Файл: Шамрай, Ф. И. Сплавы вольфрама, молибдена и ниобия с бором и углеродом.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 15.10.2024

Просмотров: 47

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

ров на основе карбида кремния, на основе карбида бора и на осно­ ве кремния. Первичной фазой является твердый раствор на основе карбида кремния (SiGI, SiGII, SiCIII, p-SiC). Микротвердость основной фазы в этих сплавах лишь незначительно превышает микротвердость карбида кремния. Таким образом, в исследовании [4] не удалось подтвердить наличие соединений с твердостью

7000 кПмм1.

Киффер [1] при исследовании сплавов тройной системы Si—В—С не обнаружил предполагавшихся тройных фаз. Однако не исклю­ чается упорядоченное расположение атомов кремния в решетке В4С.

Разрез SiC—В4С. Первое обстоятельное исследование системы Si—С—В, специально ее псевдобинарного разреза SiC—В4С, принадлежит Тону [6]. По его данным, карбид кремния легко растворяется в расплавленном карбиде бора, а при охлаждении образуется твердый раствор либо соединения SiC и В4С. При температуре 2200—2300 °С SiC разлагается, однако стабилизиру­ ется введением карбида бора. Система имеет эвтектический ха­ рактер. Согласно металлографическому анализу, карбид бора растворяет 35% SiC*. Превращенные в порошок сплавы обнару­ жили более высокую шлифующую способность, чем карбид крем­ ния. Итоги работы [6] подтвердили А. Калинина и Ф. Шамрай [51. Физико-химическое исследование разреза показало, что разрез — квазибинарный, образован твердыми растворами SiC и В4С с ог­ раниченной растворимостью. Эвтектика соответствует 35—36% SiC и температуре 2070 + 20°. Карбид бора при температуре эв­ тектики растворяет 15—17% SiC (В = 64—66%; Si = 12—13%;

С = 22—23%). Карбид

кремния растворяет 4—5% В4С (В =

= 2-2,8% ; Si = 68%;

С = 29%).

На рис. 1 приведены данные термического анализа [5]. В рабо­ те Г. Меерсона и др. [7] сплавы в системе SiC—В4С так же интер­ претированы, как двухфазные, состоящие из твердых растворов SiC и В4С. У сплавов, близких к карбиду бора, твердость достигает значения 8500 кГ1мм2. По мнению авторов, это является резуль­ татом дисперсного твердения, обусловленного образованием субми­ кроскопических выделений.

Секрист и др. [8] обнаружили, что эвтектическое превращение наблюдается при 30% SiC и температуре 2300 ± 20°. Взаимная растворимость при этой температуре менее 2%. По данным Шафера [9], эвтектика наблюдалась при 30 мол. % SiC и 2245°.

В 1972 г. опубликовано обстоятельное исследование системы Si—В—С Киффера и др. [1]. Применялись исходные материалы следующего состава: 97,5 В; Fe и О <! 1 %; Si и С <1 0,15%; Mg, N < 0,05%; 99,7% Si; основные примеси — Fe, А1, следы Mg, Мп,

Си, Sn; углерод-ацетиленовая сажа — содержание золы 0,01%;

* Во всех случаях, за исключением особо указанных, проценты весовые.

5* 107


карбид бора; основные примеси — Fe, Si, А1 по 0,1%; Са, Na по

0,01%; 99,5% SiC.

Положение исследованных сплавов показано на рис. 2. Иссле­ дование проведено методами рентгеновского и микроструктурного анализов. Определяли температуру плавления, твердость и шли­ фующую способность. Сплавы разреза SiC—В4С готовили горя­ чим прессованием порошков при 2000° и давлении 100 кГ/мм2

Рис. 1. Диаграмма состоя­ ния разреза SiC—В4С [5]

с последующим спеканием в трубчатой печи при 1800° — 17 ч, 2000° — 10 ч и 2100° - 4 ч под давлением аргона 400 мм. Во всех случаях, независимо от условий спекания, рентгеновский анализ показал наличие двух фаз — SiC и В4С.

