Файл: Шляпоберский В.И. Основы техники передачи дискретных сообщений.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 182

Скачиваний: 2

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

а)

 

 

 

(Si0 2 )

толщиной

в

1

мкм

 

 

 

(рис.

2.26а).

 

После

этого

на

 

 

 

 

поверхности пластины

наращи­

 

 

 

 

вается

эпитаксиальный

слой

 

 

 

 

кремния п-тппа, который будет

6)

 

 

 

выполнять

роль

коллекторного

 

 

 

слоя

для

всех

транзисторов.

 

 

 

 

 

 

 

 

Для этого

кремниевую пласти­

 

 

 

 

ну, с

«которой

предварительно

 

 

 

 

удаляют защитный

слой

Si0 2 ,

 

 

 

 

помещают в печь с темпе­

 

 

 

 

ратурой 1200°С. Вдоль

поверх­

 

 

 

 

ности

пластины

направляют

 

 

 

 

пары,

содержащие Н 2 и SiCl 4 .

 

 

 

 

В результате

химической

реак­

 

 

 

 

ции (SiCl 4

+ H 2

* t H C l + Si) .

на

 

 

 

 

поверхность пластины

осажда­

 

 

 

 

ется

чистый

 

кремний. Если в

 

 

 

 

пары Н 2 и SiCU

вводить

при­

 

 

 

 

меси, то можно

 

получить слой

 

 

 

 

кремния,

в

котором

примеси

 

 

 

 

распределены

равномерно 1 ) .

 

 

 

 

 

После

нанесения эпитакси-

 

 

 

 

алыюго слоя

с

проводимостью

 

 

 

 

«-типа пластина вновь подвер­

 

 

 

 

гается

процессу

окисления

в

 

 

 

 

специальной

печи,

в результа­

 

 

 

 

те чего на поверхности

образу­

 

 

 

 

ется

тонкий

 

защитный

слон

 

 

 

 

S i 0 2 (рис.

2.266).

 

 

 

 

Рас.

2.26.

Последователь­

Различные

 

 

компоненты

твердых интегральных схем об­

ность

технологических

опе­

раций

при изготовлении

ин­

разуются

посредством

пооче­

тегральных

твердых схем

редной дифкруз'ии примесей р- и

 

 

 

 

«-типов в эпитаксиальный слой.

 

 

 

 

Для формирования

транзисто-

ров

используются

три

слоя

структуры п-р-п (или

р-п-р),

для диодов

— два слоя

или

соответствующим

образом включенный транзистор. Перед диффузией каждого вида примеси вытравливают часть поверхности защитного слоя (окно) S i 0 2 фотолитографическими ме-

') Такой процесс образования слоев с проводимостью опреде­ ленного типа называется эпитаксией.

72


тодами. Для этого слой S i 0 2 покрывается равномерно слоем материала, называемого фоторезистом, поверх ко­ торого накладывается стеклянная контактная .маска (фо­ тошаблон) определенной конфигурации. В процессе экс­ позиции и облучения ультрафиолетовым лучом происхо­ дит полимеризация слоя фоторезиста. Под действием проявителя фоторезист удаляется только с неэкспониро­

ванных

участков.

В

результате вытравливания

пла­

виковой

кислотой

непокрытых фоторезистом

участков

слоя S i 0 2 обнажаются

определенные участки

кремниевой

пластины.

 

 

 

 

Последней операцией но подготовке пластины

для

проведения диффузии является удаление фоторезиста органическим растворителем. После введения (диффу­ зии) примесей определенного вида, например акцептор­

ных, вся поверхность пластины

снова окисляется,

т. е.

покрывается

тонким слоем

S i 0 2

(рис. 2.26в).

 

 

Так

как

эпитаксиальный слой

«-типа образует

кол­

лекторы

транзисторов, то

первая

диффузия примесей

/>типа образует базы транзисторов1 ).

 

 

Аналогичным способом

осуществляется

следующий

цикл избирательной диффузии, при котором

формируют­

ся эмиттеры транзисторов. Применяемая в этом случае маска имеет меньшие окна (рис. 2.26г). Рассматривае­ мая технология, при которой формированию каждого элемента схемы предшествует вскрытие защитного слоя

SiC>2, называется

планарной.

