Файл: Микроминиатюризация высокочастотных радиоустройств..pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 30.10.2024
Просмотров: 38
Скачиваний: 0
МИНИСТЕРСТВО ВЫСШЕГО И СРЕДНЕГО СПЕЦИАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ РСФСР
РЯЗАНСКИЙ РАДИОТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
МИКРОМИНИАТЮРИЗАЦИЯ
ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ
РАДИОУСТРОЙСТВ
Р Я З А Н Ь 1973
/ '
МИНИСТЕРСТВО ВЫСШЕГО И СРЕДНЕГО СПЕЦИАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ РСФСР
РЯЗАНСКИЙ РАДИОТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
МИКРОМИНИАТЮРИЗАЦИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ РАДИОУСТРОЙСТВ
Под редакцией п.В.Коробейникова и А.Ф.Цветкова
Рязань 1973
УДК 621.396.6 - 181.48:621.382.81
Авторы: В.И .Дьячков, П.В.Коробейников, Ю.Н.Кобцева,
,Г.М.Мельников, И.А.Миннигулов, В.И.Паречин, А.С.Семин ,
Ю.М .Суслов, А.Ф .Цветков, Ю.В.Швадчак.
Л?
Вкниге излагаются вопросы конструирования выоокочастот
ных гибридных пленочных микросхем кварцевых генераторов,
усилителей и фильтров, работающих в диапазоне до 1 Ггц , и
устройств, содержащих эти функциональные узлы. Приводятся требования к конструкции пассивных элементов гибридных пленочных микросхем, их частотные свойства и методика рас чёта, особенности разработки топологии и конструкции высокочастотных функциональных узлов и устройств. Книга написана на основе обобщения литературных сведений и результатов выполненных авторами исследований по различным направлениям микроминиатюризации узлов высокочастотных радиоустройств. Книга предназначена для инженерно-техниче ских работников, специализирующихся в области конструиро вания высокочастотной микроэлектронной аппаратуры, и сту дентов вузов специальности "Конструирование и производ ство радиоаппаратуры".
Одобрено методическим Советом Рязанского радиотехни
ческого института 29 декабря 1971 года.
© Рязанский Радиотехнический институт, 1973 г .
3
ПР Е Д И С Л О В И Е
Впоследние года исследованиям и разработкам функцио
нальных узлов и устройств, работающих на высоких и сверх высоких частотах, в гибридном пленочном исполнении уделяет ся оообое внимание. Это объясняется известными преимущества ми конструкций интегральных гибридных пленочных устройств по сравнению с аналогами на дискретных элементах, а именно малыми размерами, весом и повышенными частотными пределами интегральных пленочных устройств, достигаемыми существенным уменьшением влияния паразитных параметров.
Современная технология гибридных пленочных интегральных схем обеспечивает изготовление их элементов с сосредоточен ными параметрами, размеры которых составляют весьма малую долю длины волны генерируемого или усиливаемого оигнала.
Поэтому распределенные реактивности пленочных катушек инду ктивности, резисторов, диэлектрического слоя пленочных кон денсаторов получаются пренебрежимо малыми, не оказывают влияния на работу этих элементов.
Разработанные к настоящему времени гибридные интеграль ные пленочные усилители, генераторы* фильтры, построенные на использовании пленочных элементов с сосредоточенными ,
параметрами, по качественным показателям сопоставимы с • аналогичными устройствами на дискретных элементах. Уровень'
их •выходной мощности ограничивается типами.примененных
"транзисторов, а верхняя граничная частота определяется воз можностью изготовления пленочных элементов о наименьшими'
размерами.
4
Однако при разработке гибридных интегральных пленочных схем метрового и дециметрового диапазонов приходится преодо-.
левать трудности, обусловленные схемными, конструктивными и технологическими причинами. Основными из них является сл е -
дугацие.
1 . Паразитные параметры элементов устройств соизмеримы с параметрами самих элементов. Параметры устройств во многом определяются их конструкцией и топологией входящих в устрой ства пленочных микросхем. Их анализ и расчёт могут быть вы
полнены только приближенно. Поэтому требуемые характеристики устройств достигаются их тщательной экспериментальной отра боткой.
