Файл: Радиотехнические системы в ракетной технике..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 182

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

волн, при других углах падения коэффициент отражения резко возрастает.

Простейшая схема РПП интерференционного типа представляет собой резонансный поглотитель, состоящий из гомогенного слоя диэлектрика, наложенного на защищаемый металл. Толщина слоя диэлектрика, его диэлектрическая постоянная и тангенс угла ди­ электрических потерь могут быть выбраны такими, что коэффи­ циент отражения на некоторой, наиболее вероятной волне будет равен нулю. При этом наибольшее отклонение частоты падающей волны от резонансной частоты поглощаемого излучения не должно превышать (без значительного понижения эффективности погло­ щения энергии) ±5% .

6.4. Многослойные интерференционные покрытия

Поглощающая способность многослойных покрытий иихдиапазонность существенно зависят от количества слоев, толщины слоев и электрических параметров используемых материалов.

Рис. 6.3. Изменение коэффициента отражения г

для двухслойной поглощающей структуры интер­ ференционного типа

Рассмотрим поглощающую способность многослойных структур, состоящих из чередующихся диэлектрических слоев (без потерь) и тонких поглощающих пленок.

Для двухслойной структуры зависимость коэффициента отра­ жения от частоты при почти перпендикулярном падении волны

225

показана на рис. 6.3. Коэффициент отражения г обращается в нуль при входной проводимости второго слоя ys= 1 для

Х0=

4]/" ■d),

[б-14]

где А0— максимальная длина

волны при

г= 0;

ех— диэлектрическая проницаемость диэлектрика; <ф — толщина диэлектрика.

Рис. 6.4. Изменение коэффициента отражения г для трех­

слойной поглощающей структуры интерференционного типр (параметры РГ1П приведены в табл. 6.1)

Входная

проводимость второго

слоя

 

 

yS = Z 0 а 2

^2 )

[6.15]

где а2— электропроводность полупроводящего

слоя;

d2 — его

толщина.

 

6.3 структура мо­

Иначе говоря, при Х = Х0 показанная на рис.

жет применяться как поглощающее покрытие. Однако применение ее вследствие очень узкой частотной характеристики весьма огра­ ничено (только для РЛС, работающих на одной частоте).

Изменение коэффициента отражения для трехслойной структу­ ры приведено на рис. 6.4. Введение дополнительного диэлектри­ ческого слоя (с13, ез) позволяет получить нужное согласование на

226


двух частотах, расширяя тем самым полосу поглощения радио­ волн. В этом случае входная проводимость второго слоя

Уз =

На основе результатов расчета (табл. 6.1) можно сделать вы­ вод о том, что структуры с малыми значениями диэлектрической проницаемости дают «лучшие кривые» коэффициента отражения (рис. 6.4), требуя в то же время и наибольшей толщины, прибли­ зительно равной Хмакс/4 (где Хмакс— наибольшее значение длины волны в заданном диапазоне работы средств РПД).

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а 6.1

 

Характеристики

трехслойных поглощающих

структур

 

№ кривой

61

£3

diAo

ЙзАо

d/Xo

 

на рис. 6.4

y’s

1

2.04

2

0,14

0,141

0,281

1,83

2

6.94

3

0,076

0,116

0,192

2,52

3

12,8

4

0,0423

0,1

0,1423

3,11

4

1,0

2,14

0,176

0,113

0,28

1,68

5

3.0

3

0,0961

0,0961

0,192

2,00

6

11,25

5

0,0497

0,0742

0,124

2,5

7

1,08

3,5

0,1205

0,0668

0,1873

1,56

8

2,22

5

0,084

0,0558

0,1398

1,67

9

3,06

6

0,0714

0,051

0,1224

1.71

Расчет коэффициента отражения для пятислойной структуры уже достаточно трудоемок. Относительно простое решение полу­ чается в случае равенства оптических и геометрических толщин всех диэлектрических слоев. При этих условиях возможно согла­ сование входной проводимости структуры с волновой проводимо­ стью пространства для длин волн: Х = Хо, Х = Хо/2, Х = Хо/3. Особен­ ностью этой структуры является 0 2 > 0 4 . При отражении энергии около 2% (или 14,1% по полю) отношение верхней предельной длины волны к нижней должно быть равным 4:1, а общая тол­ щина структуры при этом составит Хмакс/4. Зависимость коэффи­ циента отражения от длины волны для пятислойной структуры приведена на рис. 6.5а и в табл. 6.2.

Т а б л и ц а 6.2

Характеристики пятислойной поглощающей структуры

Si -- ®3 -- ®5

2

4

diAo

d/X0

ys

ys

1,76

1.634

0,683

0,0943

0,283

227


1

2

3

Отношение Х0/А

а

5

Рис. 6.5. Изменение коэффициента отражения для поглощающих структур интерференционного типа:

ипятислойного (параметры РПП приведены в табл. 6.2); б — семислойного (пара­

метры РПП приведены в табл. 6.3)

228

Для семислойных структур (требуемое согласование при длинах

волн =

где к=1, 2, 3, 4) при одинаковых величинах е и d ди­

электрических слоев отражение электромагнитной энергии во всем диапазоне волн практически меньше 1 % по мощности. Отношение верхней критической волны к нижней составляет 5,6 (2% по мощ­ ности) при общей толщине структуры немногим более ХМакс/4

(рис. 6.56, табл. 6.3).

