Файл: Ненакаливаемые катоды..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 14.10.2024

Просмотров: 82

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

мощностью источника, импедансом прибора. Вопрос о за­ полнении импульса прямоугольной формы, например ко­

лебаниями СВЧ, для АЭЭ

вполне разрешим

(см. § 7.2)

и весьма проблематичен

для ВЭ. Для АК

допустимы

широко варьируемые длительности импульса вплоть доперехода в стационарный режим.

Максимальная длительность импульса т Макс ВК, как мы видели, ограничена физическими причинами и для данного прибора допускает слабые изменения.

АЭЭ приборы допускают любую частоту повторения импульсов /. Ограничения здесь (как и по Тмакс, и для стационарного режима) определяются лишь выделением мощности в катоде за счет джоулева тепла, тепла Ноттингама и опасностью перехода в режим ВЭ. Приборы с ВЭ после каждого импульса требуют перерыва, необ­ ходимого для деионизации плазмы, конденсации матери­ ала и образования новых микровыступов. Поэтому ча­ стоты повторения ограничены сверху. Известные устрой­ ства, работающие по принципу ВЭ, используют относи­ тельно невысокие /' (до нескольких десятков герц), или же работают в режиме однократных импульсов.

Главным условием стабильной работы АК является сохранение неизменных свойств эмиттирующей поверх­ ности. Это достигается поддержанием в области ка­ тода сверхвысокого вакуума и предотвращением или лик­ видацией последствий ионной бомбардировки (см. §7.2), например, при импульсной работе катода непрерывным или кратковременным подкачиванием автоэмиттера.

Стабильность и воспроизводимость работы В1\ обус­ ловлена возобновляемостью эмиттеров при удачном выбо­ ре конструкции и материала катода, а также схемных

ограничений в цепи питания. Высокий

вакуум

здесь

в принципе не нужен. Относительно

плохой

вакуум;

(10-4 ... 10~5 мм рт. ст.) иногда способствует легкому пе­ реходу АЭЭ к ВЭ, т. е. является улучшающим фактором.

Для получения предельно больших токов в течение требуемой длительности в режиме АЭЭ приходится за­ ботиться о чрезвычайно ровном плато импульса напря­ жения. Для получения максимальных токов ВЭ важноиметь возможно более крутой фронт при достаточной амплитуде импульса напряжения.

Разумеется, автокатоды — высоковольтные источникиэлектронов. Но их легко использовать и при напряжени­ ях от 1 до нескольких киловольт и, напротив, при

300



(подъеме U до 100... 300 кВ и выше возникают хотя и не принципиальные, но серьезные технологические за­ труднения при изготовлении приборов с относительно «тупыми» автоэмиттерами.

Взрывные катоды хорошо работают при высоких и сверхвысоких напряжениях, начиная от десятков и сотен киловольт и кончая десятками мегавольт. При несколь­ ких киловольтах получать большие токи за счет ВЭ, ви­ димо, принципиально можно, но затруднительно из-за плохого самовоспроизведения катодов. Но чем выше U, тем увереннее работают взрывные катоды.

Сопоставление возможностей практического использо­ вания автоэмиссионных и взрывных катодов. Очевидно,

что автоэлектронная эмиссия является более предпочти­ тельной по сравнению с взрывной для получения интен­ сивных электронных потоков во всех тех случаях, когда требуются стационарные токи, большие длительности импульсов или высокие частоты их повторения. К наи­ более важным применениям такого рода относятся:

1) получение интенсивных электронных зондов для растровой и обычной электронной микроскопии, микро­ анализа, рентгеновской микроскопии, электронно-луче­ вых приборов;

2)создание устройств, работающих в диапазоне СВЧ;

3)применения в микроэлектронике;

4)получение больших импульсных токов при малых скважностях и относительно больших длительностях импульсов.

