ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 20.03.2024

Просмотров: 90

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

 

 

 

 

 

 

pn0Dp

 

 

 

np0Dn

 

 

U çâ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

 

 

 

jçâ q (

 

 

) (e

1) .

 

(1.28)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Lp

 

 

 

 

 

Ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Об’єднавши вирази (1.27) та (1.28), одержимо загальний

вираз для густини струму через p-n перехід

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

U

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

j j

s

(e T

1) ,

 

 

 

 

 

 

(1.29)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

де U – прикладена до переходу напруга;

 

 

 

 

 

js q (

pn0Dp

 

np0Dn

)

густина струму насичення.

 

 

 

 

 

 

 

Lp

 

 

 

 

Ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Якщо П – площа переходу, то шукане рівняння

теоретичної ВАХ має вигляд

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pn0Dp

 

np0Dn

 

 

 

U

 

 

 

 

 

U

 

 

I j Ï qÏ

(

 

) (e T 1)

I

S

(e T

1) .

(1.30)

 

 

 

 

 

 

Lp

Ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

У цьому

 

рівнянні

U 0

при

прямому

включенні

p-n переходу,

 

U 0

 

при

зворотному,

IS

струм

насичення.

Теоретична ВАХ переходу за формулою (1.30) подана на

рис. 1.12. При збільшенні зворотної

напруги

U çâ

 

струм

через перехід

 

прямує

до

граничного

значення

IS ,

якого

досягне при U çâ 0,1 0, 2 В.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Вважаючи, що всі атоми домішок іонізовані,

 

 

 

 

 

n2

 

 

 

 

n2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P

 

i

 

, n

p

 

i

 

і p

p

N

A

, n N

Ä

,

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

0

nn

 

 

0

 

p p

 

 

0

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а також враховуючи формулу (1.1), одержимо для струму насичення

29


 

 

 

Dp

 

D

) A2

 

W

 

I

s

(

 

 

n

e

kT .

(1.31)

Lp N Ä

Ln N A

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

IS

U

Рисунок 1.12 – Теоретична ВАХ p-n переходу

З формули (1.31) видно, що чим більші ширина ЗЗ W і концентрація домішок донорів і акцепторів, тим менший струм насичення. Цей струм із зростанням температури зростає.

1.2.5 Параметри p- n переходу

До параметрів p-n переходу належать його товщина та ємності.

Товщина переходу

Розглянемо p-n перехід з товщиною (рис. 1.13). Ця величина складається з товщини переходу в р-області p та

товщини переходу в n-області

n

і визначається за

формулою

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

n

 

2 0

(

1

 

1

)(U

 

U ) ,

(1.32)

 

 

 

K

 

 

 

 

q

N Ä

N À

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

де 0 8,85 10 12 Ф/м - електрична стала;

30


- відносна електрична проникність ( 12 для кремнію, 16 для германію);

UK - контактна різниця потенціалів;

U - прикладена зовнішня напруга.

δp

δn

p

n

 

δ

Рисунок 1.13 – P-n перехід при N A N Ä

З формули (1.32) випливає, що товщина переходу залежить від ступеня легування областей НП (від концентрацій домішок) і від прикладеної напруги.

Чим вища концентрація домішок областей N A і N Ä , тим вужчий перехід. Для величин p та n існує закономірність

 

p

 

N Ä

,

(1.33)

 

n

N A

 

 

 

 

тобто товщини p-n переходу в області

р і області n

обернено пропорційні концентраціям домішок цих областей. Якщо N A >> N Ä , тоді з (1.32) маємо

 

 

 

 

 

 

 

 

n

2 0

1

(UK U ) .

(1.34)

q

 

 

 

N Ä

 

 

 

 

 

 

 

Аналогічно при N A << N Ä

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

2 0

1

(UK U ) .

(1.35)

q

 

 

 

NÀ

 

 

 

 

 

 

 

31


З формули (1.32) випливає, що збільшення прямої зовнішньої напруги U на переході (UK U ) приводить до

зменшення його товщини. Фізично це зумовлено тим, що при прямому включенні основні носії заряду змушені рухатися в напрямку від невипрямних контактів до збідненого шару переходу, збагачуючи його. Опір переходу зменшується, сам перехід звужується (рис. 1.14 а).

+ p

n

p

n

+

 

а)

 

б)

 

Рисунок 1.14 – Вплив напруги U на товщину переходу

Збільшення

зворотної

напруги

на переході

(U K U )

приводить до збільшення його товщини. У цьому випадку основні носії заряду зміщуються в різні сторони від p-n переходу, і збіднений шар ще більше збіднюється на

рухомі носії, його опір збільшується, а перехід розширюється (рис. 1.14 б).

Ємності переходу

Залежно від фізичної природи заряду, що змінюється в переході, розрізняють бар’єрну та дифузійну ємності.

Бар’єрна (зарядова) ємність визначається зміною нескомпенсованого заряду іонів при зміні товщини запірного шару під дією зовнішньої напруги. Ідеальний p-n перехід нагадує плоский конденсатор, пластинами

якого є нейтральні низькоомні області НП. Отже, при використанні формули (1.32) бар’єрна ємність дорівнює

Cáàð

0

Ï

Ï

 

0qN AN Ä

 

. (1.36)

 

 

2(N A N Ä )(UK U )

 

 

 

 

 

 

32


З (1.36) випливає, що бар’єрна ємність збільшується при зростанні N A і N Ä , а також при зростанні прямої напруги.

При зростанні зворотної напруги бар’єрна ємність зменшується. Характер залежності Cáàð f (U) показано на

рисунку 1.15.

Cбар

C0

U зв

0

U K

Uпр

 

Рисунок 1.15 – Вольт-фарадна характеристика р-n переходу

Дифузійна ємність зумовлена здебільшого процесами інжекції. Зміну заряду неосновних носіїв відносно рівноважного рівня біля переходу при зміні прямої напруги можна розглядати як прояв деякої ємності:

C

dQ³í æ

,

(1.37)

 

äèô

dUï ð

 

 

 

 

 

де Q³í æ - величина інжектованого заряду.

Величина цієї ємності може бути розрахована за формулою

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Uï ð

 

 

C

 

 

(L n

p

L

p

p )e T

.

(1.38)

 

 

äèô

 

 

 

n

 

n

 

 

 

 

 

 

 

T

0

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Як правило,

при

прямому

ввімкненні

p-n переходу

враховується лише дифузійна ємність, тому що бар’єрна ємність становить одиниці пікофарад, а дифузійна – десятки нанофарад.

33