Файл: Балябин А.Н. Твердотельные приборы СВЧ учеб. пособие.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 28.07.2024

Просмотров: 96

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Рие.34. Зависимость тока 'проводимости в слое умножения эгтри лавинном про­ бое от напряженности поля.

[дкм характером распределений концентрации акцепторных

Л4 и донорных М, атомов примеси (структурой диода).. Структура ЖІД-ото ряд последовательно расположен­

ных областей в монокристалле полупроводника, отличающих­

ся типом и концентрацией атомов примеси,разделенных пе­ реходами; Различают резкие, (ступенчатые) и плавные пе­ рехода:-; з первых концентрация изменяется оченьрезко на протяжении.десятых долей, микрона,а во■вторых.длина перехода измеряёт&я'единицами микронов.Для.образования переходов з ЛПД используются новейшие технологические

процессы: .управляемая

диффузии; -эпитаксиальное наращи­

вание, ионное внедрение. Для обозначения областей с

различными типомпримеси'и'концентрацией

( уровнем

легирования ) приняты

специальныеобозначения:

I) А А " слабо.легированные области полупроводника, с дырочным, электронным' типом проводимости.Концентрация атомов примеси сравнительно небольшая|л^-//<*/ * ^ ~ 1 0 к


 

 

 

-

50 -

 

 

атомов

на

см3.

Величина удельного сопротивления ’i-S.OОм-ск

2 ) р * п +-

сильно легированные

области полупроводника

с концентрацией

атомов

примеси

| /Лаг — а 1=

10 іѲ<аи з и

величиной удельного сопротивления 0,001 Ом,

с*л .

3 )

I - область с собственным типом проводимости

/\/ - О ,

Лfg= .0

. При

Т =300°К

для германия

удельное

сопротивление 470Оң-сң, а .для кремния 2,5 -Ю"1Ом см.. Структура типа П+- р - 1 ~ р * с резкими переходами была впервые предложена Ридом в 1Э58 г. Обозначение

структуры соответствует последовательному расположению

областей с различным типом проводимости в диоде, как изображено на рис.3 5 ,а . Распределение примесей в полу­ проводнике , соответствующее -этой структуре,представлено графиком I Nu - А/djM'

К диоду должно-быть приложено т=кое обратное на­ пряжение смещения, при котором напряженность электри­

ческого поля оказывается достаточной .для того}чтобы все

пространство

полупроводника между областями

П+ и р +

освободилось

от подвижных носителей зарядов.

Наибольшее

значение напряженности поля оказывается в узком слое S

около П+ области. В этом слое возникает лавинный про­

бой и происходит генерирование носителей зарядов.Гене­ рированные носители дрейфуют через.обедненную область I

с

постоянной скоростью іГНас к ,/Р+ -области,

так как

в

области ./'напряженность

электрического

поля превышает

£

^ Я / с м .

 

.

‘ .

 

 

Структура р - П

со ступенчатыми

переходами

-ти-

* Данные-относятся к германию при Т =300°К


 

-

51

 

4-1

 

P+ n

n+

w ®|

L

 

 

Na-Hd

Ha-Vd

 

ОП

n*\P\ L

О

4

 

Рис.35Распределение концентрации примесей

 

к напряженности поля £ :

 

а-етруктура типа n+-p -i-p f ;б-структура типа

 

p + - n - n h.

пичная структура современного кремниевого ЛСД* На рис. 35,6 изображены распределение концентрации легирующих примесей J/V^—Ng\(i<) и профиль статического -электричес­ кого поля при приложении обратного напряжения смещения

F(X). Максимальное значение напряженности поля совпа­ дает с плоскостью р*-П -перехода. При увеличении поля,

ног та

F

 

è F , возникает лавинный лообой.

Область

пробоя

примыкает непосредственно к

плоскости

Е = Е^оке,

проникая

в

/7-область на расстояние

- $

, составляющее

около

£ /з

.'Таким образом,в данной

структуре

также име­

ет место

слой умножения, где происходит генерация .-элек­

тронов

я

дырок. Дырки переходят в область р + , а элек­

троны совершают^ дрейф в области сильного

воля черев


 

 

- 5 2 -

 

слой

с

практически постоянной скоростью

 

Структура р +-р~п~п*~ со ступенчатыми переходами

содержит

две области полупроводника, отличающиеся

ти­

помпроводимости. Изменение -концентрации атомов' примеси

.в областях р и h

происходит

линейно

вдоль координаты

J( ,как изображено

на рис. 3

6 ,а. При

приложении к дио-

A f e - A f c

 

 

 

NBTNÜ

а _

 

■Р+

О

д ...

 

OY

п

 

 

 

IT

\п'

 

 

 

ентрации пркмеге.; '-напряженности поля" .<Е' :

""&-'стру;кту ра типагрЧ-р-п-П ; б-етруктура

:,типа-'р +-~і— п +.

■^-ду обратно-Го-:к2 пряаенйя смещений ■максимальное 'значение нНапряженности'.электрическо го ■поля- -^^кж^ЫБнетсй в ^•пзюско'сти л X—О , в которой- ионы-, примеси изменяют/свой . Зчаваа. 'Hpif некоторой' величине --напряжения,приложенного

-- -к-'дшдуунаиряжеішоств- поля в максимуме может стать рйь^

н1ю®-*-і:) - Возникнет лавинный пробой-,сопровождаю-'


- 53 -

щийся быстрым умножением числа носителей заряда. Так каквероятность ударной ионизации является резко возрас ташей функцией напряженности электрического поля, то область.где происходит возникновение носителей заряда

ограничена сравнительно узким слоем /(слой умножения). Образовавшиеся в слое умножения электроны и ,цирки

дрейфуют под действием сильного электрического поля к

границам переходов

через пролетные пространства і р . [ п

обедненного слоя,

причем дырки движутся -черезр -область

Е электроны черев

л-область. Вследствие -того, что

напряженность электрического-поля е пролетных простран­

ствах

превышает значение-10^ £ /Сд. , необходимое для насы­

щения

скорости, то скорость ЛЕиженкя-носителей вдоль Lp

и

практически

постоянна и не. зависит ст поля.

■Структура - p t

- I - п + с .резкими переходами. Особен­

ностью Стол структуры,изображенной схематически на рис. 55, б ('.является то. что . і - область .представляющая слой'полупроводника, с равными концентрациями свободных -электронов и дырок, заключена -между сильно легированны­

ми р* /г" —областями с- очень маяш удельным сопротивле­

нием.

 

 

При подведении к диоду

с такой структурой напря­

жения

обратной полярности

" к дг-юблаоти] ( -область

быстро

обедняется: лишается

п о то к ах носителей заряда,

■оставаясь не. тральной. Поэтому - электрическое соле между сильно легированными областями оказывается равномерным по всей , (-области, как показано на рисунке. Таким об­

разом, если приложенное' поде £"> і г ^ т о улдрная

иониза­

ция и лавинный, пробой .развеваютсяравномерно по

всей