім’я ВАХ фототранзистора IК = f(UКБ)Ф = const пока­зана на рис. Збільшення освітлення фототранзистора приводить, згідно з формулою, до зростання колек­торного струму. Інтегральна чутливість фототранзистора SФ в (1+h21Е) раз більша, ніж у фотодіода. Це пояснюється тим, що у фототранзистора струм IФ підсилюється в (1+h21Е) раз.

  • Фототиристори (рис.) є фотоприймачами з ключо­вою пороговою характеристикою, вони застосовуються для перемикання великих струмів і напруги. ВАХ з відкриваю­чою дією світлового потоку показана на рис. 

  • Засвічення базової області тиристора зумовлює генерацію надлишкових носіїв заряду, що приводить до перемикання чотиришарової структури із закритого стану у відкритий так само, як це буває у триністорі при перемиканні керувальним струмом.

Структура, схема вмикання (а) та ВАХ (б) фототиристора



Основні параметри фотоприймачів

  • До основних параметрів фотоприймачів відносяться:

  • 1. Довгохвильова границя 0 або довжина хвилі, що відповідає максимуму фоточутливості m;

  • 2. Спектральна чутливість R - величина вихідного сигналу, що припадає на одиницю потужності монохроматичного випромінювання у даній спектральній області;

  • 3 Мінімальна потужність що виявляється Pmin - потужність при якій вихідний сигнал дорівнює рівню шуму. Часто використовується еквівалентна потужність шуму.

NEP = Pmin()-1/2

Тобто потужність, віднесена до одиничної полоси пропускання. Тут  - ефективна полоса пропускання підсилювача.

4. Виявна здатність D* - величина обернена Pmin віднесена до одиничної полоси пропускання (1 Гц) і одиничної площі поверхні фотоприймача.

5. Квантова ефективність - число фотогенерованих носіїв, що припадають на один поглинутий фотон

6. Стала часу - час за який вихідний сигнал детектора досягне 63% максимального значення.

7. Опір приймача R або приведений опір. Звичайно він наводиться при нульовому зміщенні.

8. Гранична частота - найбільша робоча частота приладу.

Фізичні принципи роботи се

Перетворення енергії у фотоелектричних перетворювачах (ФЕП) засноване на фотовольтаїчному ефекті, який виникає в неоднорідних напівпровідникових структурах при дії на них сонячного випромінювання.

Неоднорідність структури ФЕП може бути отримана шляхом легуванням одного і того ж напівпровідника різними домішками (створення p–n - переходів) або шляхом з'єднання різних напівпровідників з неоднаковою шириною забороненої зони (створення гетеропереходів).

Використовуються також МДП структури.

Конструкція се

Принцип роботи СЕ можна пояснити на прикладі перетворювачів з p-n-переходом, які широко застосовуються у сучасній геліоенергетиці.       а б Конструкція (а) та принцип дії (б) фотоперетворювача


p-n ПЕРЕХІД В СТАНІ РІВНОВАГИ

Поява струму при освітлені

Неосновні носії вводяться через контакт

Кожного разу, коли неосновний носій-електрон рекомбінує на р-стороні, один електрон протікає у зовнішньому колі

Процеси у фотоперетворювачах

ввмвм

е

При роботі СЕ приладів відбуваються наступні процеси:

1. Генерація електронно-діркових пар під дією випромінювання;

2. Дифузія неосновних фотогенерованих носіїв до p-n, гетеро- або переходу напівпровідник-метал;

3. Розділення носіїв переходом;

4. Збирання носіїв омічними контактами.

Процеси рекомбінації характеризуються часом життя неосновних носіїв заряду

  • - час життя неосновних носіїв заряду; - їх теплова швидкість; Sr - переріз захвату носіїв рекомбінаційними центрами.

Дифузійна довжина неосновних носіїв заряду пов’язана з їх часом життя

де k – стала Больцмана; - рухливість носіїв заряду; е – заряд електрона.

ВАХ р-n-ПЕРЕХОДУ

Темнова (а) та світлова (б) ВАХ СЕ

I0, А - визначаються механiзмом проходження струму через структуру. У випадку дифузійного механiзму А = 2, емiсiйного механiзму А = 1, рекомбiнацiйного - 1 < A < 2, тунельного – 1,3 < A < 2