Файл: Соммер А. Фото-эмиссионные материалы.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 18.06.2024

Просмотров: 97

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

На рис. 62 приведены спектральные характеристики фотоэмнссмн,

полученные Широм [Л.

2641 "а

сильнолегированном Si

м-тнпа

(1,5• 101 9 атомов фосфора

в 1 см3)

и р-тпа ( 3 - Ю 1 8 атомов

бора

в 1 си/3) после нанесения пленки Cs. Как видно из рисунка, оба ма­ териала имеют приблизительно одинаковый порог, однако образец р-типа обладает значительно более высоким квантовым выходом во всей измеренной области спектра. Разница в величине квантового

выхода объясняется Широм с точки зрения существования

в образ­

цах р-типа благоприятного изгиба зон у поверхности.

 

 

 

 

 

Для получения наибольшего увеличения квантового выхода фо-

тоэмисспи

за

счет изгиба зон необходимо, чтобы изгиб зон

происхо­

 

 

 

 

 

 

 

дил

на

минимальном

расстоянии

от

 

7 П

 

'

'

г

 

поверхности.

Это

условие

обуслов­

 

 

 

 

 

 

 

лено тем, что эффективное элек­

 

 

 

 

 

 

 

тронное сродство снижается за счет

 

 

 

 

 

 

 

изгиба

 

зон

только

для

тех

 

фо­

 

 

 

 

 

 

 

тоэлектронов,

которые

 

возбуждают­

 

 

 

 

 

 

 

ся

 

на

расстоянии

от

поверхности,

 

 

 

 

 

 

 

большем,

чем

ширина

области

изги­

 

 

 

 

 

 

 

ба

зон.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Германий. Фотоэмиссионные

 

ха­

 

 

 

 

 

 

 

рактеристики

Ge

во

многом

похо­

 

 

 

 

 

 

 

жи

 

на

 

характеристики

Si.

Как

и

 

 

 

 

 

 

 

в

случае

Si,

спектральные

характе­

 

 

 

 

 

 

 

ристики Ge различаются для образ­

 

 

 

 

 

 

 

цов,

приготовленных

разными

мето­

 

01

 

 

 

 

 

дами. Апкер и др. (Л. 266] и

Зур-

 

 

I

1

L ^ - J

ман и др. [Л. 267] использовали

испа­

 

1,5

2,0

2,5

3,0 зЗ

ренные

пленки

Ge.

Редфилд

и

Боум

Рис.

62.

Спектральные

ха­

[Л. 268]

использовали

кристаллы

Ge,

очищенные с помощью

бомбардиров­

рактеристики

квантового

ки

 

ионами

аргона

 

по

методу

выхода

фотоэмиссии

из

 

 

Фарнсворса (Л. 262], Хейимап [Л. 269]

силыюлегированных

 

кри­

 

и

Гобели

и

Аллеи [Л.

261]

изме­

сталлов

кремния р- и н-

типа

после

нанесения

по­

ряли квантовый

выход

монокристал­

верхностной

пленки

Cs

лов,

околотых

в

сверхвысоком

 

ва­

 

 

[Л.

264].

 

 

кууме.

 

учитывать

сильно

разли­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Если

 

 

 

 

 

 

 

чающиеся

методы

приготовления

образцов, кажется удивительным, что порог фотоэмиссии в приве­ денных экспериментах меняется только в пределах между 4,7 и 5,0 эв. Типичная спектральная зависимость квантового выхода фотоэмиссии по измерениям Хеннмана приведена на рис. 63. Видно, что

даже при /iv=6 эв квантовый выход

все

еще не

превышает Ю - 4 .

Если мы предположим, что величина

е

+ Еа)

равна

4,9

эв, и

используем для Eg общепринятую для

Ge величину

0,7 эв,

то

полу­

чим, что электронное сродство приблизительно равно 4,2 эв, т. е. отношение Eg к Еа очень низко. Этот факт, так же как и в случае Si, объясняет низкую величину квантового выхода фотоэмиссии из германия.

В экспериментах, подобных описанным для Si, измерялась фо­

тоэмиссия из кристаллов Ge с

поверхностной пленкой Cs

(Большов

и др. (Л. 270], Аллеи и Гобели [Л. 259]). При оптимальных

условиях

порог фотоэмиссии уменьшается

до

1,6 эв [Л. 259], а квантовый

вы­

ход при энергии фотонов выше

4,5

эв превышает 0,1 (Л. 259]. В

этих


экспериментах снова наолйдалась ксфреЛяция между увеличением

отношения

Ел

к Еа и увеличением квантового

выхода.

