Файл: Соммер А. Фото-эмиссионные материалы.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 18.06.2024

Просмотров: 90

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

В полупроводниках зтот механизм энергетических потерь пренебрежим по сравненю с потерями энергии при рассеянии на фононах, т. е. взаимодействии с коле­ баниями кристаллической решетки. При этом потери энергии в одном акте рассеяния значительно меньше, чем при рассеянии на электронах. Это приводит к тому, что фотоэлектроны из более глубоких областей могут достигнуть поверхности, сохранив энергию, достаточную для эмиссии. Экспериментально показано, что глубина выхода фотоэлектронов в некоторых полупроводниковых веществах достигает нескольких сотен ангстрем. Отсюда следует, что эффективность второго этапа эмиссионного процесса в значительной степени зависит от величины коэффициента поглощения света в полупроводнике. Чем больше коэффициент поглощения, тем большее число электронов возбуждается на «полезном» расстоянии от поверхности. Эксперименты показали, что в некоторых веществах почти все фотоэлектроны достигают поверхно­ сти с достаточной энергией, если коэффициент поглоще­ ния равен 10s см-1.

Таким образом, энергетические потери фотоэлектро­ нов в металлах вызывают значительное уменьшение квантовой эффективности, в то время как в полупровод­ никах эффективность второго этапа в эмиссионном про­ цессе может достигать 100 %.

Поверхностный барьер. Высота поверхностного барье­ ра у металлов определяется работой выхода Ф. Фото­ электроны, возбужденные в металле, могут выйти в ва­ куум только в том случае, если энергия фотона превы­

шает

Ф. Работа выхода всех

металлов

превышает 2эв,

а у большинства металлов она больше 3 эв.

В

резуль­

тате

длинноволновая граница

фотоэмиссии

в

лучшем

 

о

 

для

некоторых

случае составляет б ООО А (например,

щелочных металлов), а для большинства металлов она лежит в ближней ультрафиолетовой области спектра. Это ограничение является одной из причин малой прак­

тической

применимости

металлических

фотоэмиттеров.

Роль

поверхностного

барьера в

полупроводниках

лучше всего* можно

понять с помощью

зонной диаграм­

мы,

приведенной

на

рис.

1.

Следует

подчеркнуть, что

этот

рисунок

представляет

собой

идеализированную

схему, в которой не учитываются форма

энергетических

зон,

присутствие

локальных

уровней

 

в

запрещенной

зоне

и изгиб

зон

вблизи

поверхности.

Как

уже упоми-

10


палось, для возбуждения электрона из валентной зоны в зону проводимости необходимо, чтобы энергия фотона превышала ширину запрещенной зоны Е8. Для того что­ бы выйти в вакуум, электрон должен иметь энергию, достаточную для преодоления потенциального барьера, равного величине электронного сродства Еа. На диа­ грамме Еа представляет собой расстояние между дном зоны проводимости и уровнем вакуума. Следовательно,

для 'получения фотоэмиссии из

данного

материала не-

 

УроВвнь вакуума

 

 

Дно

зоны

 

 

проводимости

 

 

Уровень Ферми

 

 

Вершина

валент­

 

 

ной

зоны

 

Рис. 1. Идеализированная модель энергетических зон

 

полупроводникового

фотокатода.

 

 

обходимо, чтобы энергия фотона превышала

(Eg+Ea).

Для того чтобы материал оказался чувствительным хотя бы в части видимой области спектра, необходимо, чтобы

эта

сумма

была меньше, чем 3 эв (или

меньше, чем

1,7

эв для

получения чувствительности во

всей видимой

о

области спектра вплоть до 7 000 А). Последнее условие выполняется в некоторых сложных полупроводниках, представляющих собой эффективные фотокатоды.

Следует отметить, что положение уровня Ферми, по­ казанного на рис. 1, как для собственного полупроводни­ ка, посередине между валентной зоной и зоной проводи­ мости, непосредственно не связано с длинноволновой границей фотоэлектронной эмиссии. В полупроводниках уровень Ферми определяет термоэлектронную работу выхода, которая для случая, показанного на рис. 1, равна (t/zEg+Ea). Этим полупроводники отличаются от металлов, у которых работа выхода Ф, равная разно­ сти энергии между уровнем Ферми и уровнем вакуума, определяет как термоэлектронную эмиссию, так и длин­ новолновый порог фотоэлектронной эмиссии (т. е. тер­ моэлектронная и фотоэлектронная работы выхода сов­ падают) .

Проведенный анализ показывает, что только от полу­ проводниковых материалов можно ожидать высокого квантового выхода и наличия фоточувствительности


Е а > Е е ,
Ds3Sb

в длинноволновой области спектра. Из-за значительные потерь на первых двух этапах эмиссионного процесса, а также из-за ограничения порогу фотоэмиссии величи­ ной работы выхода максимальный квантовый выход ме­ таллов в видимой области спектра составляет величину порядка Ю - 4 (электронов на падающий фотон). Кванто­ вый выход фотоэмиссии некоторых полупроводниковых

соединений в области энергии фотонов

hv>(Eg+Ea)

близок к теоретическому пределу.

 

1-3. ФОТОЭМИССИЯ ИЗ ПОЛУПРОВОДНИКОВ

В предыдущем параграфе было показано, что длинноволновая граница фотоэлектронной эмиссии из полупроводников определяется величиной (Eg+En). Было показано также, что основным требова­ нием для получения высокого квантового выхода из полупроводнико­ вого фотокатода является большая величина коэффициента оптиче­ ского поглощения. Рассмотрим дополнительные факторы, определяю­

щие величину квантового выхода и длинноволно­ вую границу фотоэлек­ тронной эмиссии полу­ проводников.

