ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 17.10.2024
Просмотров: 75
Скачиваний: 0
вает электропроводность люминофора, естественно пред положить, что добавочное свечение связано с носителями, освобожденными при поглощении света. В этом случае первоначальный ток, входящий в барьеры, равен сумме
темнового и |
фототока |
(70 |
/ т + |
/ф) и яркость Вфш — |
|
— Вф л~ 1 0 (М — 1), |
где |
М — коэффициент умножения. |
|||
При слабом |
освещении, |
когда |
/ф мал по |
сравнению |
|
с / т, напряжение V0почти не изменяется и ЭЛ, |
входящая |
||||
в состав фотоэлектролюминесценции, примерно такова |
|||||
же, как и без освещения. |
В этом случае наклоны зависи |
||||
мостей In В от F-0’5 для |
Д2?эл и Вэл должны быть оди |
наковы (см. рис. 33.4). При сильном освещении (Iф ^ > /т) ионизация и свечение соответствуют новым (снижен ным) значениям F0 и наклон для Д7?эл может отличаться от наклона кривых яркости ЭЛ. В этом случае имеет смысл рассматривать изменение наклона величины Д2 =
— Вфэл — Вфл, которая соответствует ЭЛ, связанной как с темновыми, так и фотоносителями. Увеличение интенсивности освещения Ф отвечает тогда росту пара метра I XR в схеме явлений, использовавшейся ранее для описания ЭЛ (§ 28), и должно привести к появлению зависимости наклона кривых Д2 от Ф с минимумом, типа приведенной на рис. 30.3. Опытная зависимость наклона от Ф имеет такой же вид [188J.
Таким образом, изменения тока через кристаллы и
падения напряжения в объеме кристаллов I XR , от кото |
|
рого зависит наклон Ъх зависимости In В от F~°>5, |
могут |
быть получены различными способами: изменением |
тем |
пературы (§ 30), интенсивности облучения и размера
кристаллов d (§ 29). |
При этом кривые Ъх (Т), |
Ъх (Ф) и |
bx (d) имеют одну и ту же форму [1881. |
желтым |
|
Для люминофоров |
с синим (ЭЛ-460) и |
(ЭЛ-580) свечением ДБэл также подчиняется эмпирической зависимости от напряжения, характерной для ЭЛ по рошков, имеющих обычное распределение зерен по раз мерам. То же наблюдалось для порошков (Zn, Cd) S — Mn, возбуждаемых рентгеновскими лучами [199] и для моно кристаллов сульфида цинка, облучаемых у-радиацией [200]. Можно, следовательно, сделать заключение, что добавочное свечение Д7?эл действительно связано с доба вочной ЭЛ, обусловленной новыми носителями, создан ными светом или другим способом и попавшими в об ласти сильного поля в кристаллах. В пользу этого выво да говорит также сходство зависимостей Айэл и Вэл от
10* 251
частоты [193] и параллельное изменение обеих величин при старении образцов. Если ФЛ данного образца рас полагается в одной спектральной области, а ЭЛ — в дру гой, то спектр Дбэл близок к спектру именно ЭЛ [194].
