ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 17.10.2024
Просмотров: 95
Скачиваний: 0
К отмеченным видам последовательного сопротивле ния добавляется сопротивление растекания, появляюще еся в случае, когда площадь электрода S гораздо меньше площади образца [64]. Для р —/г-перехода с линейным распределением примеси сопротивление растекания R 2 определяется следующим выражением [26] (в ом):
Д2^ 4 .1 0 2(^ Д ] , |
(11.4) |
т. e . i? 2 значительно меньше R 0 (см. (11.2)). Таким обра зом, приводившиеся в предыдущем параграфе выраже ния, отражающие зависимость яркости от напряжения, должны быть дополнены соотношением, связывающим
V и F0:
V = F 0 + IR = F0 + I 0MR, |
(11.5) |
где величина R отражает перечисленные выше виды пос ледовательного сопротивления и зависит в общем слу чае от F, /, Т, геометрических факторов и времени.
§12. Зависимость яркости электролюминесценции от напряжения
Выражения для яркости, полученные в § 10, могут быть использованы для расчетов, связанных с теми или иными свойствами свечения. В настоящем параграфе рас сматривается одна из наиболее существенных характери стик ЭЛ — зависимость яркости от напряжения [51—53]. Как и ранее, предполагается, что ионизация происходит
в барьерах, напряженность поля |
в которых |
изменяется |
|||
с расстоянием линейно. |
|
процессов |
и яркость |
||
Интесивность |
ионизационных |
||||
свечения определяются |
напряжением |
на барьере F 0, |
|||
в то время как |
внешнее напряжение |
F измеряется на |
|||
всем кристалле. |
Далее |
сначала |
рассчитываются кривые |
||
F 0(F) в условиях, |
более или менее типичных для обычных |
образцов широкозонных материалов. Вычисленные зави симости яркости от напряжения относятся к случаю воз буждения люминофоров переменным (или импульсным) напряжением, который более распространен на практике и которому соответствует выражение для яркости (10.7). Так как, однако, ток / 0 считается полностью надбарьерным и слабо зависящим от напряжения, различие формы R (F) при обоих вариантах возбуждения будет небольшим.
76
Предполагается, что последовательное сопротивление R объема кристаллов постоянно при данной температуре, что соответствует времени возбуждения, при котором из менения R вследствие инжекции носителей из барьера еще не сказываются заметным образом, и условию, что напря женность поля & в объеме образца не достигает той, при которой скорость дрейфа перестает линейно зависеть от ё.
а) Зависимость напряжения на барьере от внешнего напряжения. Связь V0 с напряжением V, приложенным к кристаллу с одним барьером, и сопротивлением R осталь ной части кристалла, которая включена последовательно с барьером, может быть получена из условия (11.5).
При данных V0 и М (П0) величина произведения I 0R, соответствующего падению напряжения в объеме кристал ла при М = 1, непосредственно определяет значение V, которое отвечает данному F 0.
Рассмотрим сначала выражение для первоначального обратного тока барьера / 0. Так как ширина слоя объемно го заряда при возможных значениях концентрации нескодшенсированной донорной примеси 1016—1018 см~3 обычно больше средней длины свободного пробега элект ронов (около 10~6 см), лучше воспользоваться выражением /„, следующим из диффузионной теории выпрямления, которая учитывает рассеяние электронов при столкнове ниях в барьерном слое [61]. В этом случае для барьера на контакте металла с образцом длиной d и сечением S по лучим
I о ^
где п0 — концентрация электронов, р 0 — их подвижность и ё т — напряженность поля у границы с металлом. Так как
|
2F0 |
_ |
2V f |
( 12.1) |
|
|
W |
~ |
Wxko ’ |
||
|
|
||||
а п0 = п ехр |
еф |
|
|
|
|
кГ , ТО |
|
|
|
||
/ 0= |
2SeVLdV^W-l% 1nex р |
е(р |
(12.2) |
||
~кТ |
|||||
|
|
|
|
В этих выражениях: п — концентрация электронов в объеме полупроводника, еф — высота барьера со стороны полупроводника при V 0 = О, Т — абсолютная температу ра, V0 — напряжение на барьерной области, 1г — посто-
77
йнная величина при Т = Const (ток при F 0 — 1 в), к 0 — размерный множитель, равный 1 в~1;‘, W — ширина об ласти пространственного заряда:
W = |
8 (I7,) + ф) |
Ч: |
(12.3) |
2neNd ■300 |
|
(Nd — концентрация ионизованных доноров, е — заряд электрона, е — диэлектрическая проницаемость полупро водника), Wi — ширина барьера при F 0 — 1 в. В услови
ях ионизации F 0^> ф и W zzz W1Y V0-k0.
