Файл: Лодиз, Р. Рост монокристаллов.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 14.10.2024

Просмотров: 157

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ

111

В многокомпонентных системах связанные с диффузией

ста­

дии PI —Р16 способны

играть важную роль при росте по меха­

низмам превращения

всех фаз (твердой, жидкой и газовой) в

твердую фазу. Таким образом, каждая из стадий PI—Р16 может

оказаться существенной во всех случаях. При твердофазной

кри­

сталлизации диффузия протекает медленно и часто имеет пер­ востепенное значение. Контролировать рост в таком случае труд­ но, так как в твердой фазе всегда найдется много мест для спон­ танного зарождения.

При росте из многокомпонентной системы в условиях равно­ весия между жидкостью или газом и твердой фазой скорость диффузии уже не столь мала, но она все еще, как правило, как-

то участвует в стадии, лимитирующей скорость

кристаллизации.

К тому

же почти всегда важную роль играют

реакции на

межфазной границе. Если бы диффузия в объеме

была

един­

ственным

таким

л имитирующем

фактором, то

скорость

роста

кристалла во всех направлениях должна была

бы быть

одина­

ковой и кристалл

приобретал бы сферическую форму.

 

 

Ясно, что особенности

стадий

PI—Р16 и Д1—Д13 зависят от

системы,

в которой идет

рост. Так, стадии, связанные

с раство­

рителем

или минерализатором при выращивании из

раствора,

уступают

место стадиям, связанным с реагентами, при росте по­

средством химической реакции. Вместо теплоты

кристаллизации

или растворения

(рост из раствора) при твердофазном

одно-

компонентном росте приходится рассматривать теплоту превра­ щения или расстекловывания, а при росте из расплава или пара — теплоту плавления или сублимации. При росте посред­ ством химической реакции в многокомпонентных системах теп­ лоту кристаллизации заменяет теплота реакции.

Обычно применительно к однокомпонентным или почти однокомпонентным системам пользуются понятием «переохлаж­

дение»,

а к

многокомпонентным — «пересыщение».

Переохла­

ждение

AT

определяется

соотношением

Д7" =

ГИ С т — Тратт,

где ТИСТ

есть

действительная температура,

а

Г р а

в н равновес­

ная температура (температура плавления).

Пересыщение As

определяют как As = с и с т

— sP A B H, где с и с т

есть действительная

концентрация,

a sp a B H — равновесная

растворимость. В газовых

системах As = /?и с т — р р а в н

(Рист действительное давление пара

в системе, а

/9 р а в н — равновесное давление). Определить пере­

сыщение

при химических

реакциях

гораздо

сложнее

(это де­

лается с учетом конкретных условий

эксперимента). Для одно­

значного определения движущей силы роста при химической

реакции

часто пользуются относительным пересыщением, как

оно было

определено в

разд. 2.10 и 2.11. Оно играет важную

роль и в теориях роста

кристаллов.


112

Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ

3.6. РОСТ КРИСТАЛЛА КАК ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНАЯ РЕАКЦИЯ

Рост кристаллов охватывает много промежуточных стадий, и почти всегда некоторые из них протекают с сопоставимыми ско­ ростями. Это значит, что конечная скорость роста определяется всеми такими стадиями. Если слить воедино все стадии на гра­ ницах раздела и предположить, что наблюдаемая скорость роста определяется только объемной диффузией и реакциями на меж­ фазных границах, то можно вывести уравнение скорости кри­ сталлизации.

Если равновесие на межфазной границе устанавливается быстро и поверхностные процессы не лимитируют скорости рос­ та, то последняя определяется только объемной диффузией, ско­ рость которой описывается первым законом Фика:

где dm/dt — диффузионное

приращение массы

растущей поверх­

ности за единицу времени, dc/dx

— градиент

концентрации

в

перпендикулярном к поверхности

направлении,

D — коэффи­

циент диффузии. А — площадь растущей

поверхности.

