Файл: Шляпоберский В.И. Основы техники передачи дискретных сообщений.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 10.04.2024
Просмотров: 182
Скачиваний: 2
а) |
|
|
|
(Si0 2 ) |
толщиной |
в |
1 |
мкм |
||||||
|
|
|
(рис. |
2.26а). |
|
После |
этого |
на |
||||||
|
|
|
|
поверхности пластины |
наращи |
|||||||||
|
|
|
|
вается |
эпитаксиальный |
слой |
||||||||
|
|
|
|
кремния п-тппа, который будет |
||||||||||
6) |
|
|
|
выполнять |
роль |
коллекторного |
||||||||
|
|
|
слоя |
для |
всех |
транзисторов. |
||||||||
|
|
|
|
|||||||||||
|
|
|
|
Для этого |
кремниевую пласти |
|||||||||
|
|
|
|
ну, с |
«которой |
предварительно |
||||||||
|
|
|
|
удаляют защитный |
слой |
Si0 2 , |
||||||||
|
|
|
|
помещают в печь с темпе |
||||||||||
|
|
|
|
ратурой 1200°С. Вдоль |
поверх |
|||||||||
|
|
|
|
ности |
пластины |
направляют |
||||||||
|
|
|
|
пары, |
содержащие Н 2 и SiCl 4 . |
|||||||||
|
|
|
|
В результате |
химической |
реак |
||||||||
|
|
|
|
ции (SiCl 4 |
+ H 2 |
* t H C l + Si) . |
на |
|||||||
|
|
|
|
поверхность пластины |
осажда |
|||||||||
|
|
|
|
ется |
чистый |
|
кремний. Если в |
|||||||
|
|
|
|
пары Н 2 и SiCU |
вводить |
при |
||||||||
|
|
|
|
меси, то можно |
|
получить слой |
||||||||
|
|
|
|
кремния, |
в |
котором |
примеси |
|||||||
|
|
|
|
распределены |
равномерно 1 ) . |
|
||||||||
|
|
|
|
После |
нанесения эпитакси- |
|||||||||
|
|
|
|
алыюго слоя |
с |
проводимостью |
||||||||
|
|
|
|
«-типа пластина вновь подвер |
||||||||||
|
|
|
|
гается |
процессу |
окисления |
в |
|||||||
|
|
|
|
специальной |
печи, |
в результа |
||||||||
|
|
|
|
те чего на поверхности |
образу |
|||||||||
|
|
|
|
ется |
тонкий |
|
защитный |
слон |
||||||
|
|
|
|
S i 0 2 (рис. |
2.266). |
|
|
|
|
|||||
Рас. |
2.26. |
Последователь |
Различные |
|
|
компоненты |
||||||||
твердых интегральных схем об |
||||||||||||||
ность |
технологических |
опе |
||||||||||||
раций |
при изготовлении |
ин |
разуются |
посредством |
пооче |
|||||||||
тегральных |
твердых схем |
редной дифкруз'ии примесей р- и |
||||||||||||
|
|
|
|
«-типов в эпитаксиальный слой. |
||||||||||
|
|
|
|
Для формирования |
транзисто- |
|||||||||
ров |
используются |
три |
слоя |
структуры п-р-п (или |
||||||||||
р-п-р), |
для диодов |
— два слоя |
или |
соответствующим |
образом включенный транзистор. Перед диффузией каждого вида примеси вытравливают часть поверхности защитного слоя (окно) S i 0 2 фотолитографическими ме-
') Такой процесс образования слоев с проводимостью опреде ленного типа называется эпитаксией.
