Файл: Соммер А. Фото-эмиссионные материалы.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 18.06.2024

Просмотров: 115

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

6-і. СРАВНЕНИЕ СВОЙСТВ АНТИМОНИДОВ ЩЕЛОЧНЫХ

МЕТАЛЛОВ

Для облегчения сравнения рассмотренных фотокато­ дов наиболее важные свойства этих материалов приве­ дены в табл. 4. При использовании этой таблицы сле­ дует иметь в виду следующее:

1. Данные, приведенные в таблице, относятся к полу­ прозрачным фотокатодам, освещенным со стороны под­ ложки.

2. Все гексагональные соединения сурьмы кристалли­

зуются

в Na3 As структуре,

а

кубические соединения —

в D 0 3

структуре. Структура

Li3 Sb в виде тонких пленок

не исследовалась.

 

 

 

Т а б л и ц а

4

Фотокатод

Li3 Sb

Na3 Sb

K3 Sb

K3 Sb

Rb,Sb

Cs3Sb

Cs3Sb на MnO Na2 KSb (Cs)Na2KSb

K2CsSb

K2 CsSb(0)

Фотокатод

Li3 Sb

Na3 Sb

K,Sb

K3 Sb

Rb3 Sb

Cs3Sb

Cs3Sb на MnO

Na2 KSb

(Cs) Nas KSb

K2CsSb

K»CsSb(0)

Кристаллическая

Максимум

Хо, А, 1 %

Чувстви­

 

структура

квантового

от макси­

тельность,

 

 

выхода

мума

мка/лм

Гексагональная

 

 

 

To

же

0,02

3 300

Кубическая

>0,0 7

5 500

12

Гексагональная

0,07

4 600

2

Кубическая

0,10

5 800

25

То

же

0,15

5 800

25

И

V

0,20

6 500

80

V

Ш

0,30

6 000

60

Я

»

0,30

8 700

300

 

 

0,30

6 600

100

и

я

0,35

7 800

130

 

Продолженис

табл. 4

 

 

 

 

 

 

Термоэлект­

 

Ea

Порог ге­

Tim прово­

ронная эмиссия

 

нерации

при комнатной

 

димости

 

 

пар, эв

 

температуре, :

 

 

 

 

аісм'

1,0

-v-2,44

n

1,1

11

1,4

0,9

—.

P

1,1

~ 1 , 6

< 3 , 7

11

1,0

1,2

3,0

P

1,6

0,45

2,0

P

< і о - 1 6

1,6

<0,4 5

P

< 1 0 - 1 5

1,0

1,0

3,0

P

< ю - 1 6

1,0

0,55

3,0

P

< 1 0 - 1 6

1,0

' 1,1

P

< ю - "

1,0

< 1 , 1

P

> ю - 1 0


3.Квантовый выход фотокатодов каждого типа ме­ няется от образца к образцу примерно в 2 раза. Значе­ ния квантового выхода, приведенные в таблице, относят­ ся к лучшим образцам.

4.Квантовый выход фотоэмиссии вблизи длинновол­ новой границы меняется от образца к образцу значи­ тельно сильнее, чем в области высокой чувствительности. Поэтому величины Ко следует рассматривать лишь как наиболее вероятные значения длинноволнового порога фотоэмиссии. Величина «1 % от максимума» выбрана со­ вершенно произвольно. Как уже отмечалось, абсолютное значение порога фотоэмиссии установить трудно, по­

скольку спектральная характеристика

приближается

к оси абсцисс асимптотически. Однако для

большинства

практических применений выбранный предел ( 1 % от максимума) представляется полезным.

5.Интегральная чувствительность фотокатодов (вы­ раженная в мка/лм), так же как и квантовый выход, ме­ няется от образца к образцу примерно в 2 раза. В таб­ лице приведены значения для лучших образцов.

6.Ширина запрещенной зоны Eg определялась из из­

мерений

фотопроводимости и оптического

поглощения.

7. Все значения электронного сродства получены вы­

читанием

Eg из е~\-Еа)—энергии,

соответствующей

порогу фотоэмиссии. Поскольку прямые

измерения Еа

невозможны, приведенные значения следует рассматри­

вать как приблизительные не

только

вследствие

неоп­

ределенности величины (Eg-\-Ea),

но

также из-за

того,

что эффект изгиба зон вблизи поверхности при этом иг­ норируется. Другими словами, величина Еа реально представляет «эффективное» электронное сродство.

8. Значения порога генерации пар были получены Спайсером [Л. 105] из измерений распределения элек­ тронов по скоростям.