При изготовлении резисторов обычно используют или

один слой кремния,

по которому ток протекает вдоль

границы р-я-перехода, или наносимые поверх блоя дву­ окиси кремния пленки из резистивного материала. После окончания всех процессов диффузии на поверхности пла­

стины остается защитный слой

двуокиси кремния. Кон­

тактные площадки образуются

вытравливанием окон с

помощью специальной маски.

После этого поверхность

пластины покрывается алюминиевой пленкой, которая в

вытравленных

местах электрически соединяется с крем­

нием,

образуя контактные площадки. Затем фотолито-

')

Обычно

на одной кремниевой пластине размещается не­

сколько сотен интегральных схем. Для формирования одной инте­ гральной схемы используется примерно 1 мвдг площади креммиевой пластины.

73


графическим методом алюминий удаляется со всех участ­ ков, где он <не'нужен (рис. 2.265) ' ) .

Для соединения схемы на пластине с выходными кон­ тактами элемента к контактным площадкам пластины привариваются тонкие золотые проводочки.

По своим электрическим параметрам (быстродейст­ вию, надежности, потреблению электроэнергии), а также по габаритам и стоимости системы интегральных элемен­ тов превосходят системы элементов на дискретных ком­ понентах и микромодули. Это обусловлено их малыми габаритами, короткими выводами, значительно меньшим числом паек и более широкими возможностями автома­ тизации процесса производства.

Если сравнивать гибридные и монолитные интеграль­ ные схемы, то при мелкосерийном производстве первые получаются дешевле, поскольку не требуют изготовления дорогостоящих масок. Однако при крупносерийном про­ изводстве они становятся менее выгодными из-за того, что в технологический процесс входит ручная сборка. По плотности упаковки, т. е. по числу интегрируемых эле­ ментов на единицу площади, и по надежности преиму­ щество на стороне твердых интегральных схем. Таким образом, из всех систем как логических, так и линейных элементов наиболее перспективными являются твердые интегральные схемы. Однако увеличение выпуска твер­ дых интегральных схем и снижение их стоимости тесным образом связаны с решением задачи увеличения процен­ та выхода годных структур с одной кремниевой плас­ тины.

Так как рассмотренные выше операции по изготовле­ нию интегральных схем аналогичны технологическим операциям, используемым для изготовления кремниевых транзисторов, а достигнутый к настоящему времени про­

цент выхода годных транзисторов

весьма высок (до

4 0 % ) , то при одинаковых размерах

полупроводниковой

пластинки процент выхода годных интегральных схем и их надежность будут такими же, как и для транзисторов [3]. (Доведение надежности твердых интегральных схем, содержащих 20—40 компонентов, до надежности тран­ зистора при прочих равных условиях более чем на поря­ док повышает надежность аппаратуры.)

') В целях упрощения описания процесса изготовления твердых интегральных схем была опущена операция травления, с помощью которой достигается изоляция различных компонентов друг от друга.

74


§ 2.6. К Л А С С И Ф И К А Ц И Я ,

ОСНОВНЫЕ

 

 

Х А Р А К Т Е Р И С Т И К И И Т И П Ы

 

 

 

 

И Н Т Е Г Р А Л Ь Н Ы Х

Т В Е Р Д Ы Х

СХЕМ

 

 

Наибольшее распространение

получили интегральные

твердые схемы четырех

типов:

транзисторные

логичес­

кие схемы с

'непооредственнымСВЯЗЯМИ ( Т Л Н С ) , диод-

но-транзисторные логические схемы

( Д Т Л ) ,

транзистор­

но-транзисторные логические схемы

(ТТЛ) и транзистор­

ные логические схемы на переключателях тока

(ТЛПТ) 1 ) .

Область и условия

применения

интегральной

твердой

схемы

определяются

двумя группами

параметров неза­

висимо от логической структуры построения схемы.