отличие от

Согласно

Аллепу и Гобелн [Л. 259] для

германия (в

кремния)

не

существует заметной разницы в величине

квантового

выхода для материала р- и «-типа. Поскольку квантовый

выход для

образцов р-типа оказывается немного выше, чем для п-типа, только в области фотонов с самыми низкими энергиями, Аллеи и Гобелн предположили, что при более высокой энергии фотонов глубина вы­ хода электронов значительно меньше, чем ширима области изгиба

 

5,2

6,0 эв

 

5,0

5,5

6,0 эв

Рис. 63. Спектральная ха-

Рис. 64.

Спектральная

харак-

рактеристика

квантового вы-

герметика

квантового

выхода

хода фотоэмисспи из герма-

фотоэмнесии

из

теллура

ни я

[Л. 269].

 

{Л.

266].

 

 

зон. Как отмечалось в связи с описанием фотоэмиссии из кремния, полностью используют благоприятный эффект изгиба зон только те фотоэлектроны, которые возбуждаются за пределами этой области.

Селен. Понг и Норрис [Л. 271] измеряли фотоэмиссию из пленок

Se в области длин волн ниже

2 ООО А. Они нашли, что порог

фото-

эмиссии

близок

к

6 эв, а

квантовый

выход

составляет

примерно

10

_ г вблизи 9 эв.

Принимая,

что ва)

« 6 эв, a Eg для Se

равна

2,3

эв *, получаем,

что £ 0 ~ 3 , 7

эв.

спектральная характеристика

кван­

 

Теллур. На рис. 64 приведена

тового

выхода

фотоэмиссин

 

из пленок

Те по

измерениям

Апкера

и др. [Л. 266]. Они получили,

что (Eg+Ea)

=4,9

эв. Предполагая, что

£ г = 0 , 3

эв, получаем, что £ „ = 4 , 6

эв.

Низкое

отношение

Eg

к Е а

снова объясняет малую величину квантового выхода в исследованной области спектра.

10-2. ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ СОЕДИНЕНИЯ ТИПА А3 В3

Арсенид галлия. Фотоэмиссия из QaAs исследовалась Арсенье- вой-Гейль [Л. 272, 273], Хеннманом (Л. 269] и Гобелн н Алленом [Л. 261]. В последних двух работах измерения были сделаны па мо­ нокристаллах, сколотых в вакууме в плоскости (ПО), однако резуль-

* Согласно [Л. 284*] Eg селена равна 1,8 эв. (Прим. перев.)


тэты, полученные в них, существенно различаются. Хепнман

получил

порог фотоэмиссии, равный 5 эв, и квантовый выход около

5 • Ю - 5

при 6 эв. Гобелн и Аллеи сообщили о величине

( £ g + £ „ ) ,

равной

5,47

эв, и квантовом выходе около 8- 10і при 6 эв,

как показано

на

рис.

65. (Разница в квантовом выходе не настолько

велика,

как

сле­

дует из приведенных величин, поскольку квантовый

выход .в (Л. 261]

рассчитан на число поглощенных, а не падающих

фотонов.)

 

 

Поскольку Гобелн и Аллеи, по-ви­ димому, скалывали своп кристаллы в лучшем вакууме и, кроме того, полу­ чили доказательство чистоты поверхно­ сти своих образцов с помощью метода дифракции медленных электронов, нх результаты относятся к более чистой по­ верхности GaAs. Если мы примем их ве­

 

 

 

 

 

 

личину (Eg+Ea),

 

равную

5,47

эв, и

 

 

 

 

 

 

известное

значение E g

= 1,4

эв,

мы

полу­

 

 

 

 

 

 

чим,

что

электронное

 

сродство

Еа =

 

 

 

 

 

 

=4,07 эв. Таким образом, GaAs является

 

 

 

 

 

 

еще одним материалом, в котором низ­

 

 

 

 

 

 

кий «вантовый выход фотоэмиссип свя­

 

 

 

 

 

 

зан

с малым отношением

Е е к Е а .

 

кри­

 

 

 

 

 

 

 

Исследования

фотоэмиссип

из

 

<hfi 5,0

5fi

5,8 зВ

сталлов

GaAs

с

поверхностным

слоем

 

Cs

привели

в

основном

к

тем же

ре­

Рис.

65.

Спектральная

зультатам, как и аналогичные исследо­

вания

на

Si. Однако они имеют

большое

характеристика

кванто­

практическое значение,

поскольку

могут

вого

выхода

фотоэмис­

привести

к

созданию

фотоэмиссионных

сии

из

GaAs,

рассчи­

материалов с более высоким квантовым

танная

на

число

погло­

выходом

в

ближней ИК области спектра,

 

щенных

фотонов

 

чем

Ag-0-Cs фотокатод

(см.

гл.