На рис. 3 показаны результаты термического анализа сплавов разреза в сравнении с данными [8]. Эвтектика находится при 35 мол.% SiC и 2240° [9|. Опыты травления спеченных при 1800°'~ образцов показали абсолютную устойчивость к холодной и теплой HF, HN03, парам GI и Вг, расплаву NaOH, щелочным растворам. Образцы, богатые SiC, электролитически травились в водном раст­ воре щавелевой кислоты, а смесь хромовой и уксусной кислот не оказывала действия. Микротвердость SiC и В4С находилась в обычных пределах от 3100 до 3300 и 5400—6000 кГ/мм2 в отличие от работы [7J. Результаты определения шлифующей способности сплавов разреза показаны на рис. 4.

Разрез В—SiC. В работе [3] появление второй фазы наблюдали в сплавах, содержащих 3—4% В. Предположено, что при добавле­

нии

бора к SiC протекает реакция образования карбида бора

В +

SiC -*• В4С + Si (В) или тройного соединения с условной

формулой B3Si2C2. Все сплавы разреза обладали полупроводнико­ выми свойствами и высокой жаростойкостью.

В работе [7J максимальная растворимость бора в SiC оценива­ лась как 7,8%.

А. Калинина и др. [10] исследовали участок фазовой диаграм­ мы Si—В—С вблизи разреза В—SiC. Сплавы были изготовлены методами однократного и двукратного горячего прессования при 1900—2000° под давлением 50—70 кПсм2 с длительной гомогени­ зацией. В зависимости от условий синтеза сплавов SiC кристалли­ зуется в кубической (З-SiC модификации или гексагональной а -SiC модификации различных политипов. После I стадии син­ теза (спекание в течение 3 мин при 1900—2000° под давлением

108


с

Рис. 2. Расположение исследованных сплавов в системе Si—В—С [1 ]

50—70 кПсм2) сплавы 1 и 2 (табл. 1) состоят из кристаллов твердо­ го раствора на основе SiC и твердого раствора на основе кремния. В сплаве 1 SiC кристаллизуется в основном в кубической модифи­ кации (3-SiC. С увеличением количества бора в шихте содержание

В сплаве 8 весь SiC кристаллизуется в гексагональной модифика­ ции.

После II стадии синтеза (дробление сплавов и горячее прес­ сование в аналогичных условиях, затем гомогенизация (280 ч) в


Таблица 1. Данные химического анализа сплавов (в вес. %)*

Номер

I

стадия

 

[II

стадия

 

 

 

 

 

 

 

сплава

Si

В

С

Si

В

С

 

I

72,0

1 , 0

27,0

70,0

1 , 0

29,0

2

70,0

3,0

27,0

6 8 , 0

3,0

29,0

3

67,0

7,0

26,0

6 6 , 0

7,0

27,0

4

6 6 , 0

9,0

25,0

65,0

8 , 0

26,0

5

65,0

1 0 , 0

25,0

61,0

1 2 , 0

27,0

6

61,0

14,0

25,0

6.0 , 0

14,0

26,0

7

58,0

17,0

23,0

58,0

17,0

25,0

S

51,0

27,0

2 2 , 0

49,0

27,0

24,0

* Пересчитанона 100% и округлено.

среде аргона по режиму [4]) сплавы 1 и 2 образованы в основном кристаллами твердого раствора на основе а -SiC. Сплавы 3 —8 сос­ тоят из твердого раствора на основе a-SiC, твердого раствора на

Рис. 4. Шлифующая способность сплавов разреза В4С—SiC [1]

1 В (99,8%); 2 — В4С;

3— 80

мол.% В4С + 20 мол.%

SiC; 4— 60

м ол.% В4С +

40 ыол.% SiC; 540 мол.%

В4С -f

60 мол.% SiC; 6 — SiC

 

 

 

 

основе кремния и тройной эвтектики (SiC +

Si +

В4С). Вторич­

ное горячее прессование

сплавов

при 1900—2000°

и

последую­

щий длительный отжиг

в

среде

аргона

способствуют переходу

Р -> a-SiC и стабилизации

в основном

политипа

6Н — SiC.

