Файл: Соммер А. Фото-эмиссионные материалы.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 18.06.2024

Просмотров: 134

Скачиваний: 4

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

В отношении фотоэмиссионных материалов необходи­ мо заметить, что при достаточно высокой энергии фото­ нов все материалы — металлы и полупроводники (ди­ электрики) — фоточувствительны. Поскольку фотоэмис­ сионные измерения в УФ области выполнены на большом числе материалов, целесообразно ограничиться описани­ ем только тех материалов, которые имеют достаточно высокий квантовый выход для практического применения и поэтому исследованы более подробно.

Материалы с высоким квантовым выходом в видимой области спектра имеют, как правило, высокую чувстви­ тельность и в УФ области. В настоящей главе рассмат­ риваются свойства только тех материалов, которые от­ носятся к категории так называемых «солнечно-слепых» фотокатодов, т. е. фотокатодов, чувствительных в УФ области спектра, но не реагирующих на излучение солн­ ца. Соляета-слепые фотокатоды имеют большое прак­ тическое значение, поскольку они позволяют обнаружи­ вать УФ сигналы при дневном свете. Это применение стимулирует исследование материалов такого рода.

Следует отметить, что термин «солнечно-слепой» име­ ет разный смысл в зависимости от того, имеется ли в ви­ ду излучение солнца__в_^вакууме (космическом простран­ стве) или в пределах земной атмосферы. В первом слу­ чае длинноволновый" порог фотоэффекта должен быть

о

о

ниже 2 000_А, а во втором он может превышать 3 500 А . вследствие атмосферного поглощения в области спектра

о

с длиной волны меньше 3 500 А.

Фотокатоды для УФ области спектра можно разде­ лить на материалы, чувствительные в области прозрач-

о

ности кварца (2 000—3 500 А), прозрачности LiF (1 050—

о

о

2 000 А) и в вакуумной области (ниже 1 050 А).

9-2. ОКНА ДЛЯ ФОТОКАТОДОВ, ЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ В УЛЬТРАФИОЛЕТОВОЙ ОБЛАСТИ СПЕКТРА

Использование кварца в качестве окон, прозрачных

о

о

до 2 000 А (или даже до 1 500 А в случае кварца наилуч­ шего качества), известно настолько хорошо, что не нуж­ дается в обсуждении. Для пропускания .излучения с дли-

о

нами волн короче 2 000 А удобны сапфировые окна,

о

прозрачные примерно до 1 400 А. В еще более коротко-


волновой области успешно используются некоторые ще- лочно-галоидные кристаллы и галоидные соединения ще­ лочноземельных металлов, особенно CaF2 и LiF.

Из всех известных материалов LiF прозрачен в наи­ более коротковолновой области спектра —вплоть до

о

о

1 050 A. CaF2 пропускает излучение до 1 250 А и иногда используется при обнаружении слабых сигналов в об-

о

ласти от 1 250 до 2 000 А, поскольку он действует как фильтр для сильной лимановской альфа-линии с длиной

 

 

 

 

волны

 

 

о

 

 

 

кроме

 

 

 

 

1 216 А. Однако,

 

 

 

 

того, он, по-видимому, не име­

 

 

 

 

ет

никаких

преимуществ

по

 

 

 

 

сравнению

с

LiF, особенно в

 

 

 

 

отношении

механической

проч­

 

 

 

 

ности

и

химической

стойкости

 

 

 

 

к действию окружающей

атмо­

 

 

 

 

сфери

[Л. 206]. Поэтому

сле­

 

 

 

 

дующие

замечания

относятся

 

 

 

 

только

к окнам

из LiF.

 

 

 

 

 

 

Поскольку фотокатоды дол­

 

 

 

 

жны

изготовляться

и

со­

 

 

 

 

храняться

в

высоком

вакуу­

Рис. 55.

Оптическое

про­

ме,

а

приборы, в которых они

пускание

сколотого

кри­

изготовляются,

обычно

 

под­

сталла

LiF до (/) и по­

вергаются

обезгаживанию

пу­

сле (2)

экспозиции

на

воз­

 

духе '[Л. 207].