 

1

 

 

5 a « 1,5эв

 

Отношение

Eg

к

£ „ .

 

Ед=1,6эв

 

 

 

 

Пусть

на

-полупроводник

 

 

 

 

 

падает

поток

фотонов

с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

энергией,

равной

или

 

 

 

 

 

 

 

слегка

 

превышающей

 

 

 

 

Ед=0,5зв

J

 

(Eg+Ea).

 

При поглоще­

Рис. 2.

Влияние

отношения

Eg к Е а

на

нии света

в зоне

прово­

димости

'Воз-буЖ'даются

квантовый

выход

полупроводникового

горячие

фотоэлектроны,

 

 

фотокатода.

 

 

 

 

 

 

кинетическая

энергия ко­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

торых близка

Е а .

В том

случае,

если

F—

^

единственным механизмом энергетических потерь

t a < E g ,

фотоэлектронов может быть рассеяние на фононах. Поскольку s од­ ном акте рассеяния на фононах фотоэлектрон теряет лишь незначитель­ ную часть своей энергии, вероятность выхода его в вакуум в этом случае велика. В другом случае, если фотоэлектрон имеет достаточную энергию для того, чтобы возбудить второй электрон из валентной зоны в зону проводимости. При этом энергия обоих элек­ тронов оказывается недостаточной для выхода в вакуум. Экспери­ менты показали, что генерация электронно-дырочной пары происхо­ дит с большей вероятностью, чем выход фотоэлектрона в вакуум.

Таким образом, полупроводники, у которых отношение Eg/Ea

больше

единицы,

имеют

больший квантовый

выход,

чем

полупроводники,

у которых

Е е < Е а .

В качестве

примера

можно

привести два химиче­

ски близких полупроводниковых соединения: CsaSb

и Cs.iBi

(рис. 2).

Эти полупроводники имеют

примерно

равные

величины

(Eg+E„)

и, следовательно, одинаковые значения длинноволновой границы фо­ тоэмиссии. Однако максимальное значение квантового выхода мате-


риала с высоким отношением /^/^(CsaSb) более чем п 10 раз пре­ вышает квантовый выход фотоэмиссии соединения с более узкой запрещенной зоной (CS2B1).

Следует отметить, что это «правило Ееау> носит лишь качест­ венный характер. Относительная вероятность генерации пары и элек­ тронной эмиссии определяется деталями зонной структуры материа­ ла, главным образом распределением плотности электронных состоя­ нии в соответствующих зонах. Хорошим примером материала с ма­ лой запрещенной зоной и большим электронным сродством, -обладаю­ щим, однако, большим квантовым выходом фотоэмиссии, является сульфид кадмия (Л. 62].

 

Фотоэмиссия

с примесных

уровней. Зонные диаграммы, приведен­

ные

на рис. 1 и 2, относятся к идеальному случаю

собственного по­

лупроводника. В реальных материалах обя­

 

 

зательно присутствуют примеси и различные

 

 

дефекты структуры.

Примеси

и

дефекты

 

Еа

влияют на положение уровня Ферми в по­

 

 

 

лупроводнике и, следовательно,

на его элек­

 

 

тропроводность

н термоэлектронную работу

 

 

выхода.

Важную

роль

ипрагот

примеси

 

 

в

фотопроводимости

полупроводников, по­

 

 

скольку электроны могут оптически воз­

 

 

буждаться а зону проводимости с -примес­

 

 

ных уровней, расположенных в запрещенной

 

 

зоне,

т. е. фотонами

с энергией,

меньшей,

Рис.

3. Влияние изги­

чем

E g . Аналогично

этому может

наблю­

ба зон на порог фо­

даться

и фотоэмиссия

с примесных

уровней

 

тоэмиссии.

при

освещении

полупроводника

излучением

 

 

 

с

энергией фотонов,

меньшей, чем (Eg +

 

 

+ Е а ) .

Однако

в

отличие

от

фотопроводимости

этот эффект не­

значителен и не имеет большого практического значения. Причина этого заключается в малой величине коэффициента примесного по­ глощения по сравнению -с собственным поглощением света. Из-за малости коэффициента примесного поглощения лишь незначительная часть падающего света поглощается в приповерхностной области, толщина которой равна глубине выхода электронов, и квантовый вы­ ход примесного фотоэффекта оказывается невысоким. При наблюде­ нии фотопроводимости ситуация отличается тем, что, поскольку воз­ бужденные электроны не должны выходить в вакуум, «полезное» поглощение света происходит во всем объеме материала.

Изгиб зон. Присутствие примесных уровней может влиять и на фотозмиссию из валентной зоны полупроводника. Как указал Спай-

сер [Л. 3], наиболее важным

является случай

полупроводника р-типа

с поверхностными

состояниями. Диаграмма

энергетических зон для

такого материала

приведена

на рис. 3. В

этом случае электроны,

оптически возбужденные из валентной зоны на расстоянии от по­ верхности, превышающем ширину области изгиба зон а, ускоряются

внутренним полем. Иначе

геворя, они должны преодолеть

более низ­

кий .потенциальный барьер

на поверхности, равный

Яа.оФФ<£'а. Как

будет

показано в дальнейшем,

имеются

основания

предполагать, что

изгиб

зон такого типа играет

важкую

роль в некоторых

наиболее

чувствительных фотокатодах.

Многоэлектронные и многофотонные эффекты. До сих пор мы

исходили из предположения, что максимальный квантовый выход до-