Взрывная эмиссия охватывает в основном наносекундный диапазон длительностей импульсов и, по-видимому, главным образом, режимы малых частот повторения и

•однократных включений. По сравнению с АЭЭ ВЭ обла­ дает большей простотой технологии и конструирования катодов и менее жесткими условиями’их эксплуатации.

Практическая пригодность взрывных катодов для по­ лучения больших токов подтверждена экспериментально. По-видимому, почти все импульсные ускорители электро­ нов с гигантскими токами :[11-—13, 46] — используют этот принцип. Несомненно, тем же путем извлекаются элек­ троны в широко известных импульсных рентгеновских аппаратах ИРА-1, ИРА-2Д, ИРА-3, «Квант» [10, 77—79], спроектированных под руководством В. А. Цукермана и серийно выпускаемых в СССР [84].

ВЭ обладает практически неограниченной возмож-

301


ностыо получения больших токов. Исследование этого* вида эмиссии находится еще в начальной стадии, и мно­ гие из отмеченных выше затруднений использования ВЭ, по-видимому, могут быть преодолены. Сюда относятся трудности формирования заданного импульса тока, со­ гласования с источником питания, управления распреде­ лением плотности тока в пучке.

После того как выяснилось, что в большинстве силь­ ноточных ускорителей эксплуатируется не АЭЭ, а ВЭ, стала осознаваться недостаточная изученность самой АЭЭ в этих практически важных условиях. Возникли даже сомнения, возможно ли использование АЭЭ в чи­ стом виде в сильноточных устройствах. Однако недавно выполненные эксперименты [85] свидетельствуют, что по меньшей мере до сотен киловольт автоэмиссионные катоды вполне работоспособны. Видимо, в этом режиме функционируют импульсные рентгеновские источники и приборы с выпуском электронов сквозь фольгу, изготов­ ляемые в США фирмой ФЭК [80—82]( см. также § 7.5).

Нам представляется, что в диапазоне наносекундных импульсов АЭЭ и ВЭ должны применяться в зависимо­ сти от конкретной задачи с учетом как физических, так и экономических соображений. При высоких требованиях к форме импульса и к энергетическому спектру следует отдать предпочтение АЭЭ. Требованию получить наи­ большие токи возможно более простым путем лучше от­ вечает ВЭ.

В заключение перечислим ряд областей техники и физики, где АЭЭ и ВЭ могут использоваться сегодня или

вближайшем будущем:

1.Получение рентгеновских вспышек для просвечи­ вания — предпочтительнее ВЭ.

2.Получение рентгеновских вспышек с заданным спектральным распределением, с определенной зависи­

мостью интенсивности от времени

— на сегодняшний

день этой задаче лучше соответствует АЭЭ.

3. Получение рентгеновских вспышек для регистрации

быстро протекающих процессов — по

физическим прин­

ципам здесь удобнее использовать АЭЭ, но практически применяют ВЭ, поскольку это легко осуществимо уже сегодня.

4. Получение больших импульсных токов для управ­ ляемого термоядерного синтеза — здесь, по-видимомуг

302


легче идти до пути применения ВЭ, по трудности возни­ кают при увеличении длительности импульса т.

5.Прочие импульсные сильноточные ускорители для разнообразных физических исследований — чем короче т, тем в большей мере рационально использовать ВЭ.

6.Ускорители, использующие методы коллективного

(когерентного) ускорения — ввиду

высоких

требований

к энергетическому

спектру перспективнее оказывается

АЭЭ.

возбуждение

квантовых

генерато­

7. Электронное

ров— поскольку здесь требуется однородное распределе­ ние плотности тока по поверхности анода, применение АЭЭ предпочтительнее, чем ВЭ, хотя принципиально эф­ фект наблюдается и с ВЭ.

Развитие науки и техники, несомненно, подскажет и иные применения АЭЭ и ВЭ и, возможно, изменит соот­ ношение областей их использования. Изложенные сооб­ ражения соответствуют сегодняшнему состоянию вопро­ са, для которого, как нам кажется, типично: понимание глубоких различий между АЭЭ и ВЭ и необходимости дальнейших основательных исследований ВЭ, а также и АЭЭ в режиме предельных плотностей тока.

