Файл: Евдокимов, В. Д. Экзоэлектронная эмиссия при трении.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 19.10.2024

Просмотров: 90

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

зало, что затухание эмиссионной способности свежеобразованной по­

верхности металла происходит и при отсутствии кислорода. Было

так ­

же установлено, что без длинноволновой подсветки (400-300 нм )

ни­

какой эмиссии на металлах не наблюдается [ 34-37], а глубокое

охлаж­

дение поверхности почти полностью прекращает эмиссионный процесс,

несмотря на чистоту поверхности металла,

активный га з и

подсветку

[ 3 4 ] .

 

 

 

 

Так

как нормальный

фотоэффект для 'AI

и Zn должен был наблю­

даться

лишь при длинах

волн, короче 2920 А, то в данном

случае эмис ­

сия представляла собою "индуцированный фотоэффект" (термин Краме ­ ра) . По-видимому, многие авторы не учитывали рассеянный свет, ко ­ торый мог обусловить эмиссию. Предположение о химической природе экзоэлектронной эмиссии не потеряло своего значения и в настоящее время, его используют авторы сравнительно недавно опубликованной работы [47] ,

Гипотеза, объясняющая экзоэлектронную эмиссию понижением рабо­

ты выхода электрона из металла при окислении. Изучая

экзоэлектрон­

ную эмиссию на монокристаллах цинка,

Грунберг

и Райт

[48] пришли :

к заключению, что зачистка металлов

образует

места с

пониженной

работой выхода, из которых эмиттируют электроны. Понижение работы выхода, по их мнению, происходит за счет перемешивания окисла и металла при зачистке. Эксперименты, устанавливающие понижение ра ­ боты выхода электрона из металла при взаимодействии с активными газами (кислород, галогены), описаны в работах [49-52]. Подробные сведения об этих экспериментах собраны в работе [53], автор которой рассматривает эмиссию из покрытых окислами термо- и фотокатодов как незатухающую форму экзоэлектронной эмиссии. Следует отметить, что понижение работы выхода происходило только после определенной термической активации - прогрева оксиленной поверхности в вакууме. При прогреве кислород внедряется под верхний слой металла. Образу­ ющийся на поверхности двойной электрический слой 0~ - М е + снижает поверхностный потенциальный барьер. Если же не производить акти­ вации, то адсорбция электроотрицательных газов всегда повышает потенциал'поверхности. Так как экзоэлектронная эмиссия наблюдается в нормальных атмосферных условиях, без подобной термической акти­ вации, то приведенные выше взгляды не объясняют ее природу.

В.Шаффс [ 54] несколько видоизменяет объяснение эффекта. Его и з ­ мерения поверхностного потенциала при постепенном окислении метал ­ лической поверхности показали периодическое изменение работы выхо­ да электрона по мере наращивания окисных слоев. Зачистка поверхно­ сти приводит .к появлению царапин, трещин в окисном слое. Под дейст­ вием периодически изменяющихся полей на стенках трещин возможно появление холодной эмиссии. Предложенный Шаффсом механизм эмиссии хорошо объясняет эффекты при зачистке окисленных поверхностей, но

неприменим для случаев взаимодействия

свеженапыленных

слоев

метал ­

ла с кислородом. Как было установлено

Лоффом [ 3 3 ] , одной зачистки

поверхности для возникновения эмиссии

мало, необходимо

еще и

при­

сутствие кислорода.

 

 

 

8


Попутно отметим, что эмиссия электронов наблюдалась при дробле­

нии и раскалывании неметаллических кристаллов

[ 55],

при отрыве пле­

нок полимера от стекла [56, 57]

и т.д. Энергия

электронов

оказалась

очень высокой: от 3 эв [58] до

104

эв [ 5 7 ] . В

описанных

опытах в о з ­

буждение эмиссии происходило без подсветки и

присутствия

кислорода.

По-видимому, механизм снижения работы выхода электрона за счет

сильного заряжения поверхности,

как

частный случай

автоэлектронной

эмиссии-эффекта Малтера, применим только к диэлектрикам.

Модель электрически заряженной микрощели. Модель предложена

для объяснения экзоэлектронной эмиссии с окисленной

поверхности м е ­

талла и разработана группой польских исследователей,

возглавляемой

Суякрм [59-69]. С помощью этой модели удалось объяснить многие особенности экзоэлектронной эмиссии, возникающей в процессе пласти­ ческой деформации окисленного алюминия.

