Файл: Курносов, А. И. Технология производства полупроводниковых приборов учеб. пособие.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 14.10.2024
Просмотров: 143
Скачиваний: 0
|
|
|
|
Т а б л и ц а : 8 . 8 |
Свойство |
ТЮ. |
Таа0 3 |
А1а0 3 |
S iO a |
Тпл, °С |
1640 |
1875 |
2050 |
1710 |
|
( р а з л а г а е т с я ) |
|
|
|
е |
100 |
25 |
9 |
4 |
ТКЕ-10-6, гр а д -1 |
+800 |
+230 |
+200 |
+ 100 |
Пленки ТагСЬ могут быть выращены также с помощью анодного окисления тантала. В качестве металлических обкладок чаще всего применяют напыленное золото. Для увеличения емкости осуществ ляют многослойное напыление проводящих и диэлектрических пле нок, соединяемых параллельно.
§ 8.6. Контроль качества тонких пленок
Качество тонких пленок оценивают, контролируя толщину плен ки, ее адгезию с подложкой и структуру. Обычно в зависимости от целевого назначения пленок определяется метод контроля и конт ролируется какой-либо один или два параметра.
И з м е р е н и е т о л щ и н ы п л е н о к
Определение толщины пленок представляет значительные мето дические трудности, так как понятие «толщина» в применении к слоям от 50 А до 5 мкм теряет свою определенность. Плотность, Удельное сопротивление, оптические свойства пленок и массивных материалов различаются. Поэтому измеренная каким-либо методом толщина будет эффективной, отличающейся от значения «истин ной» толщины. Значения эффективных толщин пленки, полученные различными способами измерения, не совпадают.
При выборе способа определения эффективной толщины следу ет ориентироваться на требования, связанные с использованием изготовляемых тонких пленок. Например, при использовании тон ких пленок в интерферометрии нередко имеет значение фазовый сдвиг, вносимый наличием пленки, и, следовательно, необходимо знание ее «интерферометрической» толщины. При измерении тол щины диэлектрических пленок, применяемых для изготовления пле ночных конденсаторов, определяют емкость этих пленок.
Наиболее распространенными методами измерения толщины тонких пленок являются: микровзвешивание, многолучевая интер ферометрия, наблюдение цвета пленок, измерение электрического сопротивления или емкости, использование кварцевого резонатора, ионизация молекулярного потока.
245
В основе метода микровзвешивания лежит определение толщи ны пленок по приращению в весе АР подложки после осаждения пленки:
4 = - ^ - , |
( 8-21) |
где у — удельный вес вещества пленки; S — площадь, занимаемая пленкой.
При измерении толщины пленки путем взвешивания принима ют, что плотность вещества пленки равна плотности массивного вещества. При этом под эффективной толщиной пленки понимают ту толщину, которую имел бы слой, если бы образующий его ма териал был равномерно распределен по поверхности с плотностью, равной плотности массивного вещества.
В зависимости от чувствительности весов и площади S абсо лютная чувствительность метода составляет 1—10 мкм/м2.
|
|
|
|
Из методов многолучевой |
интерферо |
|||||
|
|
|
метрии чаще всего применяют способ по |
|||||||
|
|
|
лос равной толщины. В основе его лежит |
|||||||
|
|
|
получение |
разности фаз двух когерент |
||||||
|
|
|
ных лучей, |
отраженных от |
подложки |
|||||
|
|
|
и поверхности пленки. Перед измерением |
|||||||
|
|
|
на образце |
получают |
так |
называемую |
||||
|
|
|
ступеньку — резкую |
боковую |
границу |
|||||
|
|
|
пленки |
на |
подложке. |
Это |
достигается |
|||
|
|
|
либо с помощью маскирования части |
|||||||
|
|
|
подложки |
при |
осаждении пленки, либо |
|||||
Рис. |
8.14. |
Картина |
путем химического удаления части осаж |
|||||||
сдвига |
интерференци |
денной пленки. |
Чередующиеся |
светлые |
||||||
онных |
полос |
и |
темные |
интерференционные |
полосы |
|||||
|
|
|
с |
шагом |
L |
как |
на поверхности пленки, |
так и на подложке смещены относительно друг друга у границы пленки на величину / (рис. 8.14). Измерение смещения I произво дят с помощью микроинтерференционного микроскопа. Толщину пленки рассчитывают по формуле
где д — длина волны монохроматического света.
