ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 21.07.2024
Просмотров: 94
Скачиваний: 0
Поскольку сжимаемость вакансий существенно боль ше сжимаемости атомов, действующее на кристалл все стороннее внутреннее давление приводит к возникнове нию упругих напряжений на вакансиях, что определяет эффекты их взаимодействия друг с другом и с примес ными атомами.
Интересно, что под влиянием моновакансий может происходить сжатие базисной плоскости в графите. Ос новной причиной этого явления считают связанное с при сутствием вакансий изменение междуатомных связей а слоях графита.
§ 4. Образование точечных дефектов при пластической деформации
Существует несколько механизмов, по которым в процессе пластической деформации металла образуются точечные дефекты. Если движущиеся навстречу друг другу в соседних атомных плоскостях положительная п отрицательная дислокации встречаются и при этом об разуется полная атомная плоскость, то происходит анни гиляция дислокаций без остатка. Это было показано на
рис. 14. Если |
ж е встречающиеся |
дислокации разделены |
одной целой |
плоскостью, то после |
их аннигиляции обра |
зуется цепочка вакансий. Наконец, при встрече дисло
каций в одной и той ж е плоскости возникает |
цепочка |
|||||
межузельных атомов, ориентированная так же, |
какце |
|||||
почка вакансий |
в предыдущем |
случае. |
|
|||
При таком механизме образования точечных дефек |
||||||
тов в сильно |
деформированных |
структурах образование |
||||
внедренных атомов является более вероятным |
процес |
|||||
сом, поскольку все большее число дислокаций |
начинает |
|||||
перекрываться, тогда |
как |
число |
цепочек вакансий будет |
|||
уменьшаться |
по |
тем |
ж е |
причинам. |
|
Теоретические оценки показывают, что атомная доля точечных дефектов, образованных по указанным меха низмам, пропорциональна величине пластической дефор мации образца с коэффициентом пропорциональности 10-4 -н10-5 .
Цепочки вакансий, полученные при встрече дислока ций, могут распадаться. Так, в базисной плоскости гек сагональных металлов цепочка вакансий < 1 0 1 0 > мо-
ж ет распадаться, ка к это показано на рис. 25, на дива-
кансии, ориентированные в направлении < 1 1 2 0 > . Другой путь образования точечных дефектов во вре
мя пластической деформации — это генерирование ва кансий быстро движущимися дислокациями со ступень-
Р и с . 25. |
Распад цепочки |
вакансии в направлении |
|
<1010> |
плоскости |
(0001) |
на дивакансии, ориенти |
рованные в направлении <1120> той же |
|||
|
|
плоскости |
|
ками (цугом). Н а этот |
механизм указывалось в разделе, |
посвященном дислокациям. Отставание атомов' ступень ки происходит в силу динамической неустойчивости. Су ществуют т а к ж е другие механизмы образования точеч ных дефектов.
При деформировании металла в области высоких тем ператур устанавливается стационарная неравновесная концентрация вакансий, пропорциональная скорости де формирования и времени релаксации вакансий. Количе-
ство |
избыточных |
вакансий может на несколько поряд |
|
ков |
превышать |
равновесную |
концентрацию. |
Любопытно, |
что скачки |
деформации, наблюдаемые |
при растяжении монокристаллов цинка в интервале тем ператур 18—100°, сопровождаются кратковременным увеличением электросопротивления образцов. Этот эф фект объясняется интенсивным образованием в полосе скольжения точечных дефектов, которые затем анниги лируют иа дислокациях.
§ 5. Образование точечных дефектов при закалке
Скорость установления равновесной концентрации то чечных дефектов определяется средним расстоянием
между источниками |
дефектов |
и стоками, где эти |
дефек |
ты могут погибнуть, |
а также |
энергией активации |
и тем |
пературой. При повышении температуры равновесие уста навливается быстрее, чем при понижении, поскольку подвижность дефектов и их число изменяются с темпера турой по экспотенциалыюму закону. В определенных условиях при повышении температуры скорость установ ления новой равновесной концентрации дефектов будет определяться, в основном, температурой, а не расстоя
нием источник-сток и энергией активации. При |
низких |
|||||||
температурах, |
напротив, |
главную |
роль |
играют |
энергия |
|||
активации |
и |
геометрия |
диффузионных |
путей. |
|
|||
При |
низких |
температурах концентрация |
днвакансий |
|||||
может |
быть |
па |
несколько |
порядков |
меньше, |
чем |
концен |
трация моиовпкаиспй. По мере повышения температуры скорость возникновения днвакансий начинает преобла дать над скоростью возникновения моновакаисий, и кон центрация днвакансий может достигнуть 1% от числа
моновакансий. |
Поскольку |
энергия образования меж |
|||
узел ытых атомов |
намного больше, чем энергия образо |
||||
вания |
вакансии, |
концентрация межузельных атомов в . |
|||
экспериментах |
с |
закалкой |
пренебрежимо |
мала . |
|
