Файл: Минскер Ф.Е. Сборка полупроводниковых приборов учеб. пособие.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 24.07.2024
Просмотров: 122
Скачиваний: 0
Все перечисленные методы монтажа характеризуются общим технологическим процессом и строгой технологической последо вательностью: подготовка держателя и кристалла к монтажу, загрузка в технологическую оснастку, подготовка технологичес кого оборудования, проведение самих процессов монтажа со строгим соблюдением технологических режимов.
§ 9. Монтаж кристаллов пайкой
Кассетный способ пайки кристаллов рассмотрим на следую
щем примере.
В кассету (рис. 25), изготовленную из специальной стали (ча ще всего это нержавеющая сталь), помещают кристаллодержа тель 3, который фиксируется в ней с помощью штифтов. На
СВОИМ |
весом |
фиксирует крис- * — основание, |
2 — трафарет, |
3 — крпстал- |
|
талл В |
гнезде, |
улучшая Темса- |
кристалл, 7 — прокладка |
||
мим качество |
пайки. Так вы |
схема |
загрузки |
кассеты. |
|
глядит |
типичная технологическая |
После загрузки кассеты передаются на пайку. Пайку целесооб разно проводить в конвейерных печах, обладающих высокой производительностью (рис. 26). В отличие от печей периодиче ского действия, где в течение рабочего цикла происходят ста дии нагрева, выдержки в нагретом состоянии и охлаждения, в конвейерной печи кассета в течение рабочего процесса двигается по конвейерной ленте, проходит зону нагрева, выдержки и ох лаждения. Конструкция печидопускает распределение тем пературы вдоль рабочей зоны. Кассеты с загруженными в них арматурами для пайки устанавливают на ленту, скорость дви жения которой регулируется в соответствии с технологическими режимами. Печь может работать на водороде и на любом из инертных газов. При работе на водороде с обоих концов печи с помощью запальников поджигают факелы для сжигания водорода.
Возможна также пайка в печах периодического действия и в герметических скафандрах с контролируемой атмосферой, на пример, со средой аргона, который защищает поверхность спаи ваемых деталей от окисления. Печи периодического действия предназначены главным образом для экспериментальных работ и допускают быструю смену технологических режимов. При ис пользовании герметичных скафандров (в настоящее время изго товляются скафандры с ламинарным потоком воздуха) возмож
39
но размещать внутри них нагревательные устройства (плитки, столики) различной конструкции, отличающиеся незначительны ми габаритами. При этом целесообразно применять бескассетный
способ пайки структур.
Чрезвычайно важно при проведении пайки соблюдать режи мы: температуру и время процесса. Температуру контролируют ртутными и контактными термометрами, термопарами, а время,
восновном,— секундомерами.
Впоследнее время для проведения пайки находит примене
ние ультразвук, при этом наибольшее распространение получила
Рис. 26. Прямонакальная конвейерная установка
частота ультразвуковых колебаний около 60 кгц. Ультразвук разрушает окисную пленку и создает таким образом возмож ность контактирования чистых соединяемых поверхностей с припоем.
Любой из указанных методов пайки требует тщательной под готовки соединяемых поверхностей. Детали полупроводниковых приборов и кристаллы обезжиривают в растворителях: ацетоне, толуоле, четыреххлористом углероде и др., после чего их тща тельно сушат. Для удаления окисных пленок используют кис лотный или щелочной травитель, однако перед сушкой в этом: случае необходима промывка в дистиллированной воде.
40
Применяемые для пайки припои описаны в гл. II и IV. При контроле после пайки выявляют следующие дефекты:
качество посадки кристалла (рабочая сторона сверху или снизу), наплывы припоя (не более отмеченных в контрольной карте), недостаточную прочность крепления кристалла, наличие или отсутствие припоя на выводах прибора.
Могут быть и другие дефекты, которые, как правило, контро лируют по технологической документации. Некоторые дефекты можно устранить. Так, если кристалл легко отделяется от дер жателя, отвалился после пайки или при контроле, то возможно повторное проведение процесса. Однако, если дефект неиспра вим, то бракуется вся арматура.
§ 10. Монтаж кристаллов склеиванием
Прочность склеивания определяется величиной сцепления между клеем и склеиваемыми поверхностями материалов. По активности взаимодействия между клеевым материалом и склеи ваемыми поверхностями различают полярные (эпоксидные смолы и др.) и неполярные (полиэтилен, фторопласт, полистирол и др.) материалы. Полярные материалы следует склеивать по лярными клеями, а неполярные — неполярными клеями.
Инертные материалы (фторопласт, полиэтилен) перед склеи ванием требуют специальной обработки. При склеивании необ ходимо избегать возникновения напряжений после отвердения, клеевого шва, так как в противном случае при эксплуатации клеевого соединения, особенно в условиях тепловых ударов, тер мических циклов и динамических нагрузок, клеевой шов может расслаиваться, растрескиваться и разрушаться вследствие раз ности коэффициентов линейного термического расширения ма териалов.
Для получения прочного и надежного в эксплуатации клеево го соединения следует учитывать следующие факторы.
Смачиваемость — непременное условие склеивания материа лов, так как смачиваемость и сцепление материалов находятся в прямой зависимости.