Точность измерения составляет 20—30 А на лучших интерферо метрах и 150—300 А на обычных. В отличие от метода взвешива ния данный метод применим только для непрозрачных пленок. Если пленка прозрачная, то на пленку и подложку в районе «сту пеньки» осаждают дополнительно непрозрачную хорошо отражаю щую металлическую пленку, например, алюминия. Для уменьше ния вносимой погрешности ее толщина должна быть много меньше
толщины измеряемой пленки. |
диэлектрических пленок, |
таких как |
|
Для определения |
толщин |
||
S i02, Si3N4, А120 3 и |
др., на |
отражающих подложках |
наблюдают |
246
цвет пленки. Если падение луча на поверхности пленки |
близко |
к нормальному и пленки достаточно тонкие (менее 1 мкм), |
то рас |
стояние между соседними интерференционными максимумами столь велико, что вся пленка окрашивается равномерно в один цвет. С увеличением толщины пленки окраска ее меняется, причем, один и тот же цвет повторяется несколько раз с достижением пленкой толщин, кратных Я/4. Поэтому для измерения толщины пленки по ее цвету нужно знать не только соответствующую данному цвету длину волны, но и порядок интерференции k = l, 2, 3, . . . . Толщи на пленки с коэффициентом преломления п
где д — длина волны, соответствующая данному цвету пленки.
В этом случае под толщиной пленки понимают ту толщину, ко торую имела бы пленка с показателем преломления, равным п, определенному для массивного диэлектрика.
Чувствительность метода составляет 200—300 А. Недостаток за ключается в его субъективности — различные люди не наблюдают одного и того же цвета для пленок одинаковой толщины.
Образец, на котором производят измерение толщины пленки, в большинстве случаев не пригоден для производства. Поэтому из нескольких одновременно напыляемых в идентичных условиях об разцов один служит только для измерения толщины. Его называют «свидетелем».
При изготовлении проводящих и резистивных пленок толщину определяют непосредственно в процессе напыления путем измере ния продольного электрического сопротивления на «свидетеле»,
обладающем известными геометрическими размерами. Измеритель
ный прибор |
(мостовая |
компенсационная схема) отградуирован |
в единицах |
измерения |
либо поверхностных сопротивлений, либо |
толщин. Толщина пленки
где |
р — удельное сопротивление пленки; |
|
R — сопротивление пленки на «свидетеле» между контак |
L, |
тами; |
h — длина и ширина пленки. |
В данном случае под толщиной пленки понимают толщину, ко торую имел бы слой, если бы удельное сопротивление этого слоя было равно удельному сопротивлению массивного металла. Чув ствительность метода 10—50 А, предельная толщина измеряемых пленок около 1 мкм. Точность измерения невелика вследствие неоп ределенности значения р.
Толщину диэлектрических пленок в процессе осаждения опреде ляют путем измерения емкости между металлическими поло сками, нанесенными на «свидетель». «Свидетель» проходит
247
предварительную калибровку для каждого напыляемого материа ла. Предельная толщина наносимой пленки около 30 мкм, но точ ность также невелика.
Для более точного измерения толщины пленок в процессе напы
ления используют |
метод кварцевого . |
резонатора, пригодный для |
|
любых материалов. |
Частота колебаний |
f кварцевого кристалла |
|
с массой m линейно меняется с |
изменением массы осажденного |
||
вещества Ат. Сдвиг резонансной |
частоты |
Исходя из общей формулы (8.21), связывающей геометрические размеры и вес пленки, можно получить следующее выражение для определения толщины пленки:
\ — |
m |
А/ |
|
tS |
/ • |
Выбор частоты / зависит |
от |
диапазона измеряемых толщин |
пленок. Для тонких пленок и большой чувствительности использу ют высокие частоты. Чувствительность кварцевого резонатора Am/A/== 10-10 кг/кгц. Применение радиотехнической аппаратуры при f = 20 Мгц позволяет определять сдвиг А/= 20 гц, что дает воз можность измерять приращения массы около 10-8 кг/м2 или 0,1—1 А толщины. Практически точность равна 50—200 А.