Наилучшие условия для получения большой концен |
|||||
трации |
вакансий |
и небольшого процента |
обьеднненпых |
дефектов получаются при использовании большой ско рости охлаждения образцов. Однако с большой ско ростью охлаждения связано т а к ж е появление термиче ских напряжении, которые могут вызвать пластическую деформацию металла. Дислокации, которые могут воз-
6 |
81 |
никнуть в процессе пластической деформации образца, в свою очередь, могут быть источниками или стоками для точечных дефектов. Д л я того чтобы избежать осложне ний, связанных с появлением в образце дополнительных стоков и источников в виде дислокаций, закалку нужно проводить в условиях, исключающих пластическую де
формацию |
металла. |
|
|
|
|
|
Как правило, |
чистый |
эксперимент |
с закалкой может |
|||
быть проведен |
в очень |
узких диапазонах |
температур, |
|||
скоростей |
охлаждения |
и размеров |
образца. |
|
||
§ 6. Образование точечных дефектов при облучении |
||||||
Способам производства точечных |
дефектов |
закалкой |
||||
и пластической |
деформацией свойственны |
ограничения. |
||||
В первом случае образуются, в основном, |
вакансии. Во |
|||||
втором случае образующиеся точечные дефекты |
сущест |
венно связаны с дислокациями. Облучение является наи более универсальным способом производства точечных
дефектов, т. |
к. |
позволяет |
получать вакансии и внедрен |
ные атомы |
в |
разных |
количествах и равномерно по |
объекту. |
|
|
|
Энергия частиц, особенно заряженных, в значитель ной мере затрачивается на ионизацию и электронное воз буждение. З а р я ж е н н ы е частицы отдают ядрам только
1 |
1 |
|
ТОО ~^ТШб |
часть своей энергии, расходуя остальную |
часть на возбуждение электронов. Однако ниже некото рого критического значения скорости движения (или энергии) большая часть энергии частиц расходуется на упругие столкновения с ядрами.
Выше подробно рассматривался вопрос о радиацион ных повреждениях в решётке применительно к различ ным типам частиц. В этой главе мы только вернемся к исключительно в а ж н ы м вопросам взаимодействия излу
чения с плотными |
направлениями решетки и с |
дислока |
|||||
циями. |
|
|
|
|
|
|
|
Облучение в |
направлении |
плотных |
рядов |
атомов, |
|||
если и не увеличивает числа дефектов, |
то, |
по |
крайней |
||||
мере, создаются |
более |
«стабильные» |
пары |
Френкеля, |
|||
увеличивая |
расстояние |
внедренного |
атома-вакансии. |
||||
С помощью |
ряда |
механизмов |
взаимодействия |
излучения |
с веществом, о котором была речь выше и где учитыва
ется влияние кристаллической решетки, |
можно |
объяс |
|
нить увеличение этого расстояния. В |
процессе |
фокуси |
|
рующихся соударений, например, |
в |
направлениях |
плотной упаковки внедренный атом возникает далеко от вакансии. Фокусирующиеся столкновения распространя
ются в |
глубь кристалла на |
расстояния, |
в десятки раз |
|
большие, чем при простом выбивании атомов, и |
являют |
|||
ся теми |
процессами, которые |
увеличивают |
долю |
объема |
образца, подверженного действию радиации. В случае каналирования выбитых атомов т а к ж е происходит уве
личение расстояния |
в |
паре Френкеля, |
поскольку выби |
тый атом обладает |
значительной кинетической энергией |
||
и, отклоняясь в начале |
своего пути в |
канал, останавли |
вается |
на значительном расстоянии от пустого узла. На |
||
конец, |
в связи с анизотропией энергии |
смещения |
атомов |
в меди, например, на смещение атома |
из центра |
грани |
требуется энергия, на несколько процентов меньшая, чем
для смещения углового |
атома. Это значит, что атом, ле |
ж а щ и й в направлении |
плотной упаковки, может быть |
выведен из своего положення в решетке легче, чем любой другой. То ж е справедливо и для гексагональной решет ки: для смещения атомов вдоль гексагональной оси требуется большая энергия, чем для смещения в перпен дикулярном направлении, т. е. вдоль плоскости базиса. Это приводит в свою очередь к двум следствиям. Во-пер вых, в плоскости базиса могут возникать выбитые атомы на большом расстоянии от первичного акта столкнове ния, так как энергия смешения мала. Во-вторых, облу чение в направлении гексагональной оси приводит, по мимо уменьшения длины диполя Френкеля и связанного с этим уменьшения числа дефектов (обусловленного легкостью рекомбинации и самоотжига дефектов), к до полнительному уменьшению числа дефектов в связи с возрастанием затрат энергии на производство одного дефекта. Таким образом, при облучении образцов при низких температурах в направлениях плотной упаковки (без учета взаимодействия с дислокациями) можно ожи дать увеличения скорости накопления точечных дефек тов за счет возрастания устойчивости пар Френкеля, воз никающих под действием радиации.
Кроме того, количество смещенных атомов будет за висеть от плотности дислокаций, увеличение которой