 

 

 

 

Т а б л и ц а 6.3

 

Характеристики семислойной поглощающей структуры

 

6]

4

4

у!

di/^o

d/A„

1,43

1,534

0,622

0,374

0,0823

0,335

Экспериментальные значения коэффициента отражения для се­ мислойной структуры показаны на рис. 6.6 (диэлектрические слои — пенопласт с добавкой алюминиевой пудры, поглощающие

Рис. 6 .6. Коэффициенты отражения семислойного РПП по экс­ периментальным данным (электрическое поле параллельно плоскости падения, угол падения 15° и 45°)

слои — 0,02 мм твердая пленка, покрытая коллоидным графитовым раствором).

В заключение следует сказать, что интенсивность отражения электромагнитной энергии многослойными поглощающими струк­ турами зависит также от угла падения волны, ее поляризации и максимально допустимой рабочей температуры материала. Ти­ пичная зависимость отраженной мощности от угла падения и по­ ляризации электромагнитной волны показана на рис. 6.7.

229



Величину поглощаемой энергии, зависящей от максимально до­ пустимой рабочей температуры РПП, обычно характеризуют мак­ симальной плотностью поглощаемой энергии, которая составляет:

— для обычных радиопоглощающих поверхностей без воздуш­ ного охлаждения 0,155—0,465 вт/см2;

— для специальных РПП — до 1,55 вт/см2;

— для особо теплостойких РПП на основе пенокерамики — до

7,55 вт/см2.

Рис. 6.7. Зависимость отраженной мощности от угла падения излучения для широкодиапазопного радиопо­ глощающего материала

Охлаждение РПП со стороны маскируемого объекта увеличи­ вает количество поглощаемой энергии.

Покрытия, с обратной стороны которых обеспечена циркуляция воздуха, могут работать при температурах от —60 до +650° С.

6.5. Резонансные РПП интерференционного типа (с дипольными решетками)

Наиболее перспективными с точки зрения весовых и габарит­ ных характеристик являются резонансные покрытия интерферен­ ционного типа. Напомним, что прототипом простейшего интерфе­ ренционного покрытия является двухслойная структура, состоя­ щая из диэлектрика и резистивной пленки (рис. 6.3) с входным сопротивлением нормально отражающей поверхности 377 ом. Экви­ валентная схема двухслойной структуры (одноконтурного погло­ тителя) приведена на рис. 6.8а. В схеме постоянное сопротив­ ление пленки R включено параллельно входу однородной линии

длиной - 1°— . Входное сопротивление г короткозамкнутой линии

с волновым сопротивлением V Т

равно

С одной стороны, диапазон работы такого РПП может быть расширен за счет введе­ ния, например, дополнительно­ го диэлектрического слоя пе­

ред

двухслойной

структурой

и

обеспечения

согласования

на двух частотах. При этом общая толщина покрытия ( ~ Хмакс/4) определится наи­ большим значением длины вол­ ны в заданном рабочем диапа­ зоне. Дальнейшее расширение диапазона поглощаемых ча­ стот ведет к увеличению тол­ щины РПП и соответственно

кувеличению его веса.

Сдругой стороны, для рас­

ширения

частотного

диапазо­

на указанной выше схемы РПП

однородную

 

 

резистивную

пленку

можно

 

заменить

ре­

шеткой

из

одинаковых

дипо­

лей,

ориентированных

парал­

лельно вектору

электрического

поля. Эквивалентная схема в

этом

случае изменяется: по­

стоянное

 

 

сопротивление

R

(рис.

6.8а)

нужно заменить по­

следовательным

 

контуром

R,

L,

С

(рис. 6.86),

сопротивле­

ние

потерь

которого

опреде­

лится

омическим

сопротивле­

нием

дипольных

элементов

и

постоянной решетки; замк­

нутая

линия

заменена

парал­

лельным

резонансным

конту­

ром R', L', С'.

 

 

 

 

 

 

Входная

проводимость ли­

нии

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

ctg

 

 

 

[6.17]

где

 

 

 

<Д _

>-о

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

«о

 

X '

 

 

 

 

Проводимость

параллель­ и нпнэжпйшо шнэпппффеоу

ного

резонансного

контура

и

 

 

0,05,

$

от частоты: 0 = 0,68, d/A.„ =

а Отношение Х0/К

резонансного РГ1П

0,35, Ь',Л = 0,035, / Д

.8. Зависимость коэффициента отражения

схема; б — двухконтурная схема (А. = 3 см, аг,л„ =

 

Рис. 6

одноконтурная

231