Файл: Троицкий О.А. Радиация и прочность твердых тел.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 21.07.2024

Просмотров: 94

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Поскольку сжимаемость вакансий существенно боль­ ше сжимаемости атомов, действующее на кристалл все­ стороннее внутреннее давление приводит к возникнове­ нию упругих напряжений на вакансиях, что определяет эффекты их взаимодействия друг с другом и с примес­ ными атомами.

Интересно, что под влиянием моновакансий может происходить сжатие базисной плоскости в графите. Ос­ новной причиной этого явления считают связанное с при­ сутствием вакансий изменение междуатомных связей а слоях графита.

§ 4. Образование точечных дефектов при пластической деформации

Существует несколько механизмов, по которым в процессе пластической деформации металла образуются точечные дефекты. Если движущиеся навстречу друг другу в соседних атомных плоскостях положительная п отрицательная дислокации встречаются и при этом об­ разуется полная атомная плоскость, то происходит анни­ гиляция дислокаций без остатка. Это было показано на

рис. 14. Если

ж е встречающиеся

дислокации разделены

одной целой

плоскостью, то после

их аннигиляции обра­

зуется цепочка вакансий. Наконец, при встрече дисло­

каций в одной и той ж е плоскости возникает

цепочка

межузельных атомов, ориентированная так же,

какце­

почка вакансий

в предыдущем

случае.

 

При таком механизме образования точечных дефек ­

тов в сильно

деформированных

структурах образование

внедренных атомов является более вероятным

процес­

сом, поскольку все большее число дислокаций

начинает

перекрываться, тогда

как

число

цепочек вакансий будет

уменьшаться

по

тем

ж е

причинам.

 

Теоретические оценки показывают, что атомная доля точечных дефектов, образованных по указанным меха­ низмам, пропорциональна величине пластической дефор ­ мации образца с коэффициентом пропорциональности 10-4 -н10-5 .

Цепочки вакансий, полученные при встрече дислока­ ций, могут распадаться. Так, в базисной плоскости гек­ сагональных металлов цепочка вакансий < 1 0 1 0 > мо-



ж ет распадаться, ка к это показано на рис. 25, на дива-

кансии, ориентированные в направлении < 1 1 2 0 > . Другой путь образования точечных дефектов во вре­

мя пластической деформации — это генерирование ва­ кансий быстро движущимися дислокациями со ступень-

Р и с . 25.

Распад цепочки

вакансии в направлении

<1010>

плоскости

(0001)

на дивакансии, ориенти­

рованные в направлении <1120> той же

 

 

плоскости

ками (цугом). Н а этот

механизм указывалось в разделе,

посвященном дислокациям. Отставание атомов' ступень­ ки происходит в силу динамической неустойчивости. Су­ ществуют т а к ж е другие механизмы образования точеч­ ных дефектов.

При деформировании металла в области высоких тем­ ператур устанавливается стационарная неравновесная концентрация вакансий, пропорциональная скорости де­ формирования и времени релаксации вакансий. Количе-

ство

избыточных

вакансий может на несколько поряд­

ков

превышать

равновесную

концентрацию.

Любопытно,

что скачки

деформации, наблюдаемые

при растяжении монокристаллов цинка в интервале тем­ ператур 18—100°, сопровождаются кратковременным увеличением электросопротивления образцов. Этот эф­ фект объясняется интенсивным образованием в полосе скольжения точечных дефектов, которые затем анниги­ лируют иа дислокациях.

§ 5. Образование точечных дефектов при закалке

Скорость установления равновесной концентрации то­ чечных дефектов определяется средним расстоянием

между источниками

дефектов

и стоками, где эти

дефек­

ты могут погибнуть,

а также

энергией активации

и тем­

пературой. При повышении температуры равновесие уста­ навливается быстрее, чем при понижении, поскольку подвижность дефектов и их число изменяются с темпера­ турой по экспотенциалыюму закону. В определенных условиях при повышении температуры скорость установ­ ления новой равновесной концентрации дефектов будет определяться, в основном, температурой, а не расстоя­

нием источник-сток и энергией активации. При

низких

температурах,

напротив,

главную

роль

играют

энергия

активации

и

геометрия

диффузионных

путей.

 

При

низких

температурах концентрация

днвакансий

может

быть

па

несколько

порядков

меньше,

чем

концен­

трация моиовпкаиспй. По мере повышения температуры скорость возникновения днвакансий начинает преобла­ дать над скоростью возникновения моновакаисий, и кон­ центрация днвакансий может достигнуть 1% от числа

моновакансий.

Поскольку

энергия образования меж­

узел ытых атомов

намного больше, чем энергия образо­

вания

вакансии,

концентрация межузельных атомов в .

экспериментах

с

закалкой

пренебрежимо

мала .