При малых ё ток 10 растет пропорционально Fq/2, при
больших $, соответствующих |
ионизации, 10 может стре |
|
миться к |
насыщению, так как р 0 уменьшается с ростом Щ. |
|
Если р 0 = |
vdISm и vd= const, |
то / 0 окажется постоянным. |
Но точный вид зависимости |
р 0 ф) в области ионизации |
для большинства люминесцирующих веществ (например, ZnS) неизвестен, поэтому в первом приближении можно не учитывать зависимости р 0 ф), сохранив слабую кор невую зависимость / 0 (F 0) и в области высоких полей. Эта зависимость будет несущественна по сравнению с силь ными зависимостями М (V0) и N (F 0), входящими в фор
мулы яркости. Зависимость / 0 — ]/ V0 будет слабо влиять и на распределение напряжения по кристаллу, так как изменение падения напряжения в объеме I 0R M определится прежде всего изменением коэффициента умножения М (F 0). Можно принять, таким образом, что ток
/ = I 0M = V X 'M (F 0). |
(12.4) |
Сопротивление объема кристалла R равно
R = (етгр5)_1й,
причем р — подвижность электронов в толще кристалла. Тогда
I 0R = I d W - ^ V f . exp ( - . (12.5)
При достаточно больших размерах кристаллов и неболь ших напряжениях поле в объеме кристаллов относитель но мало и р можно считать постоянной. Если токи вели ки (большие F), a d мало, падение напряжения в толще кристалла F — F 0 может быть настолько велико, что по ле Щ= (F —VQ)ld будет соответствовать области зависимо сти р ф). Если, например, р ~ то из-за увеличения
78
R с ростом F —F 0 перераспределение напряжения по кри сталлу будет происходить еще быстрее (падение напряже ния в объеме будет пропорционально М г (F 0)).
Для подсчетов удобнее взять более простой случай jx = const, когда I 0R — k 0I xVo*R и
V = V0 + k0I xRV‘J'M (F0). |
(12.6) |
Постоянству R при данной температуре будет отвечать и постоянство произведения I XR.
В качестве параметра, влияющего на соотношение V и F0, можно выбрать значение I 0R при F 0 = 1 в (при этом для материалов с АЕ Д> 1 эв коэффициент умножения также равен единице). Падение напряжения в объеме
кристалла равно в этом случае I XR. |
Эта величина, как и |
||
F, далее везде выражается в вольтах. |
Вычисление зави |
||
симости F 0 (F) по (12.6) возможно при известной величине |
|||
I XR и параметров а и Ь, входящих |
в |
выражение |
для N : |
N = 1 — М"1 = а ехр( — |
. |
(12.7) |
Величина параметров а и &может быть определена из опы тов либо оценена на основании теоретических выражений для а я N.
Опытное определение а я Ъ возможно в тех случаях, когда удается найти значения N и F 0, соответствующие каждому F. Величина N (F) может быть получена из измерений М (F). Из графика зависимости In N от 1/F0, если он линеен, можно найти параметры Ъ(по наклону этой зависимости) и а. Параметр I XR также нетрудно получить из измерений, если R является сопротивлением толщи кристалла. Подобного типа измерения относительно лег ко выполнимы на кристаллах достаточного размера с од ним барьером. В частности, для монокристаллов окиси цинка (концентрация доноров около 1017 смт3) с барьером типа Шоттки у катода измеренные значения Ъ лежат в пределах 7—10 в, причем коэффициент а примерно в три раза меньше коэффициента Ъ(§ 20). Для электролюмино форов типа ZnS—Си оценка значений Ь дает величину 10—40 в в зависимости от свойств образца и условий воз буждения (§ 28). Таким образом, интервал изменения Ъ для типичных люминофоров составляет 10—40 в. Эти значения b целесообазно использовать для расчетов F 0 (F) и яркости В (F). Значения I XR в интервале 0,1—32 в
79