ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 17.10.2024
Просмотров: 102
Скачиваний: 0
менное увеличение F0 при Т = 100—250 °К (см. рис. 13.1) Это является следствием того, что напряжение V = 20 в, к которому относится кривая F 0 (Т) на рис. 13.1, выше необходимого для пробоя барьера при низких температу рах (12,1 в при Т — 100 °К; см. рис. 13.2), но соответству ет постепенно уменьшающимся значениям М при более высоких Т (вследствие увеличения ст), т. е. «сопротив ление» барьера растет в некотором интервале температур. Дальнейшее увеличение Т настолько увеличивает / 0, что напряжение на барьере начинает падать. Соответст вующие значения N (F0, Т) быстро уменьшаются с ро стом температуры (см. рис. 13.1). Форма кривых F0 (Т) и N (Т) мало изменяется, если расчеты проводятся при других значениях коэффициента Ъ (например, при Ъ — 10
и 20 в для Т = 300 °К).
В опытах с монокристаллами, имеющими невысокий барьер (например, окиси цинка; см. раздел V), когда при повышении напряжения вместе с током увеличивается и температура кристалла, можно непосредственно наблю
дать зависимость F 0 (F, Т), |
которая является наложением |
|
форм, следующих из рис. |
13.1 и 13.2 (пока Т |
const, |
F 0 растет с увеличением F, постепенно испытывая насыще ние; нагрев кристалла током приводит к быстрому па
дению |
F 0 при почти постоянном F). |
в) |
Скорость ионизации при различных температурах. |
Зная зависимость F 0 (Т) при F = const, можно построить зависимость числа G ионизаций в барьере за секунду от
температуры |
G (Т) = / 0 (Т) М (F0, Т) N (F 0, |
Т). Обрат |
ный ток / 0 |
пропорционален ехр (— еср01кТ), |
где еср0 — |
высота барьера со стороны металла (или энергетическое расстояние заполненных поверхностных уровней от вер
шины барьера, |
если он обусловлен |
этими |
состояниями, |
|||
или АЕ/2 |
в |
случае |
р — «-перехода). |
Следовательно, |
||
|
|
|
|
|
|
(13.3) |
Величина |
g = 1,5-1024 сек-1в~'% |
если |
концентрация |
|||
нескомпенсированных |
доноров равна 1017 |
см~3, TFi = |
||||
= 10-5 см, |
ц0 = |
60 см21(в-сек), а ток выражается в числах |
электронов, проходящих через 1 см2 поверхности кристал ла за секунду.
С учетом изменения F 0 (Т) уравнение (13.3) дает кри вые G (Т), приведенные на рис. 13.3 и соответствующие
94
числу ионизаций в секунду, приходящихся на 1 см2
кристаллического слоя. |
|
|
|
= |
|||
При |
подсчете |
G (Т) было принято значение еср0 |
|||||
= 0,41 |
эв. Так |
как |
еср0 = ец> + |
Ef, |
где Еj |
— интервал |
|
между |
дном зоны |
проводимости |
и |
уровнем |
Ферми, |
то |
при еф = 0,16 эв (величина, которая была использована
для получения кривых V0 (F) и V0 (Т)) |
это соответствует |
Ef = 0,25 эв. Такое значение Ef может |
отвечать ситуации |
Т,°К
Рис. 13.3. Скорость ионизации G в зависимости от температурьГпри трех на
пряжениях на образце. Для кривой |
G при V = |
10 е цифры на оси ординат дол |
||||
жны быть уменьшены |
в 50 раз, |
а |
для |
кривой |
при У = 40 в — увеличены |
|
в |
20 раз. N |
|
дано |
при |
V = |
20 в. |
в ZnS, в котором глубина основных уровней доноров рав на 0,25 эв, а уровень Ферми располагается вблизи этого значения, так как в обычных образцах электролюмино форов концентрация донорных примесей лишь не намного превышает концентрацию акцепторных (§§ 22, 28). Об щая форма G (Т) мало зависит, однако, от выбранных значений еф0-
Основной особенностью этих кривых является присут ствие максимума, который появляется вследствие конку ренции двух факторов: увеличения первоначального то ка / 0 с ростом температуры и падения Е0, а следовательно, и числа ионизаций, приходящихся на каждый прошедший через кристалл электрон. Если использовать другие значения параметров, то общая форма кривых G (T) со храняется, но положение максимумов изменяется. Так,
если еф = 0,1 эв и при Т = 300 °К Ъ = 20 е, I tR = 1 в,
то максимумы смещаются примерно на 20° в сторону вы соких температур по сравнению с максимумами кривых на рис. 13.3.
