Файл: Строение и свойства стеклокристаллических материалов на основе горных пород и шлаков (г. Чимкент, 8-10 октября 1974 г.) [сборник статей] 250-летию АН СССР посвящается.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 128

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

ного

разложения обуславливается

тек ,

что

в присутствияSO-

( 6) значительно снижается температура достижения расплавом

истинно-жидкого состояния.

В

результате

 

этого серосодержащий

расплав является более перегретый по отношению к температуре

ликвидуса

системы и поэтому менее структурированным. Умекьше-

.иие

единиц

вязкого

течения

в

присутствии

-ГО^ способствует ин­

тенсивному

снижению

вязкости

системы 2()

и

кэк следствие

это­

г о ,

согласно соотношению

Д-<>

=const.

,

повышению подвижнос­

ти

всех ионов.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким

образом, высокоосновные расплавы системы CaO

- $ ;0 2 -

a i2o-

-

являются мало-структурированными жидкостями, со -

держащими простейшие кремнекислородные, алюминатные и железис­ тые анионы. Изменение кислотно-основных свойств системы нару­ шает динамическое равновесие между различными координационны­ ми формами амфотерных яатионов и для его восстановления необ­ ходимо повышение доли тетраэдрических или октаэдрических ио - вов в зависимости от природы введенного катиона.

Л и т е р а т у р а :

1 . А.П.Осокин, Ю.Ы.Бутт, В.В.Тиыашев, Труды МЗСГИ, 72, 108,1973.

2 . Е.М.Бутт, В.В.Тимашев, А.П.Осокин. Вязкость высоко-основ - ных расплавов системы СаО - $102 - A^O-j - Г е ^ . Статья авторов в настоящем сборнике.

3 . В.И.Малкин, С.Ф.Хохлов, А.А.Шварцман. КФХ, 31., 2485, 1957;

ДАН СССР, 106, 491, 1956.

4 . В.В.Тимашев.,

Е.М.Бутт. Поверхностное натяжение и плотность

высокоосновных алшоферросилнкатных расплавов. Статья авто­

ров

в настоящем сборнике.

 

 

 

5 . Г.Б.Бойкий. Кристаллохимия. Изд. МГУ, I960 .

 

6. Л.А.Годович.

Новое в науке и технике

о цементе. Гипроцемент,

61,

1955.

 

 

 

 

 

В,...Ф0КИН, A.U„КАЛИНИНА, В.Н.ФИЛИПОВИЧ.

 

СКОРОСТЬ

ЗАРОКДЕНйН -КРИСТАЛЛОВ В

Л ^ О

-

СаО -

 

СТЕКЛЕ И

ЕЁ ЗАВИСИМОСТЬ ОТ ВРЕМЕНИ БАРКИ

СТЕКЛА.

Исоледованне зависимости скорости

зарождения кристаллов

в объеме отекла

от температуры представляет большой интерес

для производства онталдов. Тонкодиоперснооть

кристаллов в си-

27


таллах

достигается

 

пре доварите льк ой

термообработкой

стекол в

области

температур,

где велика скорость зарождения кристаллов

и мала

скорость их

роста. Для рационального выбора температу­

ры

предварительной

 

термообработки

(ПТ) важьо

знать

форму и по­

ложение

температурного

максимума

скорости

зарождения кристал­

лов

основной фазы

в

стеклах , определяющей

заданные

свойства

сита плов.

 

 

 

 

 

 

 

 

В

работе р /

было

показано,

что температура максимума

скорости зарождения

Т т

кристаллов

дисипиката

пития

в стекле

стехиометрического состава совпадает с температурой стеклова­

ния

 

 

. Предполагалось,

что

близость

температур

Т т и

Ту дол­

жна

быть

характерна и для стеноп других систем и составов.

 

Для

проверки

этого

предположения было выбрано

трехкоыпо-

кентное

стекло

системы Л ^ О -

СаО -

6i02 ,

являющейся

составной

частью многих ..рактичесних стекол и ситаллов. Выбор состава

стекла

40

/ / a20 ,I 0

CaJ,50

S i02(Bec./S)

был

обусловлен

также

и

тем,

что

зародившиеся в нем кристаллики растут в форме сферояи

тов.