Наилучшие условия для получения большой концен­

трации

вакансий

и небольшого процента

обьеднненпых

дефектов получаются при использовании большой ско­ рости охлаждения образцов. Однако с большой ско­ ростью охлаждения связано т а к ж е появление термиче­ ских напряжении, которые могут вызвать пластическую деформацию металла. Дислокации, которые могут воз-

6

81


никнуть в процессе пластической деформации образца, в свою очередь, могут быть источниками или стоками для точечных дефектов. Д л я того чтобы избежать осложне­ ний, связанных с появлением в образце дополнительных стоков и источников в виде дислокаций, закалку нужно проводить в условиях, исключающих пластическую де­

формацию

металла.

 

 

 

 

Как правило,

чистый

эксперимент

с закалкой может

быть проведен

в очень

узких диапазонах

температур,

скоростей

охлаждения

и размеров

образца.

 

§ 6. Образование точечных дефектов при облучении

Способам производства точечных

дефектов

закалкой

и пластической

деформацией свойственны

ограничения.

В первом случае образуются, в основном,

вакансии. Во

втором случае образующиеся точечные дефекты

сущест­

венно связаны с дислокациями. Облучение является наи­ более универсальным способом производства точечных

дефектов, т.

к.

позволяет

получать вакансии и внедрен­

ные атомы

в

разных

количествах и равномерно по

объекту.

 

 

 

Энергия частиц, особенно заряженных, в значитель­ ной мере затрачивается на ионизацию и электронное воз­ буждение. З а р я ж е н н ы е частицы отдают ядрам только

1

1

 

ТОО ~^ТШб

часть своей энергии, расходуя остальную

часть на возбуждение электронов. Однако ниже некото­ рого критического значения скорости движения (или энергии) большая часть энергии частиц расходуется на упругие столкновения с ядрами.

Выше подробно рассматривался вопрос о радиацион­ ных повреждениях в решётке применительно к различ­ ным типам частиц. В этой главе мы только вернемся к исключительно в а ж н ы м вопросам взаимодействия излу­

чения с плотными

направлениями решетки и с

дислока­

циями.

 

 

 

 

 

 

 

Облучение в

направлении

плотных

рядов

атомов,

если и не увеличивает числа дефектов,

то,

по

крайней

мере, создаются

более

«стабильные»

пары

Френкеля,

увеличивая

расстояние

внедренного

атома-вакансии.

С помощью

ряда

механизмов

взаимодействия

излучения


с веществом, о котором была речь выше и где учитыва­

ется влияние кристаллической решетки,

можно

объяс­

нить увеличение этого расстояния. В

процессе

фокуси­

рующихся соударений, например,

в

направлениях

плотной упаковки внедренный атом возникает далеко от вакансии. Фокусирующиеся столкновения распространя­

ются в

глубь кристалла на

расстояния,

в десятки раз

большие, чем при простом выбивании атомов, и

являют­

ся теми

процессами, которые

увеличивают

долю

объема

образца, подверженного действию радиации. В случае каналирования выбитых атомов т а к ж е происходит уве­

личение расстояния

в

паре Френкеля,

поскольку выби­

тый атом обладает

значительной кинетической энергией

и, отклоняясь в начале

своего пути в

канал, останавли­

вается

на значительном расстоянии от пустого узла. На­

конец,

в связи с анизотропией энергии

смещения

атомов

в меди, например, на смещение атома

из центра

грани

требуется энергия, на несколько процентов меньшая, чем

для смещения углового

атома. Это значит, что атом, ле­

ж а щ и й в направлении

плотной упаковки, может быть

выведен из своего положення в решетке легче, чем любой другой. То ж е справедливо и для гексагональной решет­ ки: для смещения атомов вдоль гексагональной оси требуется большая энергия, чем для смещения в перпен­ дикулярном направлении, т. е. вдоль плоскости базиса. Это приводит в свою очередь к двум следствиям. Во-пер­ вых, в плоскости базиса могут возникать выбитые атомы на большом расстоянии от первичного акта столкнове­ ния, так как энергия смешения мала. Во-вторых, облу­ чение в направлении гексагональной оси приводит, по­ мимо уменьшения длины диполя Френкеля и связанного с этим уменьшения числа дефектов (обусловленного легкостью рекомбинации и самоотжига дефектов), к до­ полнительному уменьшению числа дефектов в связи с возрастанием затрат энергии на производство одного дефекта. Таким образом, при облучении образцов при низких температурах в направлениях плотной упаковки (без учета взаимодействия с дислокациями) можно ожи­ дать увеличения скорости накопления точечных дефек­ тов за счет возрастания устойчивости пар Френкеля, воз­ никающих под действием радиации.

Кроме того, количество смещенных атомов будет за­ висеть от плотности дислокаций, увеличение которой