 

тем

прогрева,

необходимо

де­

 

 

 

 

лать вакуумно-плотные спаи

между

окном из LiF и стеклянной

колбой

прибора,

спо­

собные

к тому

же

выдерживать

нагрев.

Единственный

приемлемый метод, разработанный для этой цели, со­ стоит в использовании в качестве цемента хлорида се­ ребра, поскольку этот материал достаточно упруг для получения хорошего спая между материалами, коэффи­ циенты расширения которых отличаются так же сильно,

как и коэффициенты расширения

стекла и LiF [Л. 206].

Окна из

LiF имеют высокое

пропускание

в области

длин волн

больше 1 600

А; например, окна

толщиной

I мм пропускают больше

70% излучения. Прозрачность

о

их резко падает при 1 050 А (~1 2 эв), что соответствует ширине запрещенной зоны LiF. В области длин волн между этими двумя значениями пропускание сильно ме-


няется от образца к образцу. Свежесколотые кристаллы LiF значительно более прозрачны, но при экспозиции на воздухе водяные пары, присутствующие в атмосфере, быстро уменьшают их прозрачность до величины, срав­ нимой с прозрачностью кристаллов, полированных на воздухе. Типичные кривые, полученные Патерсоном и Вогеном [Л. 207] для сколотых кристаллов до и после экс­ позиции на воздухе, приведены на рис. 55 (см. также

[Л. 206]). Структура этих характеристик в области спек-

тра между I 250 и 1 400 А связана с влиянием водяных паров.

Следует отметить, что имеется большая разница меж­ ду влияні-ием водяных паров и жидкой воды на оптиче­

ские характеристики

окон из LiF. Если окно

приходит

в контактне жидкой

„водой, оно немедленно

становится

мутным и непригодным для использования. В то же вре­ мя, хотя водяные пары также оказывают немедленное

действие на прозрачность

свежесколотого кристалла LiF

в УФ области спектра,

при этом, по-видимому, обра­

зуется относительно неактивная поверхностная пленка, которая в какой-то мере предохраняет кристалл от даль­ нейшего воздействия паров воды. В лабораторной атмо­ сфере прозрачность может оставаться постоянной в тече­ ние нескольких месяцев [Л. 206].

9-3. ИЗМЕРЕНИЯ ФОТОКАТОДОВ, ЧУВСТВИТЕЛЬНЫХ

В УЛЬТРАФИОЛЕТОВОЙ ОБЛАСТИ СПЕКТРА

 

Измерения

абсолютного квантового выхода

относи-

тельно просты

в области спектра вплоть до 2 000

о

А, где

имеются стабильные источники света и где можно ис­ пользовать кварцевые окна с постоянными характери­

стиками пропускания как для источника света, так и для

прибора, содержащего фотокатод. В

области

длин

волн

 

 

трудными по

сле­

меньше '2 000 А измерения становятся

дующим причинам.

 

 

 

 

Во-первых,

спектральная

характеристика

источника

света (обычно

используется

разряд

в водороде)

непо­

стоянна, особенно в вакуумном монохроматоре, где раз­ ряд не изолирован окном от решетки и выходной щели. В таком устройстве при каждой смене образца в систему напускается воздух. После этого система откачивается и заполняется водородом, так что для каждого измере­ ния используется по существу новый источник света.


Во-вторых, если прибор снабжен окном из LiF, не­ возможно измерить прозрачность этого окна после изго­ товления прибора. Поскольку прозрачность уменьшается на неизвестную величину, действительный квантовый вы­ ход может оказаться значительно большим, чем кванто­ вый выход, определенный в расчете на первоначальную

прозрачность

окна.

 

 

 

В-третьих,

наиболее

сложная

проблема

заключается

в трудности надежного

измерения

интенсивности излуче-

 

 

 

о

длинновол­

ния в области спектра ниже 2 000 А. В более

новой области спектра для таких измерений обычно ис­ пользуются термопары, но в области вакуумного ультра­ фиолета этот метод встречается с чрезвычайно большими экспериментальными трудностями [Л. 208].