Выпускаемые серийно кварцевые измерители толщин предназ начены для измерения толщин тонких металлических, полупровод никовых и диэлектрических пленок в диапазоне толщин от 100 А до 5 мкм с точностью ±10%. Приборы позволяют задавать требуе мую толщину пленки, после достижения которой подается сигнал на прекращение напыления. Для точного измерения толщины про изводят градуировку приборов.
Принцип действия приборов для измерения скорости осаждения пленок основан на частичной ионизации паров напыляемого веще ства и измерения полученного тока, пропорционального плотности молекулярного потока, проходящего через рабочий объем датчика. Для разделения молекулярного потока и остаточных газов исполь зуется модуляция молекулярного потока. В измерительном приборе переменная составляющая ионного тока датчика, пропорциональ ная скорости осаждения испаряемого вещества, выделяется, усили вается, детектируется и подается на стрелочный индикатор, пока зания которого пропорциональны скорости осаждения, и на циф ровой интегратор, фиксирующий толщину осажденной пленки. Чув ствительность метода составляет около 1 А/сек, погрешность —
1-5% .
Выпускаемые серийно измерители скорости осаждения и толщи ны пленки измеряют скорости осаждения в диапазоне 10—200А/с<?к и толщину пленки в диапазоне 0,1—1 мкм с погрешностью ±15%.
248
И з м е р е н и е а д г е з и и п л е н о к
В настоящее время не существует доступных промышленных методов точного количественного измерения адгезии тонких пленок с подложками.
Сравнительный контроль адгезии осуществляют путем измере ния усилия, которое надо приложить к стальной закругленной игле, для того чтобы при движении этой иглы вдоль поверхности пленки вызвать ее отслаивание от подложки. Усилие, при котором пленка отслаивается, характеризует адгезию. Метод применим для сравне ния адгезии пленок постоянной толщины и одного состава.
Адгезию металлических пленок с подложкой измеряют по уси лию отрыва пленки с напаянным на ее поверхность металлическим цилиндром. В центре свободного торца цилиндра закрепляют гиб кий тросик, связанный через рычаг с чашкой весов. Чтобы по уси лию отрыва Р вычислить адгезию F, нужно точно знать площадь контакта 5 и исключить перекос цилиндра, вызывающий неравно мерное распределение усилия по площади контакта. Адгезия
F = P/S.
Площадь торца цилиндра составляет около 1 мм2. Для получе ния надежных данных необходимо измерить адгезию несколько раз, каждый раз контролируя, не произошел ли отрыв по месту спая и не растворилась ли пленка в припое.
Разновидностью данного метода является контроль адгезии ме таллических пленок по отрыву от подложки с помощью тонкой зо лотой или алюминиевой проволоки, присоединяемой к пленке мето дом термокомпрессии. Площадь контакта составляет при этом 50—200 мкм2, что позволяет более точно определять адгезию в ло-. кальных участках пленки.
К о н т р о л ь с т р у к т у р ы п л е н о к
Изучение структуры тонких пленок сводится к различным мето-. Дам лабораторного контроля, что позволяет устанавливать связь, между физическими свойствами пленок и условиями их осаждения. Наиболее распространенными методами контроля структуры поликристаллических и монокристаллических пленок являются элект ронная микроскопия, электронография и рентгенография. Эти же методы применяют для исследования аморфных пленок.
Метод электронной микроскопии чаще всего осуществляют с по мощью просвечивающей микроскопии, что дает возможность конт ролировать пленки толщиной 100—1000 А. Тонкие пленки получают путем напыления вещества в вакууме на свежий скол кристалла каменной соли. После напыления соль растворяют в воде, а остав шуюся пленку помещают в электронный микроскоп. Наблюдение структуры и дефектов пленки возможно благодаря амплитудному контрасту, который создается главным образом упруго и неупруго Рассеянными электронами в области углов, лежащих за пределами
249,