Схема процессов, включающая ударную ионизацию в поверхностных барьерах и оказавшаяся ранее пригод ной для расчетов различных характеристик средней
Рис. 33.5. Опытные зависимости |
Рис. 33.6. Теоретические зависимо |
|||||
добавочного свечения ДВ от интен |
сти |
ДВфд от интенсивности |
света |
|||
сивности освещения Ф при различ |
Ф. |
Параметр |
ЦВ пропорционален |
|||
ных напряжениях. Частота 500 гц. |
||||||
В условиях опытов Д В ф д <§ ДВдд |
Уф . |
Расчет |
проводился |
при |
а = |
|
и ДВ ж ДВдд, Люминофор с зеле |
= 2,7, |
Ь = |
10 в и Г,В = |
0,6 |
в при |
|
ным свечением (ЭЛ-510). |
Ф = 0 и комнатной температуре. |
яркости ЭЛ (§§12, 28), может быть применена и для вычис ления характеристик Д2?эл [188, 190]. Е1а рис. 33.5 и 33.6 приводятся в качестве примера измеренные и вы численные зависимости A.Bqд от интенсивности освещения Ф. Оба семейства кривых имеют сходную форму, одина ково меняющуюся с напряжением. При малых Ф ДБэл растет линейно с Ф, что связано с увеличением числа ус коряемых электронов при неизменном еще V0. С увели чением Ф падение напряжения в объеме кристаллов рас тет, F 0 снижается и ДБэл начинает уменьшаться, не смотря на рост /ф. При больших Ф добавочное свечение изменяет знак, хотя оно по-прежнему имеет то же про исхождение, что и ЭЛ. Это связано с тем, что V0 в этих условиях настолько снижено, что общее число иониза
252
ций при освещении оказывается меньшим, чем в темноте, когда / т мал, но V0 велико.
Рис. 33.7 поясняет, каким образом были получены теоретические зависимости Д.Вэл (Ф), приведенные на рис. 33.6. Кривые на рис. 33.7 представляют собой рас
считанные зависимости яркости ЭЛ от параметра |
I XR |
|||
(1Х — ток через кристалл при |
V0 = 1 в, когда нет умно |
|||
жения, |
а 7? — сопротивление |
толщи |
кристалла) и |
отно |
сящиеся |
к случаю 1Х (/i-R)2 (§ 12, |
п. в). Как |
уже |
Рис. 33.7. К вычислению зависимости ABgjj (Ф). Расчетные кривые относят
ся к нескольким напряжениям на одном кристалле и получены при значении параметра Ь = 40 в.
отмечалось, для кристаллов с малой концентрацией темновых носителей можно принять, что Я ~ Ф_1/! (вероят ность рекомбинации фотоносителей увеличивается с рос том их концентрации), обратный ток барьеров при осве щении 1Х~ Ф, поэтому I XR ~ Ф1'*, a I x ~ (I XR )2, т. е. условия, принятые при вычислении кривых на рис. 33.7, соответствуют условиям, существующим в кристаллах при освещении.
Если при комнатной температуре большинство зерен люминофора характеризуется величиной I XR = 1 в (§ 29), то вертикальная линия АС на рис. 33.7 соответствует состоянию люминофора в темноте. Для верхней кривой
{V = 20 в на одном |
зерне) |
яркость |
в темноте отвечает |
||
точке D. Дальнейшее увеличение яркости может быть |
|||||
достигнуто освещением, т. е. |
увеличением I XR. |
При этом |
|||
добавочную яркость |
Д2?эл |
можно |
получить |
отсчетом |
|
ее от горизонтальной линии DF. Как следует из рис. 33.7, |
|||||
величина А5эл |
может быть и отрицательной, |
если осве |
|||
щение велико |
(для |
верхней |
кривой |
переход |
к отрица |
253
тельному Д.Вэл наступает при I XR )> 4 в). Таким же образом можно получить ДВэл и для других напряжений на кристаллах. При данном I XR, т. е. определенной ин
тенсивности освещения, изменением только V |
можно |
|||
получить переход от отрицательного ДВэл |
к |
положи |
||
тельному (например, повышая V от 13 до 20 в при |
/ гВ = |
|||
= 3 в). |
Подобные свойства добавочного |
свечения |
неодно |
|
кратно |
наблюдались на опыте. Так как |
I XR |
~ |
У Ф, то |
для удобства сравнения с теоретическими зависимостя
ми ДВэл (iiR) |
опытные данные |
на |
рис. 33.5 приведены |
|
в зависимости |
от |/ ф . Толщина |
слоя люминофора |
(на |
|
ходившегося в |
вакууме) составляла |
примерно 60 |
мкм, |
а средний размер зерен — 6 мкм, поэтому напряжению на одном зерне на расчетном графике рис. 33.6 соответ ствует удесятеренное значение напряжения на рис. 33.5. Опытные кривые ДR (Ф), сходные по общему виду с кри выми на рис. 33.5, были получены Патеком для других образцов из наблюдений волн яркости фотоэлектролюми несценции [176].