 

7) *.

 

 

[Л.

261].

 

 

 

 

 

Первая работа по исследованию этого

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

материала

была

выполнена Шпром и ван

Ларом

[Л.

274]. Ниже

приведены

основные

результаты

этой

ра-

боты.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Как

было

показано

в предыдущем

параграфе,

сильнолегироваи-

ные кристаллы Si р-типа с поверхностной пленкой Cs имеют порог фотоэмиссип, равный 1,4 эв. В этом отношении кремний не представ­ ляет собой исключения. При адсорбции Cs почти независимо от при­ роды материала подложки уровень Ферми на 'поверхности находится примерно на 1,4 эв ниже уровня вакуума. Если при этом использо­

вать сильнолегированный полупроводник р-типа, фотоны

с энергией

1,4 эв смогут возбуждать электроны

в вакуум из

валентной зоны.

Так же как в случае Si, фотоэмпссия

из валентной

зоны

определяет

значительно более высокий квантовый выход, получаемый на мате­ риале /О-типа, по сравнению с материалом п-типа.

В случае фотоэмиссии из Si /э-типа с поверхностной пленкой Cs квантовый выход в области фотонов с низкой энергией сравнительно мал вследствие того, что работа выхода равна 1,4 эв, и на 0,3 эв

* В настоящее время такие фотокатоды созданы на основе твердых растворов соединений типа А3В5, покрытых пленкой окиси цезия. Этот вопрос подробно рассмотрен в ряде обзооов [Л. 253*, 286*, 290*, 291*]. (Прим. перев.)


превышает

ширину запрещенной зоны. В результате

этого выйти

в

вакуум

могут только те электроны, которые достигают

границы

с

вакуумом с энергией,

равной по крайней мере 0,3 эв

относительно

дна зоны

проводимости. Однако если ширина запрещенной зоны

равна или превышает

1,4 эв, электронам, находящимся

в

зоне про­

водимости, не требуется дополнительной энергии для того, чтобы выйти в вакуум. Это означает, что выйти в вакуум могут и «термалпзоваииые», а не только горячие электроны. В результате этого глу­ бина выхода и, следовательно, вероятность эмиссии электронов ста­

новятся

очень

большими

даже

 

 

 

 

 

 

 

при

энергии

фотонов,

близкой

 

 

 

 

 

 

 

к порогу

фотоэмиссии. Можно

 

 

 

 

 

 

 

оказать,

что

такие

материалы

 

 

 

 

 

 

 

имеют

нулевое

или отрицатель­

 

 

 

 

 

 

 

ное

электронное

сродство.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Из

 

приведенных

выше

ар­

 

 

 

 

 

 

 

гументов следует,

что

полупро­

 

 

 

 

 

 

 

водники

 

р-типа с поверхност­

 

 

 

 

 

 

 

ной пленкой Cs должны обла­

 

 

 

 

 

 

 

дать

 

наибольшим

квантовым

 

 

 

 

 

 

 

выходом,

если £ f f ^ l , 4

эе. Од­

 

 

 

 

 

 

 

нако, поскольку порог фото-

 

 

 

 

 

 

 

эмиссии в этом случае опреде­

 

 

 

 

 

 

 

ляется

 

только

величиной

Eg,

 

 

 

 

 

 

 

очевидно, что мы получим фо­

 

 

 

 

 

 

 

тоэмиссию в

наиболее

длинно­

 

 

 

 

 

 

 

волновой

области

спектра, если

и і

і і

 

і

і

£

i _

Eg

точно

равно,

а

не

превы­

9000 5000

3000

A WOO

шает 1,4 эе. .Поэтому

GaAs, об­

 

 

 

 

 

 

 

ладающий

запрещенной

зоной

Рис. 66.

Спектральные

характе­

£ g = l , 4

 

эе,

является

наиболее

 

ристики квантового

выхода

фото­

подходящим

материалом

для

эмиссии

из

силыюлегированпого

получения

высокого

квантового

GaAs(Cs) /7-типа, рассчитанные

выхода

в

длинноволновой

об­

на число

падающих

(1)

и

погло­

ласти

спектра.

 

 

 

 

 

 

щенных

(2)

фотонов

[Л. 274].