72
тодами. Для этого слой S i 0 2 покрывается равномерно слоем материала, называемого фоторезистом, поверх ко торого накладывается стеклянная контактная .маска (фо тошаблон) определенной конфигурации. В процессе экс позиции и облучения ультрафиолетовым лучом происхо дит полимеризация слоя фоторезиста. Под действием проявителя фоторезист удаляется только с неэкспониро
ванных |
участков. |
В |
результате вытравливания |
пла |
|
виковой |
кислотой |
непокрытых фоторезистом |
участков |
||
слоя S i 0 2 обнажаются |
определенные участки |
кремниевой |
|||
пластины. |
|
|
|
|
|
Последней операцией но подготовке пластины |
для |
проведения диффузии является удаление фоторезиста органическим растворителем. После введения (диффу зии) примесей определенного вида, например акцептор
ных, вся поверхность пластины |
снова окисляется, |
т. е. |
|||||
покрывается |
тонким слоем |
S i 0 2 |
(рис. 2.26в). |
|
|
||
Так |
как |
эпитаксиальный слой |
«-типа образует |
кол |
|||
лекторы |
транзисторов, то |
первая |
диффузия примесей |
||||
/>типа образует базы транзисторов1 ). |
|
|
|||||
Аналогичным способом |
осуществляется |
следующий |
|||||
цикл избирательной диффузии, при котором |
формируют |
ся эмиттеры транзисторов. Применяемая в этом случае маска имеет меньшие окна (рис. 2.26г). Рассматривае мая технология, при которой формированию каждого элемента схемы предшествует вскрытие защитного слоя
SiC>2, называется |
планарной. |
При изготовлении резисторов обычно используют или |
|
один слой кремния, |
по которому ток протекает вдоль |
границы р-я-перехода, или наносимые поверх блоя дву окиси кремния пленки из резистивного материала. После окончания всех процессов диффузии на поверхности пла
стины остается защитный слой |
двуокиси кремния. Кон |
тактные площадки образуются |
вытравливанием окон с |
помощью специальной маски. |
После этого поверхность |
пластины покрывается алюминиевой пленкой, которая в
вытравленных |
местах электрически соединяется с крем |
|
нием, |
образуя контактные площадки. Затем фотолито- |
|
') |
Обычно |
на одной кремниевой пластине размещается не |
сколько сотен интегральных схем. Для формирования одной инте гральной схемы используется примерно 1 мвдг площади креммиевой пластины.
73
графическим методом алюминий удаляется со всех участ ков, где он <не'нужен (рис. 2.265) ' ) .
Для соединения схемы на пластине с выходными кон тактами элемента к контактным площадкам пластины привариваются тонкие золотые проводочки.
По своим электрическим параметрам (быстродейст вию, надежности, потреблению электроэнергии), а также по габаритам и стоимости системы интегральных элемен тов превосходят системы элементов на дискретных ком понентах и микромодули. Это обусловлено их малыми габаритами, короткими выводами, значительно меньшим числом паек и более широкими возможностями автома тизации процесса производства.
Если сравнивать гибридные и монолитные интеграль ные схемы, то при мелкосерийном производстве первые получаются дешевле, поскольку не требуют изготовления дорогостоящих масок. Однако при крупносерийном про изводстве они становятся менее выгодными из-за того, что в технологический процесс входит ручная сборка. По плотности упаковки, т. е. по числу интегрируемых эле ментов на единицу площади, и по надежности преиму щество на стороне твердых интегральных схем. Таким образом, из всех систем как логических, так и линейных элементов наиболее перспективными являются твердые интегральные схемы. Однако увеличение выпуска твер дых интегральных схем и снижение их стоимости тесным образом связаны с решением задачи увеличения процен та выхода годных структур с одной кремниевой плас тины.
Так как рассмотренные выше операции по изготовле нию интегральных схем аналогичны технологическим операциям, используемым для изготовления кремниевых транзисторов, а достигнутый к настоящему времени про
цент выхода годных транзисторов |
весьма высок (до |
4 0 % ) , то при одинаковых размерах |
полупроводниковой |
пластинки процент выхода годных интегральных схем и их надежность будут такими же, как и для транзисторов [3]. (Доведение надежности твердых интегральных схем, содержащих 20—40 компонентов, до надежности тран зистора при прочих равных условиях более чем на поря док повышает надежность аппаратуры.)
') В целях упрощения описания процесса изготовления твердых интегральных схем была опущена операция травления, с помощью которой достигается изоляция различных компонентов друг от друга.