2 . Параметры элементов схем устройств, подтвержденные на макете с дискретными элементами, обязательно должны подвер гаться коррекции с учётом всех паразитных реактивностей,
определяемых топологией разрабатываемой микросхемы.
3 . Ограниченная номенклатура высокочастотных бескорпусных активных элементов (транзисторов) обусловливает их использо вание в предельных по частоте и мощности режимах.
4 . Получение больших добротностей колебательных контуров сопряжено с усложнением технологии пленочных микросхем.
( Для успешной разработки гибридных пленочных устройств СВЧ диапазона необходимо комплексное (совокупное) решение схемных, конструкторских и технологических вопросов, что требует от разработчиков обязательных знаний в области схемотехники функциональных узлов, конструирования и техноло гии интегральных пленочных ВЧ и СВЧ устройств.
5
Так, топология функциональных узлов должна разрабатывать ся с учётом физики работы схем и технологии их изготовления.
При расчётах элементов пленочных схем, при разработке топо логии и технологических процессов изготовления пленочных узлов необходимо учитывать требования обеспечения параметров узлов в пределах заданных допусков. При разработке конструк ции корпусов UB4 устройств необходимо учитывать то , что они выполняют функции электромагнитных экранов, радиаторов и защиты устройств от механических воздействий.
В периодической научно-технической литературе имеются публикации, посвященные отдельным частным вопросам разработ ки интегральных пленочных схем . Однако многие вопросы кон струирования микроминиатюрных СВЧ радиоустройств в- литерату ре не получили пока достаточного отражения.
В данной книге сделана попытка систематизированного и достаточно полного рассмотрения и изложения сведений по кон струированию интегральных гибридных пленочных функциональных узлов и устройств, работающих в диапазоне до £ Г гц . Книга написана на основе обобщения литературных данных и результа тов выполненных авторами исследований по разным направлениям микроминиатюризации высокочастотных радиоустройств.
Глава первая посвящена конструкциям и методике расчёта элементов высокочастотных гибридных пленочных микросхем.
Во второй, третьей и четвертой главах изложены вопросы конструирования гибридных пленочных высокочастотных усилите лей, кварцевых генераторов и фильтров.
6
Глава пятая посвящена общим вопросам конструирования
высокочастотных устройств, разработки топологии микросхем,
защиты устройств от воздействия внешних факторов и повышен ной температуры.
В главе шестой рассматриваются особенности расчёта допу
сков в гибридных пленочных высокочастотных устройствах.
Без ущерба существу излагаемых вопросов в книге вместо
часто употребляемого термина "интегральная пленочная гибрид ная схема" используется более короткий термин "пленочная
гибридная микросхема". |
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
Книга написана авторским коллективом в составе: |
|
|||||||
В.И.Дьячкова (главы I , III и § |
3 |
гл .У ) , |
П.В.Коробейникова |
|||||||
(главы I и Ш), Ю.Н.Кобцевой |
(§ |
3 ,4 г л .І ) , |
Г.М.Мельникова |
|||||||
(§ |
1 |
7 г л .І , |
§ 2 гл.Ш ), И.А.Миннигулова |
(§ |
2 ,4 |
г л .У ) , |
В .И .Па- |
|||
речина (§ |
4 .г л .І У , г л .У І ) , А.С.Семина |
( § |
2 |
г л .І |
и |
§ 1 г л .У ) , |
||||
Ю.М.Суслова ( г л .ІУ ) , А.Ф.Цветкова (главы II, |
ІУ , |
У І ) , |
||||||||
Ю.В.Швадчака (глава П ). |
|
|
|
|
|
|
|
|||
|
|
Чертени, рисунки и надписи в тексте выполнили В.В.Величко |
||||||||
и В.И.Шароченков. Работу по |
оформлению и подготовке рукописи |
|||||||||
к печати выполнила О.П.Скорюкова. |
|
|
|
|
|
І
?
