Файл: Шамрай, Ф. И. Сплавы вольфрама, молибдена и ниобия с бором и углеродом.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 15.10.2024
Просмотров: 47
Скачиваний: 0
ров на основе карбида кремния, на основе карбида бора и на осно ве кремния. Первичной фазой является твердый раствор на основе карбида кремния (SiGI, SiGII, SiCIII, p-SiC). Микротвердость основной фазы в этих сплавах лишь незначительно превышает микротвердость карбида кремния. Таким образом, в исследовании [4] не удалось подтвердить наличие соединений с твердостью
7000 кПмм1.
Киффер [1] при исследовании сплавов тройной системы Si—В—С не обнаружил предполагавшихся тройных фаз. Однако не исклю чается упорядоченное расположение атомов кремния в решетке В4С.
Разрез SiC—В4С. Первое обстоятельное исследование системы Si—С—В, специально ее псевдобинарного разреза SiC—В4С, принадлежит Тону [6]. По его данным, карбид кремния легко растворяется в расплавленном карбиде бора, а при охлаждении образуется твердый раствор либо соединения SiC и В4С. При температуре 2200—2300 °С SiC разлагается, однако стабилизиру ется введением карбида бора. Система имеет эвтектический ха рактер. Согласно металлографическому анализу, карбид бора растворяет 35% SiC*. Превращенные в порошок сплавы обнару жили более высокую шлифующую способность, чем карбид крем ния. Итоги работы [6] подтвердили А. Калинина и Ф. Шамрай [51. Физико-химическое исследование разреза показало, что разрез — квазибинарный, образован твердыми растворами SiC и В4С с ог раниченной растворимостью. Эвтектика соответствует 35—36% SiC и температуре 2070 + 20°. Карбид бора при температуре эв тектики растворяет 15—17% SiC (В = 64—66%; Si = 12—13%;
С = 22—23%). Карбид |
кремния растворяет 4—5% В4С (В = |
= 2-2,8% ; Si = 68%; |
С = 29%). |
На рис. 1 приведены данные термического анализа [5]. В рабо те Г. Меерсона и др. [7] сплавы в системе SiC—В4С так же интер претированы, как двухфазные, состоящие из твердых растворов SiC и В4С. У сплавов, близких к карбиду бора, твердость достигает значения 8500 кГ1мм2. По мнению авторов, это является резуль татом дисперсного твердения, обусловленного образованием субми кроскопических выделений.
Секрист и др. [8] обнаружили, что эвтектическое превращение наблюдается при 30% SiC и температуре 2300 ± 20°. Взаимная растворимость при этой температуре менее 2%. По данным Шафера [9], эвтектика наблюдалась при 30 мол. % SiC и 2245°.
В 1972 г. опубликовано обстоятельное исследование системы Si—В—С Киффера и др. [1]. Применялись исходные материалы следующего состава: 97,5 В; Fe и О <! 1 %; Si и С <1 0,15%; Mg, N < 0,05%; 99,7% Si; основные примеси — Fe, А1, следы Mg, Мп,
Си, Sn; углерод-ацетиленовая сажа — содержание золы 0,01%;
* Во всех случаях, за исключением особо указанных, проценты весовые.
5* 107
карбид бора; основные примеси — Fe, Si, А1 по 0,1%; Са, Na по
0,01%; 99,5% SiC.
Положение исследованных сплавов показано на рис. 2. Иссле дование проведено методами рентгеновского и микроструктурного анализов. Определяли температуру плавления, твердость и шли фующую способность. Сплавы разреза SiC—В4С готовили горя чим прессованием порошков при 2000° и давлении 100 кГ/мм2
Рис. 1. Диаграмма состоя ния разреза SiC—В4С [5]
с последующим спеканием в трубчатой печи при 1800° — 17 ч, 2000° — 10 ч и 2100° - 4 ч под давлением аргона 400 мм. Во всех случаях, независимо от условий спекания, рентгеновский анализ показал наличие двух фаз — SiC и В4С.