95
г) Температурная зависимость яркости свечения. По счет G(T) не зависит от того, в каких условиях идет реком бинация: одновременно с ионизацией или после ее прекра щения в изолированных кристаллах (в последнем случае необходимо только постоянство G в течение импульса напряжения). Но выражения для яркости и ее абсолютные значения будут различны в этих двух случаях. Если ре комбинация происходит в условиях сквозного тока через барьер, включенный в запирающем направлении, то В ~ QGP, где 0 — доля рекомбинаций в пределах кристал ла, а Р — величина, отражающая тушение центров све чения, уже захвативших дырки. В области, где Р и G по стоянны, изменения В (Т) будут более быстрыми, так как добавляется возрастающий с температурой множитель
0 - / о ( Т ) .
При возбуждении изолированных кристаллов все ре комбинации происходят в пределах кристаллов и их общее число в течение полупериода напряжения равно числу ионизаций, т. е. в этом случае В = G (Т) Р (Т), если яркость выражена в числах рекомбинаций за единицу времени. Рассмотрим зависимость В (Т) в этом случае. Для получения кривых В (Т) необходимо знать изменения с температурой вероятности излучательных рекомбина ций Р. Основное свечение появляется после возврата электронов в область ионизации в моменты спада внешне го напряжения или увеличения его в противоположном направлении, когда поле в области скопления дырок ма ло. В этом отношении условия рекомбинации сближают ся с условиями, существующими при фотовозбуждении тех же образцов. Квантовый выход фотолюминесценции уменьшается с ростом температуры (§ 1), причем энергия активации тушения Е, входящая в (1.1), у электролюми нофоров часто заметно меньше, чем у аналогичных по составу фотолюминофоров [68]. При одной и той же сред ней яркости фото- и электролюминесценции в последнем случае основное излучение исходит из малых областей кристаллов и в течение небольшой части периода напряже ния, т. е. рекомбинация происходит при более высоких в среднем концентрациях носителей. В эту часть периода процессы тушения будут поэтому ослаблены (в (1.1) коэффициент с уменьшается с ростом концентраций элект ронов и дырок). В другие же части периода, когда реком бинации нет, освобождение дырок из центров свечения будет происходить более интенсивно, поэтому вид теоре
96
тической зависимости Р (Т) в этом случае будет несколько иным, чем вид, следующий из (1.1) (§§ 30, 32). Тем не менее
.для получения приближенной температурной зависимости Р при электровозбуждении можно воспользоваться опыт ными данными по температурному тушению фотолюминес ценции тех же образцов.
На рис. 13.4 приведена температурная зависимость яркости фотолюминесценции образца сульфида цинка с зеленым свечением и кривые яркости В (Т)= G (Т)-Р (Т),
В,Р
Рис. 13.4. Теоретическая зависимость яркости В от температуры при трех напряжениях. Значения В при V = 10 в увеличены в 25 раз, а при V = 40 в — уменьшены в 6,6 раза. Значения В и Р — в относительных единицах.
которые соответствуют значениям G на рис. 13.3. Падение Р с ростом температуры приводит к перемещению мак симума кривых G (Т) в сторону более низких температур.
На рис. 13.5 приведены примеры экспериментальных зависимостей В (Т) для различных веществ. Их общая фор ма подобна форме рассчитанных кривых. Положение мак симума зависит как от напряжения, так и от величины токов и других характеристик образцов. Поскольку при вычислении кривых В (Т) использовались параметры, характерные для ZnS-люминофоров, эти кривые оказы ваются наиболее близкими к опытным зависимостям имен но для этого вещества. Перемещение максимума кривых В (Т) с увеличением напряжения также наблюдалось на опыте (§ 30).