Стенки трешин, образующихся

при растяжении образца, электричес­

ки заряжены. Дно щели покрыто

переходным слоем AI —А12 03

у к о ­

торого предполагаются полупроводниковые свойства и малая работа

выхода электрона. С высокоэнергетических локальных уровней

(ловушек)

переходного слоя электроны эмиттируют в щель. По мере опустошения ловушки вновь заполняются туннелированием электронов из металличе­ ской подложки. Однако выходу электронов из трещин мешает попереч­ ное электрическое поле. Поэтому эмиссия наблюдается при определен­ ном соотношении между шириной щели В и толщиной окисла D. Отсю­ да и объяснение того экспериментального факта, что эмиссия наблю­ дается, начиная с определенной степени деформации, и зависит от тол­ щины окисла. Параметр B/D является мерой эмиссионной способности. Кроме того, становится понятным, как подсветка и внешнее электриче­ ское поле, перпендикулярное поверхности металла, уменьшают началь­ ную деформацию, при которой становится возможной эмиссия.

Действительно, оба этих фактора облегчают выход электрона из ще—, ли. Подобная модель была подтверждена лишь опытами на пластически деформированном алюминии, на других металлах такие эксперименты не проводились. Более поздние исследования тех же авторов на образцах из никеля и алюминия заставили их несколько видоизменить модель, предположив, что электроны эмиттируют не со дна, а со стенок микро­ щели [66,67] . Таким образом, наметился возврат к представлениям Шаффса [ 5 4 ] . Следует подчеркнуть, что в рассмотренной выше модели остаются совершенно неясными основные звенья. В первую очередь это относится к механизму заполнения и опустошения ловушек в переход­ ном слое и к строению энергетических зон самого переходного слоя. Возможно, что эффект экзоэлектронной эмиссии на пластически дефор­ мированных образцах алюминия и магния объясняется особым строени­ ем энергетических зон переходного слоя металл-окисел.

Гипотеза, объясняющая экзоэлектронную эмиссию как процесс, управ­

ляемый диффузией вакансий к поверхности.

Гипотеза предложена в 1959 г.

-для объяснения

эмиссии, наблюдаемой при

зачистке металлических по­

верхностей [ 70

] . При зачистке или деформации образца в поверхност­

ном слое металла и окисла создаются вакансии.

Вакансии, не захва­

ченные дислокациями или порами внутри металла,

могут диффундиро-

9



вать к поверхности. При выходе

на

поверхность

вакансия

аннигилирует

с выделением энергии Е у .

Если

до

деформации

подсветка

не вызывает

эмиссию электронов, так как hu < q> (где hu - энергия кванта, а

<р —

работа выхода электрона),

то после

зачистки поверхности

эмиссия

воз ­

никает. В последнем случае суммарная энергия вакансии и светового кванта становится достаточно большой для возбуждения эмиссии

t v + nu > ф .

Механизм диффузии вакансий, объясняющий природу экзоэлектронной эмиссии, получил развитие в дальнейших работах [45, 71-73]. Особенно интересна работа [71], в которой сопоставляются изменения во време ­ ни экспериментально найденной интенсивности экзоэлектронной эмиссии

1= А е " М + В е - к = '

 

 

 

 

 

(1.3)

и теоретически

выведенной

плотности потока

вакансий

через поверх­

ность твердого

тела

 

 

 

 

 

 

 

 

г

 

 

 

 

 

 

 

 

1= 2 C n e - * n D t ,

 

 

 

'

(1.4)

 

п=1

 

 

 

 

 

 

 

 

где

А, В

и С -

 

начальные

интенсивности, К,,

К ,

и Л

- константы;

D -

коэффициент

диффузии;

t -

время.

 

 

 

 

Если

принять,

что третий и

последующий члены

в уравнении

(1.4)

пренебрежимо малы по сравнению с предыдущими членами, то эмпири­

ческое (1.3)

и теоретическое

(1.4) уравнения

находятся

в хорошем

согласии. Кроме того, константы

затухания экспоненциальных членов

в уравнениях

(1.3) и (1.4) имеют одинаковую

температурную

зависи­

мость

 

 

 

 

 

 

К = F e - E / R T , D = D 0 e - E / R T ,

 

 

 

 

где Е - энергия активации;

R -

универсальная

газовая

постоянная;

Т - абсолютная температура.