К

первой

группе

U^i

________

 

 

отиосятся

парамет­

 

 

 

 

 

 

 

ры,

определяющие

 

 

 

 

 

 

 

структуру

 

построе­

о

 

 

 

 

 

ния

разрабатывае­

 

 

 

 

 

 

 

мого

на ИС

устрой­

 

 

 

 

 

 

 

ства. Это — быстро­

 

 

 

 

 

 

 

действие,

помехоус­

 

 

 

 

 

 

 

тойчивость,

 

коэф­

 

 

 

 

 

 

 

фициенты

объедине­

 

 

 

 

 

 

 

ния по входу и выхо­

 

 

 

 

 

 

 

ду, количество номи­

 

 

 

 

 

 

 

нальных величии пи­

Рис.

2.27. Временные

характеристики

тающих

напряже­

интегральных

схем

 

'

 

ний, предельно допу-

номинальных

значений

питающих

стимые отклонения

напряжений. Ко второй группе относятся параметры, оп­ ределяющие эксплуатационные характеристики устрой­ ства. Это — надежность, потребляемая мощность, объем, масса, устойчивость к механическим и климатическим воздействиям и, наконец, стоимость.

Рассмотрим основные из перечисленных параметров. Быстродействие характеризует динамические свойств ва логической схемы и оценивается временем задержки

и временем нарастания (спада) выходного сигнала. Для определения временных характеристик интегральных твердых схем рассмотрим выходной сигнал (рис. 2.27), который одновременно является входным сигналом по­ следующей схемы. Примем следующие условные обозна-

') Т Л П Т применяются только Б интегральном исполнении.

75


чения: £/м

верхний

максимальный уровень

входного

(выходного) сигнала; UD — верхний минимальный уро­

вень входного

(выходного)

сигнала (состояние

1);

Un

нижний максимальный

уровень

входного

(выходного)

сигнала ('состоящие '0); Uc—минимальное

 

значение (раз­

маха

логического сигнала;

— время

задержки

выход­

ного

сигнала

при переходе

схемы

из

состояния

1 в

со­

стояние 0;

— время задержки выходного сигнала при

переходе схемы из состояния 0 в состояние

1; tl°

— дли­

тельность фронта выходного сигнала, формируемая при переходе схемы из состояния 1 в состояние 0; — дли ­ тельность фронта выходного сигнала, формируемая при

переходе схемы

из состояния

0 в состояние 1.

Как видно

из рис. 2.27,

определяется временем

между моментом достижения входным сигналом уровня

0,5 UM

и моментом

спада выходного

сигнала

также

до

0,5 Uu.

Точно также

определяется

задержка

. Часто

для характеристики

быстродействия

интегральных твер­

дых схем пользуются понятием

среднего

времени

за­

держки

^ З С р = (/310

+ / з 1 ) ' ' 2 - П

Р И

определении

времени

за­

держки

в реальных

схемах

(узлах)

необходимо учиты­

вать влияние емкости на входе

и емкости

нагрузки

на

работу базовых элементов.

 

 

 

 

 

 

 

Длительности

фронтов

выходного

сигнала

и /ф

определяются временем изменения выходного сигнала от UB до Un или от Un до UB соответственно.

Современные интегральные твердые схемы рассчиты­ ваются таким образом, чтобы при каскадном включении параметры выходного импульса практически не зависели от числа последовательно включенных схем и от пара­ метров входного сигнала, т. е. чтобы обеспечивалась ре­ генерация входного сигнала логической схемой. В зави­ симости от быстродействия интегральные твердые схемы делятся на низкоакоростные i(/3 cp^50 не), среднеакоро-

стные (50

н с ^ / З С р ^ 1 5

не), высокоскоростные ;(15 н с ^

^ 4 с р ^ 5

не) и сверхскоростные (^ср=£^5 не).

Помехоустойчивость

оценивается наибольшим допус­

тимым напряжением, наводимым на входе схемы вслед­ ствие емкостных и индуктивных связей, а также по це­ пям питания и земле, гарантирующим нормальную ра­ боту схемы. Однако сравнивать различные схемы по аб­ солютному значению помехоустойчивости, выраженному

76