Это

значительно упрощает математическую обработку экспе­

римента.

Креме

того , именно

для

данного

состава

стекла в

рабо­

те / 2/

была установлена

большая

чувствительность

нристзплизаци

онной способности к режиму варки стекла. Последование влияния условий Езрки стекла на скорость зарождения кристаллов предс­ тавляет практический к теоретический интерес. Оно также входи­ ло в задачу нашей работы.

Стекла варили в платиновом тигле в сипитовой'печи пр:; температуре 1500°С в течение I , 10, 20 чао. Закаленные стекла подвергали предварительной термообработке (ПТ) в течениеtm х 10, 20, 50 мин. в области температур эндотермического эффекта

кривых ДТА, примерно через

каждые

Ю°С. Во время

ПТ в

объеме

 

стекла,

согласно

рентгенофааозоыу анализу, шло зарождение кри­

сталлов

тройного

силиката

состава

2

Wa2 СаО 3$<02 .

Зти

крис­

 

таллы затем "проявлялись"

при более

высокой температуре Т

я

560°С, где достаточно велика скорость роста кристаллов ( с^еро­

лытов) и мала скорость

их

зарождения.

 

 

 

 

 

Число сфе роли тов

в единице объема

отекла

после проявле­

ния определялось по формуле: п вNs/&2R

/ 3 / ,

где

Л » - число

сечений сферопитов на шлифе площадьюS,

И -

радиус

сфероли-

тоь,

равный максимальному значению радиуса

сечения

оферолитов

плоскостью шлифа для какого-либо момента времениt . Uu пола­

гали,

что число сферопитов,

выросших за

время

проявления ,р а в -

28


Рис. 2 . Зависимость числа зародившихся сферолитов в единице объема сте­

кла от времени ПТ для стекол

с

различным временем варки I -

1час,

2 - I O час., 3 - 2 0 час.

 

Рас. I . Зависимость приведенной скорости зарождения сферолитов ( 1 /1 т ) от температуры для сте­

кол с различным временем варки. I-I час,2-20 час.


но

числу

криоталлов,

зародившихся

в

процессе ПТ.

 

 

 

 

Скорость

зарождения

сферблитов

Т

( Тлт Тпт, ) определя­

лась

как

J - dn/dtm

-

тангенс

угла

наклона

зависимости чао-

л а

зародившихся сферолитов в единице

 

объема от

времениtm .

Точность определения -.'корости зарождения составляет

не

более

20/о,

точность

определения температуры

не более

5°С.

На

рис. I

представлены кривые зависимости приведенной скорости зарожде­

ния

сферолитов

J / l m

 

01 температуры

Т «=Тпр ,

Для

обоих сте­

кол

с временем

варки

I

и20

чао. эти зсллсиыости практически

одинаковы

и

хают вид

крива* с максимумом при

Tm =

48$°С и ши­

риной 90°С,

причем J

m

=t '

(Tm }

= 10^

мм“ ^мин“ ^

Темпера­

тура

Tm совпадает

с

температурой

минимума зчдотйик и на

кри­

вой

ДТА,

но

превышает

 

температуру

стеклования

Ту =

^60° С

на

2543. Ту.определялась дилатометрически, причем излом на кривой

лиЬейтого

расширения

был

очень слабо выражен. Температура Tm

на

зтой кривой

совпадает

с температурой начала течения отекла.

На

гривой

ДТА

Ту отвечает началу эндотермического минимума

(как и должно

быть,

если

считать, что эндотермика вызвана уве­

личением теплоемкости и поглощением тепла при релаксации струк­

туры стекла при его размягчении

/ 5

/ ) .

В работе Д / указывалось,

что

при приближении к Ту со сто­

роны более высоких температур свободная энер1ия активации стру­

ктурных

перестроек Щ,

( ф й -

возможно,

совпадает

со свобод­

ной энергией

активации

вязкого

течения

Фу ) в выражении

для*

1 »Я »рГ-(Ф я+Ф *)/А Т ],

Ф*Ч6-ггС3/ Н

^

) г

 

(I)

 

быстро

растет и достигает

больших значений в

области Т^

(высо­

кая

вязкость

с текл а ).