Г л а в а с е д ь м а я СЕРЕБРЯНО-КИСЛОРОДНО-ЦЕЗИЕВЫЙ Ф О Т О К А Т О Д

7-1. ВВЕДЕНИЕ

Среди фотоэмиссионных материалов, обладающих чувствительностью в видимой области спектра, серебря- но-кислородно-цезиевый фотокатод занимает особое по­ ложение. Этот катод был первым и в течение нескольких


лет единственным фотокатодом, пригодным для прак­ тического применения. До настоящего времени это единственный фотокатод, обладающий заметном чувст­

вительностью в

ближней

инфракрасной области спект­

ра 1 . Химический

состав

и микроскопическая

структура

серебряно-кислородно-цезиевого фотокатода

до сих пор

окончательно не установлены, вследствие чего метод при­ готовления этого материала в значительной степени остается эмпирическим, и мы понимаем далеко не пол­ ностью значение отдельных этапов процесса изготовле­ ния.

7-2. ИЗГОТОВЛЕНИЕ Ag-0-Cs ФОТОКАТОДА

Эмпирически было разработано много различных ме­ тодов изготовления Ag-0-Cs фотокатода, однако во всех случаях присутствуют три основных этапа процесса: на­ несение основного слоя серебра, окисление этого слоя (частичное или полное) и обработка окиси серебра в па­ рах цезия. Дополнительными процессами могут быть испарение тонкой серебряной пленки после окисления основного слоя, до или после обработки окисла цезием, и поверхностное окисление катода.

Рассмотрим подробно три основных этапа изготовле­ ния фотокатода.

1. Основной слой серебра. Для непрозрачных фотока­ тодов, т. е. фотокатодов, которые освещаются со стороны вакуума, разработаны четыре метода получения основ­ ного слоя серебра:

а) Непрозрачный слой Ag может быть нанесен на стекло химическим методом, который обычно исполь­ зуется при изготовлении сосудов Дыоара. Этот метод состоит в восстановлении металлического серебра из рас­ твора азотнокислого серебра с помощью органического восстановителя [Л. 165]. Серебро прочно прилипает к стеклу, образуя зеркальную поверхность. Однако при изготовлении фотокатода обычно используют матовую стеклянную поверхность, и серебряная пленка имеет бе­ лесоватый оттенок.

б) Для изготовления фотокатода можно использовать очищенную пластинку чистого серебра. Пластинку обыч-

1 В самое последнее время появились новые фотокатоды на основе тройных соединений InPAs, GalnAs, обладающие более высо­ кой чувствительностью в ИК области спектра [Л. 253*]. (Прим. перев.)


ио травят в разбавленной азотной кислоте для дополни­ тельной очистки, а также для создания матовой поверх­ ности. Считается, что это приводит к увеличению фотоэмиссии готового фотокатода.

в) Серебряная пластинка может быть заменена дру­ гим металлом, например никелем, электролитически по­ крытым серебром.

г) Толстая серебряная пленка может быть также на­ несена испарением серебра.

Кажется удивительным, что свойства основного се­ ребряного слоя практически не влияют на фотоэмисси­ онные свойства готового фотокатода. В связи с этим сле­ дует отметить работу Хёне и Заггау (Л. 166]. Эти авторы использовали монокристаллы серебра и не обнаружили никакого влияния кристаллической плоскости па эмис­ сионные свойства фотокатода. Критическими стадиями: активационного процесса, по крайней мере для непро­ зрачных фотокатодов, являются не нанесение основного слоя Ag, а окисление серебра и обработка его цезием.

Основной слой серебра для полупрозрачных фотока­ тодов получают испарением в вакууме. Изготовление тонких серебряных пленок представляет собой довольно сложную проблему. Оптимальная толщина этих пленок

о

лежит в области от 100 до 200 А. Для большинства ме­ таллов воспроизводимые результаты при нанесении пле­ нок такой толщины могут быть получены путем контроля толщины пленки по пропусканию света. Соотношение между толщиной пленки и оптическим пропусканием устанавливается экспериментально. В случае серебра не существует надежного соотношения между этими вели­ чинами, поскольку тонкие серебряные пленки образуют не сплошные, а дисперсные слои, т. е. состоят из отдель­ ных частиц. Процесс образования частиц серебра сильно зависит от условий его испарения. В результате этого оптические свойства пленок также сильно различаются, при различных условиях испарения Ag. К настоящему времени опубликовано большое число эксперименталь­ ных исследований свойств тонких серебряных пленок.