Список литературы

 

 

 

К ГЛАВЕ 1

 

 

1. Р о з е н б е р г

Г.

В.

Оптика

тонкослойных

покрытий.

М., Физ-

матгиз, 1958.

 

В. П., Т о ч и ц к и й Э. И. Структура тонких ме­

С е в е р д е н к о

таллических

пленок,

Минск,

«Наука и

техника»,

1968.

2.Т у н Р. Э. Структура тонких пленок. — В кн.: Физика топких пленок, т. 1, М., «Мир», 1967, с. 224—274.

.3. Н е й ге б а у э р К. А. Явления структурного разупорядочения в тонких -металлических пленках. — В кн.: Физика тонких -пленок, т. 2, М., «Мир», 1967, с. 13—82.

4.F г е п k е 1 J. Theorie adsorption und Verwanter Erscheinungen. — «Z. Phys., 1924, Bd. 26, S. HI7—138.

.5. P 6 c z a

E.

F.,

 

В a r n а

А., В a r n a

P.

B.

Investigations

of

 

growth mechanism of vacuum deposited indium layers by statisti­

 

cal methods.—In: Proceedings of the colliquium on thin films, Bu­

 

dapest, OPAKFI, 1965, p. 97—100.

 

field

on

the

growth of thin

6. C h o p r a

 

K. L. Influence of electric

7.

metal

films. — «J. Appl. Phys.»,

1966, v. 37, № 6, p. 22492254.

 

R i c h a r d

J. A

l’etude des proprietes optiques anormales de cer­

 

tains

metaux

pris

en

couche

mince. — «Ann.

Phys. -'1964, t.

9,

 

№ 11—12, p. 697—728.

 

В. Ф.,

К р а м а -р е н к о

Г. С. Особе-t-

8. Б о р з я к

 

П. Г.,

Б и б и к

 

ности фотоэффекта серебряно-кислородно-цезиевых

фотокато­

 

дов. — «Известия

АН

СССР.

Сер.

физ.», 1956, т.

20, №

9,

 

с. 1039—1049;

 

С а р б е й О. Г. Фотоелектронна eMicin диспер-

 

К а т р и ч

Г. А.,

 

гованих пл1вок cpi6na.— «УФЖ»,

1961, т. 6, № 3, с. 418—420.

 

 

G а г г о n

R. Sensibilite

photoelectrique des couches minces metal-

9.

liques. — «Ann.

 

Phys.»,

 

1965,

t.

10,

9,

p.

595—622.

 

N e u g e b a u e r

C. A.,

W e b b

M. B.,

Electrical

conduction me­

 

chanism in ultrathin, evaporeted metal

films. — «J. Appl. Phys.»,

 

1962, v. 33, № 1, p. 74—82.

 

R. H. Electrical

conduction

in

 

N e u g e b a u e r

 

C.

A.,

W i l s o n

 

discontinuous

metal films. — In: Basic

problems

in

thin

films phy­

10.

sics. Gottingen, «Vandenhoech und Ruprecht», 1966, p. 579—590.

 

V о d а г

В.,

О f f r e t S. Adsorption et

conductibilite des couches

11.

metalliques. — «Le Vide,

196-2, t. 17, №

100, p. 294—298.

 

 

В о r z j a k

P. G., S a r b e j O. G., F e d о г о w i t s c h R. D. Neue

 

Erscheinungen in sehr diinnen Metallschichten «Phys. Stat. Sol.»,

 

1965, v. 8, № 1, p. 55—60.

conduction and

electron emission of dis­

 

D i 11 m e r

G. Electrical

 

continuous thin

films. — «Thin Solid Films», v. 9, № 3, p. 317—328.

 

П а с т у ш е н к о

Л.

А.,

Ф е д о р о в и ч

 

P. Д. Электропровод­

 

ность и электронная эмиссия диспергированных пленок хрома. —

304