Глава первая. ЭЛЕМЕНТЫ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ ГИБРИДНЫХ ПЛЕНОЧНЫХ МИКРОСХЕМ
1 . КОНСТРУКЦИИ И РАСЧЕТ ПЛЕНОЧНЫХ КОНДЕНСАТОРОВ
Емкость контурных конденсаторов ВЧ радиоустройств, как правило, не превышает ІОО пф, а емкость блокирующих, филь
трующих и переходных конденсаторов не превышает 2000-3000 пф.
Наиболее распространенные конструкции пленочных конденсато
ров, применяемых в усилителях ВЧ, изображены на р и с . І . І . В
конструкции конденсатора р и с . І . І , а используется тонкая плен
ка диэлектрика, напыленная в вакууме через маску. Этот кон денсатор целесообразно применять при значении емкостей не менее 5-10 пф, так как при изготовлении конденсаторов этого типа емкостью меньше 5 пф резко возрастают технологические погрешности.
Конденсатор, изображенный на р и с . І . І , б , имеет в качестве
диэлектрика материал подложки. Этот конденсатор обладает зна чительными размерами вследствие малой величины диэлектриче ской проницаемости материала подложки. Его емкость в реаль ных схемах целесообразно ограничить величиной 10-20 пф. На р и с .1 ,1 ,в показана конструкция "дифференциального" конденса тора, в котором диэлектриком служит также материал подложки.
Конденсаторы, образованные двумя пленочными проводниками
( р и с .І .І ,г ,д ) , употребляются в схемах, где требуются |
емкости |
|
величинойI |
от нескольких долей пикофарады до 2-3 пф. |
При |
|
( |
Про- |
больших величинах ёмкости они имеют большие размеры. |
8
Р и с . I . I . Конструкции пленочных конденсаторов,
применяемых в ВЧ микросхемах,
а ,б |
- |
трехслойные; в - дифференциальный; |
г ,д |
- |
образованные двумя пленочными проводниками; |
е - |
матричный; 1 - обкладки, 2 - диэлектрик, |
|
3 - |
подложка. |
9
странство между двумя проводниками может |
заполняться |
пленкой |
||
.диэлектрика, что несколько |
увеличивает удельную емкость. |
|||
"Матричный" |
конденсатор |
( р и с .1 ,1 ,е ) |
может иметь |
величину |
емкости от 4-6 |
пф до нескольких десятков |
пикофарад. |
Применя |
ется он -в качестве подстроечного.
А) Трехслойные пленочные конденсаторы ( р и с .І .І ,а ,б ) .
Влиянием краевого эффекта на величину емкости конденсато ров данного типа можно пренебречь, если толщина диэлектрика
значительно меньше линейных размеров обкладок. Для определения
величины емкости правомерно применение формулы:
C - C y fl- S ,
где Суд - удельная емкость, приходящаяся на единипу площади S перекрытия обкладок.
Если в конденсаторе в качестве диэлектрика применяется
моноокись кремния, а обкладни-из алюминия, величину добротно
сти |
Qn |
|
|
можно подсчитать по формуле , |
полученной эксперимен |
||||
тально: |
|
|
|
Q. = |
к- |
1.2-ІО 5 |
|
|
|
где |
|
|
|
|
|
/ С |
|
|
|
|
к |
|
= 1 ,0 МГц«п$; |
|
|
|
|||
|
|
С |
- |
частота, МГц; |
|
|
|
||
|
|
/ |
|
|
|
|
|||
Формула |
|
|
- емкость, пф. |
|
частот 10-150 МРц для’ конден- |
||||
|
справедлива в диапазоне |
||||||||
саторов |
|
емкостью 50-1000 пф, с удельной |
пф |
||||||
|
емкостью 5000-І0000смг |
||||||||
и толщиной |
|
обкладок около 500 |
нм. |
|
|||||
|
Зависимости изменений добротности пленочных трехслойных |
||||||||
конденсаторов показаны на р и о .1 .2 и 1 .3 . |
' |