74
§ 2.6. К Л А С С И Ф И К А Ц И Я , |
ОСНОВНЫЕ |
|
||||||||
|
Х А Р А К Т Е Р И С Т И К И И Т И П Ы |
|
|
|
||||||
|
И Н Т Е Г Р А Л Ь Н Ы Х |
Т В Е Р Д Ы Х |
СХЕМ |
|
|
|||||
Наибольшее распространение |
получили интегральные |
|||||||||
твердые схемы четырех |
типов: |
транзисторные |
логичес |
|||||||
кие схемы с |
'непооредственным'И СВЯЗЯМИ ( Т Л Н С ) , диод- |
|||||||||
но-транзисторные логические схемы |
( Д Т Л ) , |
транзистор |
||||||||
но-транзисторные логические схемы |
(ТТЛ) и транзистор |
|||||||||
ные логические схемы на переключателях тока |
(ТЛПТ) 1 ) . |
|||||||||
Область и условия |
применения |
интегральной |
твердой |
|||||||
схемы |
определяются |
двумя группами |
параметров неза |
|||||||
висимо от логической структуры построения схемы. |
||||||||||
К |
первой |
группе |
U^i |
________ |
|
|
||||
отиосятся |
парамет |
|
|
|
|
|
|
|
||
ры, |
определяющие |
|
|
|
|
|
|
|
||
структуру |
|
построе |
о |
|
|
|
|
|
||
ния |
разрабатывае |
|
|
|
|
|
|
|
||
мого |
на ИС |
устрой |
|
|
|
|
|
|
|
|
ства. Это — быстро |
|
|
|
|
|
|
|
|||
действие, |
помехоус |
|
|
|
|
|
|
|
||
тойчивость, |
|
коэф |
|
|
|
|
|
|
|
|
фициенты |
объедине |
|
|
|
|
|
|
|
||
ния по входу и выхо |
|
|
|
|
|
|
|
|||
ду, количество номи |
|
|
|
|
|
|
|
|||
нальных величии пи |
Рис. |
2.27. Временные |
характеристики |
|||||||
тающих |
напряже |
интегральных |
схем |
|
' |
|
||||
ний, предельно допу- |
номинальных |
значений |
питающих |
|||||||
стимые отклонения |
напряжений. Ко второй группе относятся параметры, оп ределяющие эксплуатационные характеристики устрой ства. Это — надежность, потребляемая мощность, объем, масса, устойчивость к механическим и климатическим воздействиям и, наконец, стоимость.
Рассмотрим основные из перечисленных параметров. Быстродействие характеризует динамические свойств ва логической схемы и оценивается временем задержки
и временем нарастания (спада) выходного сигнала. Для определения временных характеристик интегральных твердых схем рассмотрим выходной сигнал (рис. 2.27), который одновременно является входным сигналом по следующей схемы. Примем следующие условные обозна-
') Т Л П Т применяются только Б интегральном исполнении.
75
чения: £/м — |
верхний |
максимальный уровень |
входного |
|||||||
(выходного) сигнала; UD — верхний минимальный уро |
||||||||||
вень входного |
(выходного) |
сигнала (состояние |
1); |
Un |
— |
|||||
нижний максимальный |
уровень |
входного |
(выходного) |
|||||||
сигнала ('состоящие '0); Uc—минимальное |
|
значение (раз |
||||||||
маха |
логического сигнала; |
— время |
задержки |
выход |
||||||
ного |
сигнала |
при переходе |
схемы |
из |
состояния |
1 в |
со |
|||
стояние 0; |
— время задержки выходного сигнала при |
|||||||||
переходе схемы из состояния 0 в состояние |
1; tl° |
— дли |
тельность фронта выходного сигнала, формируемая при переходе схемы из состояния 1 в состояние 0; — дли тельность фронта выходного сигнала, формируемая при
переходе схемы |
из состояния |
0 в состояние 1. |
Как видно |
из рис. 2.27, |
определяется временем |
между моментом достижения входным сигналом уровня
0,5 UM |
и моментом |
спада выходного |
сигнала |
также |
до |
|||||
0,5 Uu. |
Точно также |
определяется |
задержка |
. Часто |
||||||
для характеристики |
быстродействия |
интегральных твер |
||||||||
дых схем пользуются понятием |
среднего |
времени |
за |
|||||||
держки |
^ З С р = (/310 |
+ / з 1 ) ' ' 2 - П |
Р И |
определении |
времени |
за |
||||
держки |
в реальных |
схемах |
(узлах) |
необходимо учиты |
||||||
вать влияние емкости на входе |
и емкости |
нагрузки |
на |
|||||||
работу базовых элементов. |
|
|
|
|
|
|
|
|||
Длительности |
фронтов |
выходного |
сигнала |
и /ф |
определяются временем изменения выходного сигнала от UB до Un или от Un до UB соответственно.
Современные интегральные твердые схемы рассчиты ваются таким образом, чтобы при каскадном включении параметры выходного импульса практически не зависели от числа последовательно включенных схем и от пара метров входного сигнала, т. е. чтобы обеспечивалась ре генерация входного сигнала логической схемой. В зави симости от быстродействия интегральные твердые схемы делятся на низкоакоростные i(/3 cp^50 не), среднеакоро-
стные (50 |
н с ^ / З С р ^ 1 5 |
не), высокоскоростные ;(15 н с ^ |
^ 4 с р ^ 5 |
не) и сверхскоростные (^ср=£^5 не). |
|
Помехоустойчивость |
оценивается наибольшим допус |
тимым напряжением, наводимым на входе схемы вслед ствие емкостных и индуктивных связей, а также по це пям питания и земле, гарантирующим нормальную ра боту схемы. Однако сравнивать различные схемы по аб солютному значению помехоустойчивости, выраженному
76