На рис. 3 показаны результаты термического анализа сплавов разреза в сравнении с данными [8]. Эвтектика находится при 35 мол.% SiC и 2240° [9|. Опыты травления спеченных при 1800°'~ образцов показали абсолютную устойчивость к холодной и теплой HF, HN03, парам GI и Вг, расплаву NaOH, щелочным растворам. Образцы, богатые SiC, электролитически травились в водном раст воре щавелевой кислоты, а смесь хромовой и уксусной кислот не оказывала действия. Микротвердость SiC и В4С находилась в обычных пределах от 3100 до 3300 и 5400—6000 кГ/мм2 в отличие от работы [7J. Результаты определения шлифующей способности сплавов разреза показаны на рис. 4.
Разрез В—SiC. В работе [3] появление второй фазы наблюдали в сплавах, содержащих 3—4% В. Предположено, что при добавле
нии |
бора к SiC протекает реакция образования карбида бора |
В + |
SiC -*• В4С + Si (В) или тройного соединения с условной |
формулой B3Si2C2. Все сплавы разреза обладали полупроводнико выми свойствами и высокой жаростойкостью.
В работе [7J максимальная растворимость бора в SiC оценива лась как 7,8%.
А. Калинина и др. [10] исследовали участок фазовой диаграм мы Si—В—С вблизи разреза В—SiC. Сплавы были изготовлены методами однократного и двукратного горячего прессования при 1900—2000° под давлением 50—70 кПсм2 с длительной гомогени зацией. В зависимости от условий синтеза сплавов SiC кристалли зуется в кубической (З-SiC модификации или гексагональной а -SiC модификации различных политипов. После I стадии син теза (спекание в течение 3 мин при 1900—2000° под давлением
108
с
Рис. 2. Расположение исследованных сплавов в системе Si—В—С [1 ]
50—70 кПсм2) сплавы 1 и 2 (табл. 1) состоят из кристаллов твердо го раствора на основе SiC и твердого раствора на основе кремния. В сплаве 1 SiC кристаллизуется в основном в кубической модифи кации (3-SiC. С увеличением количества бора в шихте содержание
В сплаве 8 весь SiC кристаллизуется в гексагональной модифика ции.
После II стадии синтеза (дробление сплавов и горячее прес сование в аналогичных условиях, затем гомогенизация (280 ч) в
№
Таблица 1. Данные химического анализа сплавов (в вес. %)*
Номер |
I |
стадия |
|
[II |
стадия |
|
|
|
|
|
|
|
|
сплава |
Si |
В |
С |
Si |
В |
С |
|
||||||
I |
72,0 |
1 , 0 |
27,0 |
70,0 |
1 , 0 |
29,0 |
2 |
70,0 |
3,0 |
27,0 |
6 8 , 0 |
3,0 |
29,0 |
3 |
67,0 |
7,0 |
26,0 |
6 6 , 0 |
7,0 |
27,0 |
4 |
6 6 , 0 |
9,0 |
25,0 |
65,0 |
8 , 0 |
26,0 |
5 |
65,0 |
1 0 , 0 |
25,0 |
61,0 |
1 2 , 0 |
27,0 |
6 |
61,0 |
14,0 |
25,0 |
6.0 , 0 |
14,0 |
26,0 |
7 |
58,0 |
17,0 |
23,0 |
58,0 |
17,0 |
25,0 |
S |
51,0 |
27,0 |
2 2 , 0 |
49,0 |
27,0 |
24,0 |
* Пересчитанона 100% и округлено.