Таким образом, основные свойства добавочного свечения в типичных электролюминесцирующих образцах сульфида цинка могут быть поняты на основе той же схемы явлений, которая описывает свойства самой ЭЛ. Возможно, что в других образцах могут осуществляться иные механиз мы усиления свечения. В неэлектролюминесцирующих кри сталлах, например, усиление ФЛ в присутствии поля может быть связано со сдвигом рекомбинационного равновесия в сторону увеличения вероятности излучательных переходов. Подобная возможность рассматривалась Мейтосси [201], предполагавшим, что помимо заполнения электронами под действием поля свободных центров свечения возмож ны и другие способы увеличения числа безызлучательных рекомбинаций (например, отвод носителей в область, где вероятность таких переходов велика) или их уменьшения (освобождение полем уровней, с которых происходят переходы без излучения). Даже при отсутствии допол нительных переходов, связанных с действием поля, перио дические изменения концентрации электронов в разных областях кристалла (переменное напряжение) могут изменить соотношение между излучательными и безыз лучательными переходами, если они по-разному за висят от концентрации носителей. Все эти вопросы под робно рассмотрены в книге Айви [123].
254
Присутствие на поверхности кристалла изгиба энер гетических зон само по себе может влиять на величину стационарной фотолюминесценции приповерхностного слоя, так как поле изменяет степень заполнения локаль ных уровней и ту долю рекомбинаций в области объемного заряда, которая происходит с излучением.
Величина и знак изгиба зон (высота барьера еф) могут изменяться как при адсорбции молекул, обладающих различными свойствами, так и при заряжении конденса тора, одной из пластин которого является люминофор. Последний вариант соответствует условиям наблюдения «эффекта поля» [203, 204]. При увеличении постоянного напряжения, приложенного к системе металл—диэлектрик- полупроводник, свечение приповерхностного слоя послед него может вследствие изменения еф как увеличиваться, так и уменьшаться (люминесцентный эффект поля [205— 207]). Изменения фотолюминесценции при этом особенно велики в том случае, когда неравновесные носители тока или экситоны создаются преимущественно в тонком слое у поверхности кристалла (используется свет из области поглощения основного вещества).
Рекомбинация носителей через поверхностные уровни имеет наибольшую скорость при определенных значе ниях еф, зависящих от коэффициентов захвата электро нов и дырок центрами рекомбинации [208, 209]. Если
поверхностная рекомбинация |
сопровождается |
излуче |
|
нием (как в случае красной |
полосы |
сульфида |
кадмия), |
то по мере изменения напряжения и |
еф интенсивность |
соответствующей спектральной полосы проходит через максимум [207]. В большинстве же случаев рекомбинация у поверхности является безызлучательной и увеличение ее скорости путем специальной обработки поверхности приводит к уменьшению яркости фотолюминесценции, как
это наблюдалось на |
образцах арсенида |
галлия [207]. |
|
г) |
О спектрах |
люминесценции при |
различных спосо |
бах возбуждения. Спектры излучения кристаллов с дву мя и более типами центров свечения сильно зависят от вида и условий возбуждения. Характерным в этом отно шении является люминофор ZnS — Си с синей и зеленой полосами в спектре свечения. Если при ФЛ, возбуждае мой светом относительно малой интенсивности, основное излучение происходит в зеленой полосе, то при ЭЛ пре обладает синяя полоса и тем в большей степени, чем выше частота изменения напряжения (рис. 33.8) [44, 162, 210,
255