 

Основываясь

на

 

приведен­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ных

.выше рассуждениях, Шир и

 

 

 

 

 

 

 

ван

Лар исследовали кристаллы

GaAs р-типа, легированные Zn

с кон­

центрацией 4- 101 э см~3 и обработанные цезием после скола в сверх­

высоком вакууме. Как видно из рис. 66,

теоретические предположе­

ния

полностью

подтвердились, и

был

получен

квантовый выход

 

 

 

 

 

о

~0,3

в видимой

области спектра

и около 0,08

при 8 000 А. Хотя

о

квантовый выход в области длин воли меньше 6000 А по порядку

величины

не отличается от значений,

характерных

для антимонидов

щелочных

о

более чем в

10 раз превышает

металлов, при 8 000 А он

квантовый выход Ag-O-Cs фотокатода, который до появления GaAs(Cs) материала был наиболее чувствительным фотокатодом для этой области спектра. Недавно Торнболл и Эванс (Л. 275] сообщили, что при нанесении поверхностной пленки окиси цезия на кристалл GaAs, сколотый в высоком вакууме, получается фотокатод, обладаю­ щий близкими фотоэмиссиоиными характеристиками, но большей ста­ бильностью в работе.

Следует сделать два замечания относительно GaAs(Cs) фотока­ тода. Во-первых, заслуживает внимания то обстоятельство, что, в то


время как все другие эффективные фотокатоды были открыты чисто эмпирическими методами, это первый фотокатод, созданный на основе фундаментальных принципов физики твердого тела. Во-вто­ рых, если бы желаемые свойства нового материала можно было по­ лучить, только используя поверхность монокристалла, полученную сколом в сверхвысоком вакууме, практическое использование GaAs(Cs) фотокатода было бы сильно ограничено. Из последних

экспериментов

(некоторые

еще не

были

опубликованы

во время

на­

писания

книги) следует, что использование

поверхностен, полученных

 

 

 

 

сколом в сверхвысоком вакууме, по-види­

 

 

 

 

мому, не

является

обязательным

[Л. 276].

 

 

 

 

Однако в настоящее время не имеется ни­

 

 

 

 

какой информации

о

возможности

приго­

 

 

 

 

товления фотокатодов в поликристаллнче-

 

 

 

 

ской форме, а также о полупрозрачных фо­

 

 

 

 

токатодах, которые требуются для исполь­

 

 

 

 

зования

в

сложных

 

приборах, таких,

как

 

 

 

 

фотоумножители

и

преобразователи

изо­

 

 

 

 

бражения

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Фосфид

галлия.

 

Фотоэмиссия

из

GaP

 

 

 

 

исследовалась

Фишером (Л. 277]. Он

прово­

 

 

 

 

дил измерения на монокристаллах, сколо­

 

 

 

 

тых в сверхвысоком вакууме в плоскости

 

 

 

 

(110). Исследования

 

относятся

в

основном

 

 

 

 

к

материалу,

покрытому

пленкой

Cs,

и я

 

 

 

 

[Л. 177] не приводится численных значений

 

 

 

 

(Ец + Е а )

или

квантового

выхода

 

чистого

Рис.

67.

Спектраль­

GaP.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Аналогично

Si,

GaAs

и

др.

образцы

ная

характеристика

 

GaP, покрытого Cs, имеют очень низкую ра­

квантового

выхода

боту выхода

(1,3±0,1

эв)

и очень

высокий

фотоэмиссни

из GaP

квантовый

выход.

При

энергии

фотонов

р-тнпа.

обработанно­

около 5 эв квантовый выход

в расчете па

го

Cs [Л. 278].

число поглощенных фотонов превышает 0,35

 

 

 

 

 

 

 

 

(соответствующая

величина,

рассчитанная

на падающий свет, примерно вдвое меньше). В сильнолегированных

образцах

р-типа благодаря изгибу зон у поверхности

высокий

кван­

товый

выход

достигается

и в области фотонов

с более

низкими

энер­

гиями

(Вильяме и Симон (Л. 278]). Однако вследствие большой ши­

рины

запрещенной

зоны

GaP

(Eg»2,24

эв)

высокую чувствитель-

ность

нельзя

получить в

 

 

 

 

 

о

отли­

области длин волн больше 5 500 А в

чие от высокого квантового выхода GaAs(Cs)

во всей

области

види­

мого

спектра

(рис. 67).

 

 

 

 

 

 

 

 

Антиионид галлия. Фотоэмиссня из GaSb, сколотого в сверхвы­

соком

вакууме в плоскости (ПО), была измерена

Гобели и Алленом

[Л.

261].

Исходя

. из

порога

фотоэмиссии,

они определили, что

(Eg+Ea)

 

=4,76 эв. Используя общепринятую величину для ширины

запрещенной

зоны

£ « = 0 , 7 0 эв,

'получаем,

что электронное сродство

£ „ = 4,06 эв.

Как и следовало ожидать для такого

малого отношения

Е е

к Е а , квантовый выход при энергии фотонов

около 6 эв не пре-

1 Этот «опрос рассмотрен в ряде обзоров [Л. 253*, 286*, 290*, 291*]. (Прим. перев.)