Подготовка поверхности к склеиванию — качество поверхно сти оказывает большое влияние на прочность склеивания. Кро ме механической подготовки поверхности, часто используют хи
мическую обработку, оксидирование |
и анодирование (металлы |
и сплавы). |
поверхностях всегда воз |
Обезжиривание — на склеиваемых |
можны загрязнения, поэтому перед склеиванием их необходимо удалить с поверхности, промывая ее растворителями (толуол,
•спирт, ацетон и т. д.). После обезжиривания детали выдержива ют на воздухе или (чаще) в установках с повышенной тепературой до удаления растворителя.
Удаление растворителя из клеевой пленки до отвердения клеевого шва, так как большинство клеевых композиций пред
41
ставляют собой растворы синтетических смол в растворителях или их смесях. Неполное удаление растворителей из клеевой пленки приводит к резкому снижению прочности соединения в результате пористости и появления усадочных напряжений пос ле отвердения клеевого шва.
Давление при склеивании — необходимо почти для всех типов клеев. Величина давления зависит от состава клея и определя ется в основном способностью его к растеканию.
Толщина клеевого слоя в полупроводниковой технологии час то ограничивается заранее заданными величинами. Установлено, что с увеличением толщины клеевого шва прочность склеивания падает.
Отвердение клеевых композиций в зависимости от условий технологических процессов производства и конструкции прибо ра проводится различными способами и происходит при повы шенных температурах.
Наиболее употребимые клеи и клеевые композиции, приме няемые для монтажа кристаллов, приведены в табл. 4.
Т а б л и ц а 4
Некоторые клеи и клеевые композиции, применяемые для монтажа кристаллов
|
|
Режим сушки |
||
Марка |
Состав клея |
|
Примечание |
|
клея |
°С |
|||
|
Время, ч |
К-400 |
Смола Т—III— 100 |
18—23 или |
48 |
или |
|
|
Нитрид |
бора — 60 |
|||
К-350-öl |
Смола Л—20—60 |
80—100 |
2—3 |
||
Смола Т—Ш—100 |
18—23 или |
48 |
или |
||
|
Нитрид |
бора |
|||
|
Смола Л-20—40-4-50 |
80-100 |
■2—3 |
||
ВК-4 |
Раствор |
феиольно- |
200 |
|
5 |
ВК-8 |
кремнийорганнческой |
|
|||
|
композиции в органи |
|
|
|
ческом растворителе с минеральным напол нителем
Сохраняет проч ность при термокомпрессионноп сварке (270°С в течение 40— 60 мин)
Сохраняет проч ность при температу ре термокомпрессноиной сварки до 320° С в течение 40— 60 мин
Для конструкций, которые не эксплуатируются при высоких температурах, можно рекомендовать клей холодного отвердения
на эпоксидной основе, например, эпоксидная смола |
ЭД-5 (или |
ЭД-6) с аминным (полизтиленполиамин — ПЭПА) |
или кислот |
ным (фталевый, малеиновый ангидриды) отвердителем. |
|
Весьма стабильные результаты получены при использовании |
клея ВК-2, представляющего собой раствор кремнийорганической смолы в органическом растворителе с мелкодиспергированным асбестом в качестве активного наполнителя. Им склеивают кремний, кремний алюминированный и золоченый, вольфрам, вольфрам золоченый, керамику, керамику золоченую, молибден,
42
ковар, ковар золоченый, никель, никель золоченый. При этом соединения сохраняют необходимую прочность — до 50 кГ/см2
при 350° С до 1000 ч\ 15—25 кГ/см2 при 1000° С до 5—8 мин.
Типичный пример приклеивания кристаллов к арматуре при веден на рис. 27. Кристаллы 1 приклеивают на керамическое ос нование 3 клеем 4, который наносят кисточкой.или распылением. Приклеивание производят либо в кассетах в тех случаях, когда материал клея требует применения внешнего давления, либо бес-
/
4 3
Рис. 27. Арматура с приклеенными кристаллами:
I — кристаллы, 2 — внешние выводы, 3 — керамическое основание, 4 — клей
'кассетным методом. В последнем случае собранная арматура (кристаллодержатель 2 и кристаллы) направляется на обработ ку при повышенных температурах (если применены клеи не хо лодного отвердения). .
§ К . Монтаж кристаллов сплавлением
При монтаже кристаллов в корпус применяют кассетный и бескассетный способы сплавления.
По существу физических явлений, происходящих в контакте кристалла с металлом корпуса, сплавление можно отнести к пай ке, так как две поверхности соединяются под действием третье
го материала — легкоплавких смесей |
(эвтектик), например эв |
||||||
тектики |
золото — кремний, |
имеющей |
температуру плавления |
||||
377° С, эвтектики золото — никель — |
|
||||||
титан — кремний и др. |
|
рассмот |
|
||||
Кассетное |
сплавление |
|
|||||
рим на следующем примере. На |
|
||||||
медный кристаллодержатель (рис. |
|
||||||
28) с гальванически нанесенным зо |
|
||||||
лотом |
прнплавляется |
кристалл |
с |
|
|||
омическим |
контактом |
титан — ни |
|
||||
кель. После |
|
загрузки |
кассеты кри |
|
|||
сталлодержателями и кристаллами |
|
||||||
(загрузка производится только в |
|
||||||
напальчниках во избежание загряз |
|
||||||
нения кассеты и всех деталей, под |
|
||||||
готовленных для операции) она по |
|
||||||
мещается |
в |
трубчатую |
камеру. |
Рис. 28. Кристаллодержатель: |
|||
Крышку вакуумной камеры закры |
/ — диск, 2 — прокладка, 3 — коль |
||||||
цо, 4 — припой, 5 — держатель, б — |
|||||||
вают и откачивают систему |
(на |
ра |
кристалл |
43