Таким образом, микроскопическое и рентгеновское исследова­ ния сплавов, близких к разрезу В—SiC, показали, что на двух различных стадиях синтеза они по качественному фазовому со­ ставу не отличаются друг от друга и состоят из кристаллов твердых растворов на основе SiC (основная фаза), кремния и карбида бора.

110


\

Согласно [11], углерод и кремний практически не растворяются в SiC. Очевидно, твердый раствор на основе SiC образован бором, замещающим кремний в решетке SiC. По данным измерения перио­ да решетки a-SiC — 6Н растворимость бора в SiC составляет немногим более 3%. Согласно работе [12], содержание бора в твер­ дом растворе в a-Sic, определенное фазовым химическим анализом, не превышает 3,4%.

Сплавы разреза В—SiC с содержанием 3—5% В обладали наи­ высшей термостойкостью и сопротивлением окислению при высо­ ких температурах. Киффер [1] провел рентгеновское исследование горячепрессованных и спеченных при 2000° в течение 12 ч образ­ цов по разрезу В—SiC и обнаружил две фазы SiC и В4С.

Разрез Si—В4С. Немисскийи др. [13] изготовил как через газо­ вую фазу, так и методом порошковой металлургии соединение € 74,5% В, 19,9% С и 5,7 Si. Соединение обнаружило все свойства карбида бора и рассматривается как раствор кремния в карбиде бора. Киффер [1] проводил опыты на горячепрессованных и отож­ женных образцах (атмосфера аргона в печи с углеродной трубой при 1800° — 8 ч и 2000° — 6 ч). Установлены фазы В4С и SiC и только в неотожженных образцах наблюдался еще кремний. Рас­ творимость кремния в В4С определялась с помощью микроанали­

затора и равна 2,16% в отличие от 5,7 [13] и 9,7% [7].

углерод,

и

Разрез В4С—SiB4 [1].

Исходные материалы — бор,

кремний — прессовали

вхолодную при удельном

давлении

1

Т/см2в таблетки и отжигали в течение 10 ч немного ниже темпе­

ратуры плавления кремния с последующим кратковременным нагревом при 2300°. Рентгеновский фазовый анализ образцов, дополнительно отожженных при 1900°—9 ч, обнаружил следую­ щие фазы: основа В4С, как вторую фазу SiC (у образцов, содержа­ щих 10—80% SiB4); SiB6 (у образцов, содержащих от 80 до 90% SiB4).

Тройные соединения на разрезе не обнаружены. Борид крем­ ния SiB4_x при температурах выше 1350° разлагается (SiB4_x ^ ^ SiB6 + Si), кремний реагирует с борокарбидом с образованием

SiC.

Фазовая диаграмма системы Si—В—С [1]. Исходные материа­ лы, применявшиеся Киффером — бор, углерод и порошок крем­ ния, прессовали при удельном давлении 1 Т/см2 и подпекали в вакуумной печи с угольной трубой при 1300° — 5 ч. Термиче­ скую обработку для построения изотермических сечений прово­ дили в угольной трубе в автоклаве при 1700 и 1900 °С. Обнару­ жены фазы: Si, SiC, В4С, SiB6, SiB12+x и С. Диаграмма плавко­ сти системы показана на рис. 5. В кремниевом углу при добавле­ нии незначительного количества углерода температура плавления сплавов круто поднимается. Тройная эвтектика расположена близ­ ко к двойной эвтектике системы В —Si; te = 1360°.

Изотермические сечения системы, построенные по данным мик­ роскопических, рентгенографических, аналитических исследова­

111