среде аргона по режиму [4]) сплавы 1 и 2 образованы в основном кристаллами твердого раствора на основе а -SiC. Сплавы 3 —8 сос тоят из твердого раствора на основе a-SiC, твердого раствора на
Рис. 4. Шлифующая способность сплавов разреза В4С—SiC [1]
1 — В (99,8%); 2 — В4С; |
3— 80 |
мол.% В4С + 20 мол.% |
SiC; 4— 60 |
м ол.% В4С + |
||||
40 ыол.% SiC; 5—40 мол.% |
В4С -f |
60 мол.% SiC; 6 — SiC |
|
|
|
|
||
основе кремния и тройной эвтектики (SiC + |
Si + |
В4С). Вторич |
||||||
ное горячее прессование |
сплавов |
при 1900—2000° |
и |
последую |
||||
щий длительный отжиг |
в |
среде |
аргона |
способствуют переходу |
||||
Р -> a-SiC и стабилизации |
в основном |
политипа |
6Н — SiC. |
Таким образом, микроскопическое и рентгеновское исследова ния сплавов, близких к разрезу В—SiC, показали, что на двух различных стадиях синтеза они по качественному фазовому со ставу не отличаются друг от друга и состоят из кристаллов твердых растворов на основе SiC (основная фаза), кремния и карбида бора.
110
\
Согласно [11], углерод и кремний практически не растворяются в SiC. Очевидно, твердый раствор на основе SiC образован бором, замещающим кремний в решетке SiC. По данным измерения перио да решетки a-SiC — 6Н растворимость бора в SiC составляет немногим более 3%. Согласно работе [12], содержание бора в твер дом растворе в a-Sic, определенное фазовым химическим анализом, не превышает 3,4%.
Сплавы разреза В—SiC с содержанием 3—5% В обладали наи высшей термостойкостью и сопротивлением окислению при высо ких температурах. Киффер [1] провел рентгеновское исследование горячепрессованных и спеченных при 2000° в течение 12 ч образ цов по разрезу В—SiC и обнаружил две фазы SiC и В4С.
Разрез Si—В4С. Немисскийи др. [13] изготовил как через газо вую фазу, так и методом порошковой металлургии соединение € 74,5% В, 19,9% С и 5,7 Si. Соединение обнаружило все свойства карбида бора и рассматривается как раствор кремния в карбиде бора. Киффер [1] проводил опыты на горячепрессованных и отож женных образцах (атмосфера аргона в печи с углеродной трубой при 1800° — 8 ч и 2000° — 6 ч). Установлены фазы В4С и SiC и только в неотожженных образцах наблюдался еще кремний. Рас творимость кремния в В4С определялась с помощью микроанали
затора и равна 2,16% в отличие от 5,7 [13] и 9,7% [7]. |
углерод, |
||
и |
Разрез В4С—SiB4 [1]. |
Исходные материалы — бор, |
|
кремний — прессовали |
вхолодную при удельном |
давлении |
|
1 |
Т/см2в таблетки и отжигали в течение 10 ч немного ниже темпе |
ратуры плавления кремния с последующим кратковременным нагревом при 2300°. Рентгеновский фазовый анализ образцов, дополнительно отожженных при 1900°—9 ч, обнаружил следую щие фазы: основа В4С, как вторую фазу SiC (у образцов, содержа щих 10—80% SiB4); SiB6 (у образцов, содержащих от 80 до 90% SiB4).
Тройные соединения на разрезе не обнаружены. Борид крем ния SiB4_x при температурах выше 1350° разлагается (SiB4_x ^ ^ SiB6 + Si), кремний реагирует с борокарбидом с образованием
SiC.
Фазовая диаграмма системы Si—В—С [1]. Исходные материа лы, применявшиеся Киффером — бор, углерод и порошок крем ния, прессовали при удельном давлении 1 Т/см2 и подпекали в вакуумной печи с угольной трубой при 1300° — 5 ч. Термиче скую обработку для построения изотермических сечений прово дили в угольной трубе в автоклаве при 1700 и 1900 °С. Обнару жены фазы: Si, SiC, В4С, SiB6, SiB12+x и С. Диаграмма плавко сти системы показана на рис. 5. В кремниевом углу при добавле нии незначительного количества углерода температура плавления сплавов круто поднимается. Тройная эвтектика расположена близ ко к двойной эвтектике системы В —Si; te = 1360°.
Изотермические сечения системы, построенные по данным мик роскопических, рентгенографических, аналитических исследова
111