 

 

Обозначив через а толщину диффузионного слоя, через св

концентрацию в объеме раствора и через

с п о в

— концентрацию

непосредственно

у растущей поверхности, уравнение (3.10)

мож­

но переписать в

виде

 

 

 

 

 

 

 

 

dm

DA ,

,

 

 

11 \

 

dt

- — ( с в

- с п о в ) .

 

 

(3.11)

 

 

 

 

 

 

 

 

Обозначив далее через 91 линейную

скорость кристаллизации

на

поверхности и учтя, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- ~ = ЙАр,

 

 

(3.12)

где р — плотность кристалла, перепишем уравнение

(3.11) в виде

 

Я = - ^ - ( с в - с п о в ) .

 

 

(3.13)

При постоянной толщине а отношение D/a удобно заменить кон­ стантой скорости диффузии kd, после чего уравнение (3.13) за­ пишется в виде

® = -~-(cB-cnJ.

(3.14)

Это уравнение справедливо даже в том случае, когда .скорость реакции на межфазной границе не столь велика, как скорость диффузии. Если же поверхностная реакция протекает гораздо


 

3.

КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ

113

быстрее диффузии,

то с п о в =

с р а в н ,

где с р а в в

равновесная

кон­

центрация.

 

 

 

 

 

 

Если скорости химического взаимодействия на межфазной

границе принадлежит решающая

роль, то для гетерогенной

ре­

акции

первого порядка

справедливо соотношение

 

 

 

£1

= = kiA

( с п о в

с р а в н ) ,

(3.15)

где kt

— «константа

скорости

поверхностных

процессов». Произ­

ведя

соответствующую

подстановку, получим

 

 

 

 

=

( с пов

Сравн)-

(3.16)

Константа kt в общем случае зависит от кристаллографического-

направления роста. Уравнение (3.16) справедливо

и в том слу­

чае, когда скорость диффузии

сопоставима со скоростью поверх­

ностных процессов. Если же скорость диффузии

значительно

превышает скорость таких

процессов, то с п о в

= Св.

 

В случае последовательных реакций концентрацию с„ о в мож­

но исключить при

переходе

от уравнения

(3.12)

к уравнению

(3.14); тогда

*

 

 

 

 

g i =

Tl(Ukd)

+

(Ukl)] ( С В Сравн).

(3.17)

Уравнение (3.17) справедливо, когда диффузия и поверхностные процессы протекают как две последовательные стадии с сопо­

ставимыми скоростями. В уравнении

(3.17) скорость 31 зависит,

разумеется, от направления. При больших значениях k{

это урав­

нение сводится к

уравнению

(3.14),

а при больших

значениях

kd к уравнению

(3.16). Если

k{ и kd

имеют постоянные значе­

ния при всех условиях конкретного эксперимента, то

 

±.

+ ± = 1 ,

(3.18)

^ =

^(свравн).

(3.19)

Можно допустить, что kfi и ki не зависят ни от концентрации, ни от давления в широких пределах изменения последних, но изменяются с температурой. Их температурная зависимость, по крайней мере в первом приближении, выражается уравнениями Аррениуса

k d =

a d e - < h \

(3.20)

*, =

« , в - А / * г ,

(3.21)


114

Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ

где ad и я, суть в первом

приближении константы, не зависящие

от температуры,

a

AEd

и

АЕ*С энергии

активации соответ­

ственно диффузии и гетерогенной реакции

(поверхностных про­

цессов). Поскольку

АЕа

обычно составляет около 10 кДж/моль,

а величина АЕ\

значительно

больше, kt зависит от температуры

сильнее. Очень часто к подчиняется уравнению Аррениуса в широкой области экспериментальных условий.

3.7. ПОСЛЕДОВАТЕЛЬНОСТЬ РЕАКЦИЙ НА М Е Ж Ф А З Н О Й ГРАНИЦЕ

Одна из основных трудностей при анализе кинетики роста кристаллов связана с решением дифференциальных уравнений, описывающих последовательный рост. Решение такой задачи весьма сложно при одновременном анализе более чем двух ста­ дий, но особенно большие трудности возникают при рассмотре­ нии процессов на межфазной границе, где стадии реакции труд­ но поддаются экспериментальному изучению').