Сеннет и Скотт [Л. 167] провели подробное исследо­ вание влияния температуры подложки и скорости испа­ рения Ag на оптические свойства тонких пленок и раз­ меры частиц. Фауст (Л. 168] показал, что зависимость оптического пропускания диспергированных пленок от толщины пленки имеет сложный характер. Как видно из

Рис. 35. Зависимость оптиче­ ского пропускания тонких се­ ребряных пленок от их тол­ щины для двух длин волн (Л. 168].
200 %Ю 600 Толщина, А

рис. 35 (Фауст [Л. 168]), при использовании монохрома­ тического света зависимость пропускания света от тол­ щины имеет минимум и максимум в определенной обла­ сти толщин пленок. Таким образом, одинаковое пропу­ скание наблюдается при трех различных толщинах плен­ ки. Рисунок 36 иллюстрирует влияние скорости испаре­ ния на оптическое пропускание пленки (по данным Фи­ липа [Л. 169]). Согласно Холланду [Л. 170] угол падения

атомов серебра на подложку во время испарения также заметно влияет на оптиче­ ские свойства пленки. Следу­ ет отметить, что различие значений толщины пленки, соответствующих максиму­ мам и минимумам на кри­ вых, приведенных на рис. 35 и 36, связано, по-видимому, с использованием разных методов определения толщи­ ны. Фауст измерял толщину оптическим методом, а Фи­ лип определял ее по весу испаренного серебра.

Для полупрозрачного Ag-0-Cs фотокатода зависи­ мость размеров частиц и оптических свойств пленки се­

ребра от условий ее испарения приводит к двум важным результатам. Во-первых, пленки воспроизводимой тол­ щины, или, точнее, воспроизводимой поверхностной плот­ ности, могут быть получены с помощью измерения опти­ ческого пропускания только в том случае, если удается сохранить все условия испарения Ag строго постоянны­ ми. По-видимому, важнее всего поддерживать постоян­ ной скорость испарения. Во-вторых, если размеры частиц влияют на фоточувствительность Ag-0-Cs фотокатода, должны существовать оптимальные условия нанесения пленки, которые соответствуют получению частиц с «оп­ тимальными» размерами. Однако до сих пор не извест­ но, существует ли прямая связь между размерами частиц Ag и фотоэмиссионными характеристиками.

На практике серебряный слой для получения полу­ прозрачного Ag-0-Cs фотокатода наносится с такой ско­ ростью испарения, чтобы за 30—60 сек получить плен-


ку,

которая пропускает 50%

падающего

(белого)

света.

 

 

 

 

2.

Окисление

слоя

серебра.

Металлическое

серебро

нельзя окислить

путем

нагрева

в атмосфере кислорода,

поскольку окись серебра термодинамически нестабильна. Окись серебра Ag 2 0 при температуре выше 100°С начи­ нает диссоциировать [Л. 171, 172]. Поэтому, как уже от­

мечалось,

окисление

серебря­

 

ного слоя

и

проводят

другим, ля?! 1 г

удобным

хорошо

контроли­

 

руемым способом, который

за­

 

ключается

в бомбардировке се­

 

ребра положительными ионами

 

кислорода. При окислении тол­

 

стых серебряных пленок, кото­

 

рые используются для изготов­

 

ления непрозрачных

фотокато­

Толщина, А

дов, процесс

сравнительно

не

сложен. Необходимо

окислить

Рис. 36.

Зависимость опти­

только верхнюю часть

серебря­

ческого

 

пропускания

тон­

ного слоя, поэтому пленка мо­

ких серебряных пленок

от

жет

служить отрицательным

их толщины при двух раз­

электродом

для

поддержания

личных

 

скоростях

испаре­

тлеющего

разряда

в

кисло­

 

 

ния

Ag.

 

 

Кривая

/:

500

о

в минуту;

кри­

роде. В качестве

положитель­

А

вая 2:

5

сі

минуту

[Л.

1691.

ного

электрода

можно ис­

А в

 

 

 

 

 

 

 

пользовать анод или любой другой подходящий электрод в приборе. Процесс окисления начинается с наполнения прибора кислородом при давлении около 0,1 мм рт. ст. (Для получения KH^qpoAa обычно используют разложе­ ние при нагревании подходящего соединения, например окиси ртути, хлората калия или марганцовокислого ка­ лия. Источником кислорода может также служить спе­ циальный сосуд со спектрально чистым кислородом.) После этого к электродам прикладывается напряжение от 400 до 800 в для получения тлеющего разряда. Вели­ чина напряжения зависит от давления кислорода. Вместе с тем величины напряжения и давления, необходимые для получения разряда, зависят от геометрии прибора, однако ни один из этих параметров не является крити­ ческим.

После установления разряда цвет серебряной пленки изменяется в определенной последовательности. Прескотт и Кэлли (Л. 173] наблюдали желтый, красный, си-