Таким образом, упрощенная схема явлений в барьере типа Шоттки передает основные черты явлений, наблю дающихся на ряде образцов. Разумеется, разнообразие реальных образцов и условий их возбуждения может
4 И. К. Верещагин |
97 |
приводить к усложнению или видоизменению кривых В (Т) по сравнению с рассчитанными. В частности, влия ние процессов тушения, обусловленных полевым осво бождением дырок из центров свечения, может привести к тому, что зависимость Р (Т) несколько изменится и на
В
Рис. 13.5. Примеры опытных зависимостей яркости разных веществ от тем пературы. 1 — Порошкообразный сульфид цинка с зеленым свечением, на ходящийся в вакууме, соприкасающийся с электродами и возбуждаемый пе ременным напряжением; 2 — карбид кремния с резким р — п-переходом, включенным в запирающем направлении (напряжение — постоянное); з — монокристалл окиси цинка с запирающим слоем у поверхности (импульсное
однополярное напряжение).
кривых В(Т) появится дополнительный максимум
(§§ 30, 32).
Присутствие туннельной составляющей у тока / 0 мо жет привести к увеличению яркости при низких тем пературах, когда туннельный ток преобладает.
§14. Квантовый и энергетический выходы электролюминесценции
Существенной характеристикой свечения является энергетический выход (к. п. д.). Перспективы совер шенствования электролюминесцентных источников света зависят, в частности, от предельной величины выхода, достижимой в данных условиях при определенном механиз ме возбуждения. Далее на основе прежних представле ний рассматривается зависимость выхода от напряжения, величина максимального выхода, а также влияние тем пературы на выход [53, 70].
а) Выход при ударном механизме возбуждения. На более высокий выход получится, если все рекомбинации
98
созданных полем носителей происходят в пределах кри сталла люминофора (0 = 1). Это возможно и при ЭЛ на постоянном напряжении, если область сильного поля рас положена в глубине кристалла и неравновесные дырки (электроны), выходящие из области ионизации, успевают прорекомбинировать не доходя до электродов. Подобный вариант может осуществиться, например, в случае « — р — «-структуры с протяженной «-областью со стороны като да или цепочки кристаллов с электронной проводимостью. В противоположность этому, свечение в одиночных р — «-переходах или поверхностных барьерах на границе с металлом должно иметь малую эффективность, так как большинство дырок покидает люминофор. В последнем случае (рекомбинации идут только в области сильного
поля) квантовый выход свечения равен |
= NQP. |
Если |
|
все рекомбинации происходят в люминофоре, то |
= |
NP. |
Этот случай относится также к возбуждению переменным напряжением изолированных образцов с барьерами.
При одинаковых N и Р отношение выходов |
= 0. |
||
Для барьера у контакта с металлом из |
(10.2) |
получится-з |
|
£ЯХР |
■-J- lo {М -\- 2)NP, |
(14.1) |
|
Л* = |
|||
т. е. |
|
|
|
ГW. |
Щ-М- |
t М + 2 |
|
0 = - ^ / о(М + 2) |
|||
|
|
X |
6 ~ ’ |
где t — время пролета электронами области ионизации Wt, а т = (у«о)-1 — рекомбинационное время жизни в уело виях слабого поля. Почти такое же значение 0 получается для р — «-переходов при рекомбинации в слое умножения
(см. |
(10.3)). Если М = |
4, Wi = |
10-6 см, vd = 107 см/сек, |
t = |
ю -12 сек и т = 10-7 |
сек, то 0 = |
10-5. Так как при М ^> |
^> 2 , N изменяется только от 0,5 до 1, абсолютные значе ния внутреннего выхода зависят прежде всего от 0 и Р. Поскольку внешний выход примерно на порядок меньше внутреннего, а величина Р при комнатной температуре мо жет иметь порядок 10-1, то измеряемый выход окажется равным 10-6—10"7 квантов на электрон. Выход при этом растет с увеличением напряжения и тока. Внешний кван товый выход порядка 10_6 фотонов на электрон наблюдал ся для р — «-переходов в кремнии [71] и поверхностных барьеров на окиси цинка (§ 20).
4* 99