Подробный исторический анализ идей в области исследова­ ния кинетики реакций здесь, по-видимому, не уместен. Кабрера и Франк первыми сформулировали теорию, объясняющую непре­ рывность роста — даже при низких пересыщениях. Они рассмат­ ривают дислокации как источник невырождающихся ступеней спиральной формы. Их работы [6, 15—19] учитывают и более ранние теоретические исследования Странского и Фольмера. Этим представлениям наиболее близко соответствует рост плотноупакованных граней с малыми индексами при выращивании кристалла из собственного пара при температурах гораздо ниже температуры плавления. Диффузия при этом не учитывается. Многие положения теории можно распространить и на более сложные системы, но основные концепции наиболее полно раз­ работаны именно для подобных условий. Грань с малыми индек­ сами при температуре существенно ниже температуры плавления остается атомарно-гладкой. Рост таких граней из собственного пара в однокомпонентной системе можно представить содержа­ щим следующие стадии:

1)присоединение атома к поверхности (адсорбция или хемосорбция);

2)двумерная диффузия атома к ступени;

3)

присоединение

атома к ступени;

4)

одномерная диффузия вдоль ступени к излому;

5)

присоединение

у излома.

') Современные

представления о

стабильности

межфазной границы и

о форме кристалла

(морфологической

стабильности)

в значительной мере

базируются на работе Маллинса и Секерки [39].

 


3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ

115

При испарении эти стадии следуют в обратном порядке. При равновесии скорость испарения равна скорости конденсации. Ясно, что рост возможен лишь в том случае, когда скорость кон­ денсации превосходит скорость испарения.

Если плотность изломов превосходит плотность ступеней, а скорость двумерной диффузии атома по поверхности соизмерима со скоростью его одномерной диффузии вдоль ступени, то чет­ вертую и пятую стадии можно исключить из, числа лимитирую­ щих факторов. Полагая, что энергия образования излома на ступени равна приблизительно '/ю энергии испарения1 ), Франк вычислил, что при минимальных температурах, обеспечивающих достаточное для роста кристалла давление пара, изломы на сту­ пени образуются через три-четыре атома.

Двумерная диффузия атома по поверхности и, вероятно, его одномерная диффузия вдоль ступени должны идти с большими и сопоставимыми скоростями. По оценке Франка, энергия акти­ вации двумерной диффузии на плоской грани составляет оксло V20 энергии, необходимой для перевода атома из излома в поло­ жение изолированного атома на поверхности. Таким образом, одномерная диффузия вдоль ступени и присоединение атома в изломе обычно не сдерживают скорости роста. Можно показать, что при давлении пара около Ю^1 1 МПа ( Ю - 1 0 кгс/см2 ) среднее расстояние, которое атом успевает преодолеть в процессе дву­ мерной диффузии до испарения с поверхности, составляет не­ сколько сотен атомных диаметров. Следовательно, атомы посту­ пают к изломам главным образом благодаря поверхностной диф­ фузии, а не прямо из пара.

Таким образом, можно сделать вывод, что при наличии по­ стоянно действующего источника ступеней скорость роста сдер­ живается адсорбцией атомов из пара и их диффузией к ступеням по поверхности. Когда ступень достигнет края кристалла, необ­ ходима новая ступень. Ее образование начинается с адсорбции или хемосорбции одиночного атома на поверхности и разви­ вается путем присоединения к нему соседних атомов как к «ост­

рову» на кристаллической грани. Средний «радиус»

зародыша

г,

с достижением которого такой островок начинает

разрастаться,

находят из условия, что вероятность присоединения

атома равна

вероятности его отрыва. Это

дает

 

 

r =

_ i 2 L ,

(3.22)

'

 

kT In а '

4

') Эта оценка вытекает из сравнения общей энергии связей атомов на ступени и в изломе с энергией атомов внутри кристалла. Энергии связей вычисляют исходя из числа атомов и расстояний до них в первой, второй и третьей координационных сферах по методу, аналогичному изложенному в разд. 3.3.