Файл: Хокс П. Электронная оптика и электронная микроскопия.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 09.04.2024

Просмотров: 96

Скачиваний: 2

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

228

Глава 4

 

так что отношение сигнала к шуму

возрастает линейно

сувеличением угла раствора электронного зонда 0 .

Электронные линзы формируют уменьшенное изобра­

жение кроссовера электронной пушки, размеры которого

вопределенной степени возрастают вследствие дифракции,

атакже сферической и хроматической аберрации. Если учитывать среднеквадратичную величину общего воздейст­ вия всех указанных факторов, то диаметр электронного зонда d будет определяться следующим соотношением:

d“- - —i—с?с —1— а , (4.10)

где ds — CSQ312 (в плоскости, несколько смещенной отно­

сительно точного положения плоскости изображения); do = Сс0ДФ/Ф; dd = 1,22А,/0.

Обозначив количество строк на изображении через N, уравнение (4.7) можно решить относительно р. Для этого

заменим в нем множитель 25 множителем 100 и исполь­ зуем выражение (4.8); в результате получаем уравнение

<«■«>

Подставив минимальное значение р в уравнение (4.10),

получим

 

d2 = aO"2 -f-p0a-f-Y06,

(4.12)

где а описывает эффекты, обусловленные дифракцией и шу­ мом; р — хроматическую аберрацию и у — сферическую аберрацию. Размер зонда d будет проходить через мини­

мум в том случае, когда производная функции, исполь­ зуемой для его определения, по 0 будет равна нулю. Это будет иметь место при условии, что

е —[ - n + y + i w y v

(4.,3)

Если это значение 0 установлено, то соответствующее ему значение диаметра зондового пятна будет равно размеру наименьшей детали объекта, которая может быть разреше­ на с помощью растрового электронного микроскопа. На фиг. 4.5 приведены типичные значения различных пара­ метров, соответствующих следующим условиям работы прибора: Т = 2800 К, / 0 = 2-104 А/м2, АФ = 15, Ф =


 

Растровая

электронная

микроскопия

229

= 20

кВ, В /А В = 10,

Cs = 100

мм (электростатическая

линза)

и Cs = 20 мм (магнитная линза), Сс =

50 и 8 мм.

Кривые фиг. 4.5 показывают, что при соответствующем практически приемлемом времени сканирования можно ожидать достижения разрешаемого расстояния пример­

но 1 0 нм.

Выше были рассмотрены основные оптические части растрового электронного микроскопа. Так же, как и про­ свечивающий микроскоп, кроме этих частей растровый

Время, с

Ф и г. 4.5. Дшшотр зонда d , ток пучка и угол 0 как функции вре­

мени сканирования для электростатической и магнитной линз для различных значений числа строк развертки N [711.

-------- электростатическая л и н з а ; ------------

магнитная линза.

микроскоп должен иметь дополнительные устройства, например для создания вакуума внутри прибора и предот­ вращения механической вибрации. На фиг. 4.6 представле­ на конструкция растрового электронного микроскопа высокого класса, обеспечивающего возможность формиро­ вания электронного зонда диаметром 5—10 нм. На фиг. 4.7 показаны фотография и схематический чертеж промыш­ ленного образца растрового электронного микроскопа.


27

Ф и г. 4.6. Разрез растрового электронного микроскопа высокого разрешения [72].

1 — исследуемый объект; 2 — светопроводящая трубка из перспекса к фото­ умножителю; 3 — коллектор электронов; 4 — полюсные наконечники послед­ ней линзы; S — обмотка последней линзы; 6 — впускной клапан; 7 — анти­ вибрационное устройство; 8 — каркас колонны микроскопа; 9 — апертурная диафрагма; 10 — обмотка второй линзы; 11 — полюсный наконечник второй

линзы;

12 — обмотка

первой

линзы; 13 — юстируемая

первая

апертурная

диафрагма; 14 — анод

пушки,

перемещаемый в горизонтальной

плоскости

и по

высоте; 15 — антивибрационное устройство;

16 — термокатод;

17 — венельт; 18 — отклоняющие пластины для сканирования;

Ю — полюс­

ный наконечник

первой линзы; 20

— апертурная диафрагма; 21 — патрубок

для присоединения диффузионного насоса;

22 — вакуумный

клапан; 23

экраны из муметалла; 24 — отклоняющие

катушки для

сканирования;

25 — сильфон;

26 — стигматор;

27 — юстируемая конечная

апертурная

диафрагма.