 

 

 

 

 

При всей

изящности описанной

выше гипотезы ее авторы

совершен­

но не учитывают, что для возбуждения экзоэлектронной эмиссии необ­ ходимо постоянное присутствие кислорода. Поэтому в последующих ра ­ ботах [ 25, 74], в которых проверялась эта гипотеза, подвергается сомнению механизм переноса вакансий как основной фактор, объясня­ ющий экзоэлектронную эмиссию. Было отмечено, что скорость з а т у х а ­ ния экзоэлектронной эмиссии обусловлена взаимодействием окружающего газа с поверхностью металла, и кинетика экзоэлектронной эмиссии опре­ деляется не дрейфом вакансий, а адсорбционно-окислительными процес­ сами. Поэтому для объяснения механизма экзоэлектронной эмиссии предложена компромиссная гипотеза, по которой вакансии дрейфуют к поверхности и, достигнув ее, становятся центрами адсорбции или окис­ ления [45] При этом высвобождается потенциальная энергия, связан-

10


ная с вакансией. Но такая точка зрения возвращает нас к гипотезе хемоэмиссии с той лишь разницей, что вакансия оказывается инициа­ тором окислительного процесса.

Другой подход к решению вопроса о взаимосвязи экзоэлектронной эмиссии и деформационных дефектов, возникающих после механической обработки металлов, намечен в работах [75-78]. Показано, что дефор­

мация поверхностных

слоев металлов приводит к изменению работы вы ­

хода электрона. Если

при облучении светом с энергией квантов,

близкой

к порогу фотоэффекта

металла, эмиссия не наблюдается, то она

может

возникнуть после деформации в связи с уменьшением работы выхода. После деформации со временем происходят упорядочение кристалличе­ ской решетки металла, дрейф к поверхности и аннигиляция вакансий;

работа выхода восстанавливается до прежнего уровня, а эмиссия

зату ­

хает. Такая модель удовлетворительно объясняет

особенности экзоэлек­

тронной эмиссии, обусловленной

деформационным

возбуждением,

но т р е ­

бует

дополнительных предположений для объяснения влияния темпера­

туры

и состава атмосферы на ход эмиссионного

процесса.

 

Гипотеза Грунберга и Райта

(оже-механизм

экзоэлектронной

эмиссии).

Изучая с помощью узкополосных

фильтров спектральную

зависимость

фотоэффекта с поверхности металлов в воздухе,

Грунберг

и Райт

[79]

обнаружили эмиссию фотоэлектронов в длинноволновой области за крас ­

ной границей. Хотя работа выхода алюминия и цинка составляет

4,25 эв,

сильный эмиссионный^ пик был обнаружен Hja 4700 8

(2,64 эв) и

мень ­

шие пики - на 5200 А и между

6000-7000 А. По мнению авторов,

эти

эмиссионные пики обусловлены

дефектами

кристаллической

решетки р а с ­

тущего окисла. В частности, пик на 4700 А они связывали

с возбужден­

ными

F'-центрами (вакансия кислородного

иона, занятая

двумя

электро­

нами). Поглощенный квант света возбуждает один из электронов. В

этом случае прямая эмиссия невозможна,

так как электрону необходи­

мо еще преодолеть потенциальный барьер,

обусловленный энергией срод­

ства

окисла к электрону. Но энергия возбужденного

F'-центра

может

передаться путем прямого взаимодействия (подобного оже-эффекту) ка ­

кому-нибудь

мелкому центру или поверхностному состоянию,

находящему­

ся недалеко

от F'-центра. Этой энергии будет достаточно

для эмиссии

электрона из неглубокого центра.

 

 

 

 

 

Оже-механизм эмиссии электронов из полупроводников и диэлектри­

ков

получил

развитие в работе

 

[80 ], Следуя представлениям

авторов

этой

работы,

можно объяснить

многие

особенности

экзоэлектронной

эмиссии. Показано, что эмиссия

возможна лишь для тех

кристаллов,

у которых ширина запрещенной

 

зоны Е э

больше энергии

сродства к

электрону

X . При рекомбинации

электрона с дыркой

высвобождается

энергия,

примерно равная Е 3 ,

которая

может быть

передана

другому

электрону двухзарядного или близко расположенного центра. В этом

случае электрон может эмиттировать, и после преодоления

наружного

потенциального барьера его энергия будет приблизительно

равна E 3 - \ '

Такой механизм выброса электронов объясняет возможность темновой

эмиссии и большую энергию экзоэлектронов. Значительные энергии,

порядка 2-8

эв, которыми обладают экзоэлектроны [ 81-83],

 

пока не

объясняются

другими гипотезами.

 

 

 

 

 

11