Два наиболее часто используемых метода измерения интенсивности излучения основаны на использовании ио­ низационной камеры [Л. 209] и на преобразовании УФ излучения в видимый свет с помощью фосфора, напри­ мер салицилата натрия {Л. 210], чье излучение затем из­ меряется обычным фотоумножителем. Ни один из этих методов, однако, не свободен от недостатков. Например, при использовании ионизационных камер предполагается, что процесс ионизации молекул газа падающими фото­ нами имеет 100%-ную эффективность, а при использова­ нии салицилата натрия нужно предположить, что эффек­ тивность преобразования коротковолнового излучения в длинноволновое не зависит от длины волны и не ме­ няется со временем. Интересно отметить, что Кенфилд

о

и др. [Л. 211] наблюдали при длинах волн 584 и 735 А очень хорошее согласие между результатами, получен­ ными с термопарой и ионизационными камерами. С дру­ гой стороны, Келкот [Л. 212] выражает сомнение относи­ тельно надежности работы салицилата натрия.

Из-за трудностей, связанных с измерением интенсив­ ности излучения, часто невозможно решить, существуют ли действительные различия в величинах квантового вы­ хода, измеренных разными авторами, или эти различия обусловлены использованием разной техники измерения интенсивности излучения. Следует отметить, что полез­ ную информацию о чувствительности в УФ области мож­ но получить сравнением свойств двух материалов. При этом отпадает необходимость в абсолютных измерениях интенсивности излучения [Л. 206].


9-4. ФОТОКАЮДЫ ДЛЯ ОБЛАСТИ СПЕКТРА ОТ 2 000 ДО 3 500 А. ТЕЛЛУРИДЫ ЦЕЗИЯ И РУБИДИЯ

Высокий квантовый

выход

фотоэмиссии в

области

спектра

 

о

 

 

на двух

от '2 000 до 3 500 А был получен только

соединениях — теллуриде

цезия

(Cs2Te)

и теллуриде ру­

бидия

(Rb2 Te). Тафт и Апкер

[Л. 195],

обнаружившие

высокую чувствительность этих материалов в УФ обла­ сти, довольно подробно изучили их фотоэмиссионные и оптические свойства. Поскольку свойства этих двух ма­ териалов очень близки, а большинство работ было вы­ полнено на Cs2Te, в основном будут рассмотрены харак­ теристики Cs2Te.

1. Приготовление фотокатода Cs2 Te. Процесс изготов­ ления Cs2Te в основных чертах аналогичен процессу при­ готовления Cs3Sb и других подобных материалов. Слой Те испаряется на металлическую подложку (для непро­ зрачных фотокатодов) или на кварцевую подложку (для полупрозрачных фотокатодов). В последнем случае наи­ лучшие результаты получаются, если испарение прекра­ тить в тот момент, когда пропускание в видимом свете падает примерно до 95% первоначальной величины.

Испаренная пленка Те затем обрабатывается в па­ рах Cs при повышенной температуїре до получения мак­ симума фотоэмиссии. Процесс изготовления Cs2Te более сложен, чем в случае Cs3Sb, поскольку возникает ряд дополнительных проблем, несущественных при изготов­ лении Cs3Sb.

а) Проводимость Cs2Te значительно меньше, чем про­ водимость Cs3Sb. В результате полупрозрачный фотока­ тод, нанесенный на кварцевую подложку, обладает та­ ким высоким сопротивлением, что фототок ограничивает­ ся чрезвычайно малой и фактически бесполезной вели­ чиной. Поэтому фотокатоды необходимо изготовлять на проводящей подложке, сочетающей высокую прозрач­ ность в УФ области спектра с большой проводимостью. Для этой цели часто используются испаренные пленки таких металлов, как вольфрам и хром, поскольку они обеспечивают достаточную проводимость в очень тон­ ких слоях, которые пропускают до 85% ультрафиоле­ тового излучения.'

б) Если прибор, в котором изготовляется фотокатод, содержит элементарный Те в качестве источника для ис­ парения пленки Те, обычный процесс обезгаживания пу-