Растровая электронная микроскопия

233

связи между яркостью изображения и наклоном поверхно­ сти объекта позволил обнаружить наиболее интересный результат, заключающийся в том, что при определенных условиях на конечном изображении можно наблюдать трехмерный эффект. При этом картина оказывается точно такой же, как и картина, которую мог бы увидеть вообра­ жаемый наблюдатель, смотрящий из электронной пушки на поверхность исследуемого объекта, освещаемую источ­ ником света, помещенным на детекторе.

Как уже упоминалось, часть первичных электронов (т. е. электронов, излучаемых пушкой и падающих на объект) будет отражаться поверхностью объекта, и они также могут быть использованы для формирования изо­ бражения. Этот способ формирования изображения особен­ но целесообразно применять при исследованиях, прово­ димых с целью выявления изменений атомных номеров

(Z) химических элементов, входящих в состав исследуе­ мого объекта. Правда, в этом случае, количество вторич­ ных электронов также в определенной мере зависит от Z.

Однако преимущество способа формирования изображения

с

помощью

отраженных

первичных электронов

состоит

в

том, что

количество

этих электронов строго

зависит

от атомного номера. Часть отраженных первичных элек­ тронов определяется так называемым коэффициентом обратного рассеяния. Зависимость этого коэффициента от атомного номера Z для ускоряющего напряжения, рав­ ного 30 кВ, представлена на фиг. 4.8, а. Как видно из

фиг. 4.8, б, коэффициент обратного рассеяния слабо зависит от величины ускоряющего напряжения первич­ ного пучка электронов.

Имеется целый ряд различных типов веществ, обладаю­ щих тем иптереспьш свойством, что вблизи их поверхности существует электрическое или магнитное поле. Эти поля могут быть либо естественными (как в случае ферромаг­ нитных материалов или сегнетоэлектриков), либо искус­ ственно созданными (например, в случае таких полупро­ водниковых устройств, как транзисторы). Распределение напряженности или потенциала указанных полей можно наблюдать непосредственно на изображении, которое фор­ мируется в растровом электронном микроскопе посред­ ством вторичных электронов, так как эти электроны будут


•234

Глава 4

выходить из объекта под углом, зависящим от локальной напряженности поля. Если детектор чувствителен к изме­ нениям углов выхода электронов (что может быть достиг-

г

Ф и г. 4 .8 . Зави си м ость коэф ф ициента обратн ого

р ассея н и я

от атом ­

ного ном ера Z при 30 кВ (а)

и от

уск оря ю щ его

н ап ря ж ен и я

(6) дл я

ря да

элем

ентов [4].

 

 

нуто путем расположения перед ним диафрагмы с малым отверстием или узкой щелью), то изменение яркости вто­ рично-электронного изображения будет соответствовать

Растровая электронная микроскопия

235

распределению напряженности (или потенциала)

поля

на поверхности. Например, ферромагнитные материалы состоят из мозаики магнитных доменов, отделенных друг от друга доменными перегородками, и изменения магнит­ ного поля от одного домена к другому можно наблюдать непосредственно. Аналогия между ферромагнитными веществами и сегнетоэлектриками состоит в том, что последние обладают постоянным электростатическим моментом или поляризацией (аналогично постоянным магнитам, обладающим магнитным моментом или намаг­ ниченностью). Однако источники указанных свойств весьма различны. При температурах ниже определенной температуры перехода некоторые атомы смещаются отно­ сительно их прежних положений в решетке, что вызывает нарушение локальной (но, разумеется, не общей) элек­ трической нейтральности. Положительно или отрицатель­ но заряженные ионы образуют диполи, благодаря чему возникает электрическое поле, картину которого можно непосредственно наблюдать на вторично-электронном изо­ бражении. Типичными и наиболее хорошо изученными

сегнетоэлектриками

являются титанат

барйя ВаТЮ3

и титанат свинца

PbT i03, имеющие

кристаллическую

структуру перовскита. Сегнетоэлектрическими свойства­ ми обладают также соль Рошеля и целый ряд фосфатов и арсенидов (KH2P 0 4, RbH2P 0 4, KH 2A s04, CsH2A s04).

Поверхностное электрическое поле может возникать в тех случаях, когда различные участки объекта находятся под разными потенциалами. При этом имеется возмож­ ность непосредственного наблюдения отдельных областей транзистора. Особенно остроумная методика была раз­ работана для изучения характера изменения распределе­ ния потенциала в микросхеме, на которую подается пере­ менный сигнал. Если объект облучается электронным зондом не непрерывно, а отдельными импульсами, и если частота этих импульсов равна частоте подаваемого на микросхему переменного напряжения, то при этом будет достигнут стробоскопический эффект; в каждый данный момент времени на изображении будет видно распределе­ ние напряжения по поверхности объекта. Распределение последовательных точек цикла переменного тока можно наблюдать благодаря изменению разности фаз между сиг­