Это

может быть причиной

того ,

что

макси­

мум

скорости

зарождения будет лежать'вблизи

Ту. ,

Tm 5

Ту .

Кроме

ф д

и, в то же время, благодаря большим значениям

(или

Фу ) ,

возможен

рост

энергии упругих напряжений в стекле,

который приводит к росту барьера на пути образования кристал­

лического аародыша Ф * , как

за счет уменьшения выигрыша сво—

х ) Эти данные,как и данные

по влиянию длительности ПТ на ско­

рость зарождения (см. ниже)

не совпадают с данными работы2 / /,

в которой отмечается резкое уменьшение кристаллизационной спо­ собности такого же по составу стекла по мере увеличения време­ ни его варки. Возможно, это связано с иными условиями варки стекла.


бодной энергии

A f кристаллизации

из-за

разницы в молярных объ­

емах

стекла и

кристаплз, так а

за

счет

увеличения поверхнос­

тной

энергии б

из-за затрудненности

(высокая вязкость) реа­

лизации наиболее выгодных взаимных ориентаций структурных эле­ ментов в стекле на границе кристалл-стекло. Это танка должно

способствовать

тому,

что

Tm

$

 

Тд

, если упругие

на пряхе нил

не успевают

ре лансировать

(за

счет

вязкого

течения)

за

время

зарождения

кристаллического

зародыша.

скорости

зарождения c ie -

Перейдем

к

проблеме

зависимости

ролитоз

от

времени варки

стекла

и

от

времениtor

.

На

р и с .2

 

приведены

кривые

П

( tn r

)

для

зремеии

варки

t &

=

I ,

10,

20

час. при

1500

С.

Для tnr

от

0

до

30

мин. какого-либо влияния

времени

варки

на

скорость

зарождения

кристаллов

обнаружено

не

было-в пределах точности эксперимента. Именно для этого интер­

вала времени ПТ и определялась скорость зарождения,

приведен­

ная на рис. I .

Однако,

по

мере

роста tnr, зависимостьn (tm )

начинает

отличаться

 

от

прямолинейной в

сторону

уменьшенияП ,

т . е . уменьшается I

= d n / d t „ T ,

причем

"перелои"

наступает

при 1пт

= 2 ,4 , 6

час.

для

t » =

1,1С,2П ч а с .,

соответственно.

Наиболее

вероятным

нам

представляется

еле дувшее

обьлснепке'.За-

рождеиз

кристаллов

2

А ^ О ' С а С Ь з Qg наиболее быстро

идет в

объеме стекло на некоторых активных центрах -

областях,

где

барьер Фя + Ф *

на

пути

образования

зародышей

наименьший.Это

могут быть, в. донном

случае, например, полуамор*ные

или

аморф­

ные,

но не рассосавшиеся

остатки

продуктов

реакции

з

твердой

я а з е ,

"границы

раздела1» эз'г

между

частицами

этих

продуктов и

окружающим стеклом,

имеющим

несколько

иной

состаз,

чем

ати

частицы.

Пусть М -

число активных

центров,

J - г о

типа

в

едини­

це объема

стекла,

а ;

-активности

центров,

определяемые

как

вероятности зарождения кристаллика на этом центре за единицу

времени.

Тогда,

очевидно, (эта задача была рассмотрена,

напри­

мер,

в

/ 6

/ , где

учитывается

также и влияние

захвата

активных

центров

растущими кристаллами)

 

 

 

 

 

 

I = £ I ;, - l ^ d H i / d t x - N i a i t

 

 

 

 

 

 

 

 

Л;

 

/ л ; Ж ) ]

'

(2)

 

где Xi

~ онорооть зарождения

кристаллов *на

центрах i

- г о

ти­

па,

rij

-

чиопо

крио та длин ов,

зародившихся

на

центрах

i за вре­

мя

t

 

 

 

 

 

 

 

 

51