Файл: Гутников, В. С. Интегральная электроника в измерительных приборах.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 23.10.2024
Просмотров: 40
Скачиваний: 1
твору напряжения соответствующей полярности. При приложении соответ ствующего напряжения к затвору МДП-транзистор с обеднением канала переходит из открытого состояния в закрытое, а МДП-транзистор с обога щением канала — наоборот, из закрытого в открытое.
Пленочные И С могут быть изготовлены по тонкопленочной или толстопленочной технологии. В качестве подложки в пленочных ИС обычно при меняются полированные пластинки из специального стекла или керамики (окиси алюминия, окиси бериллия и т. п.) [2].
Тонкие пленки (толщиной не более 1 мкм) получают методом вакуум ного или катодного распыления, осаждением из газовой среды, термическим разложением [22]. Необходимый рисунок пленки обеспечивается применением металлической маски, которая открывает доступ только к отдельным участ кам подложки, либо пленкой покрывают всю подложку, а затем применяют метод фотолитографского травления. Плотность размещения элементов на поверхности подложки в тонкопленочных схемах равна примерно 10—20 эле ментам на 1 см2 [43]. По тонкопленочной технологии могут быть доста точно просто произведены резисторы, конденсаторы и соединительные про водники.
Тонкопленочные резисторы обычно выполняют из нихрома (80% Ni и 20% Сг), тантала или соединения моноокиси кремния с хромом. Если тол щина резистивной пленки постоянна, то сопротивление резистора определя ется только его геометрической формой и не зависит от размеров. В част ности, сопротивление квадратного резистивного участка не зависит от раз мера стороны квадрата, а определяется только удельным сопротивлением материала и толщиной пленки. Поэтому сопротивление резистивных пленок измеряют обычно в омах на квадрат (ом/ □ ). Сопротивление тонкопленоч ного резистора при заданной толщине резистивной пленки определяется тем, сколько квадратов может уместиться по его длине. Чем меньше ширина резистора и больше длина, тем больше его сопротивление. Однако возмож ности технологического процесса ограничивают минимальную ширину ре
зистора величиной 12—25 мкм. |
может составлять 40—400 ом/П, тан |
Сопротивление пленки нихрома |
|
тала 50—1000 ом/П, соединения |
моноокиси хрома с кремнием 300— |
2000 ом/П. Соответственно тонкопленочные резисторы могут иметь сопро тивление от десятков ом до единиц мегаом с допуском до ± 5%. Температур ный коэффициент сопротивления пленочных резисторов может составлять
(1-т-З) ■10-4 1/град.
Тонкопленочные конденсаторы представляют собой обычно трехслойную структуру: два металлических слоя, разделенные пленкой диэлектрика. В ка честве диэлектрика используется моноокись или двуокись кремния, окись тантала, окись алюминия [7]. Максимальная емкость пленочного конденса тора не превышает нескольких тысяч пикофарад. Температурный коэффи циент емкости пленочного конденсатора может составлять величину от 5- ■10~6 до 2-10~4 1/град в зависимости от типа диэлектрика [7, 36].
Толстопленочная технология характеризуется толщиной пленок 5—10 мкм, которые получают, нанося через трафарет пасту соответствующего состава на керамическую подложку с последующим вжиганием пасты. Поверхностная
плотность размещения |
при этом |
составляет примерно |
5—10 элементов па |
1 см2 [43]. |
содержат |
кристалл кремния, в |
котором с помощью |
Совмещенные ИС |
планарно-эпитаксиальной технологии сформированы активные элементы (ди оды и транзисторы), а также те резисторы, к точности сопротивления кото рых не предъявляется высоких требований. Пассивные же элементы — рези сторы, конденсаторы, а также соединения между элементами — выполняются по тонкопленочной технологии на поверхности окисленного кристалла. При этом надежность и компактность активных элементов, характерные для по лупроводниковых схем, сочетаются с большим диапазоном возможных номи налов и точностью пассивных элементов, характерных для пленочных схем.
Полупроводниковые составные (многокристальные) ИС содержат не сколько полупроводниковых кристаллов со сформированными в них по
9
полупроводниковой или совмещенной технологии элементами, объединенных на общей изолирующей подложке. Таким образом можно достаточно просто получить сложные ИС, содержащие большое количеств элементов.
Гибридно-пленочные И С выполняются на изолирующей подложке, на которой методами пленочной технологии образованы пассивные элементы и
соединительные проводники. |
Активные же элементы — самостоятельные бес- |
а) |
5) |
11 12
1
2
J
‘t
фО,Вmax
в) |
г) |
Рис. 3. Корпуса интегральных схем
корпусные миниатюрные диоды и транзисторы — приклеиваются к подложке, и их выводы присоединяются методом термокомпрессии к соответствующим контактным площадкам подложки.
Существование гибридно-пленочных ИС вызвано тем, что до настоящего времени не разработана технология, которая позволила бы достаточно просто и надежно производить в промышленных условиях пленочные диоды и тран зисторы.
Корпуса ИС могут иметь различную конструкцию. На рис. 3 показаны наиболее распространенные корпуса отечественных ИС. Корпус на рис. 3, а наиболее удобен в тех случаях, когда требуются малые габариты и масса
10
аппаратуры на ИС и когда хорошо развита технология монтажа такой ап паратуры. Планарное расположение выводов позволяет упростить процесс присоединения схемы к печатной плате и не требует наличия в ней метал лизированных отверстий. Прямоугольный (рис. 3, б) и круглый (рис. 3, г) корпуса находят применение в аппаратуре как широкого, так и специального назначения. Для аппаратуры, предназначенной для работы в нежестких ус ловиях эксплуатации, удобен корпус рис. 3, в. Внутри этого корпуса нет гер метизированного пространства, полупроводниковый кристалл просто опрессовывается пластмассой. Стоимость ИС в таких корпусах ниже, чем в других, хотя диапазон допустимых температур окружающей среды уже.
Условные обозначения отечественных интегральных схем состоят из ряда элементов. Первая цифра в обозначении ИС, стоящая перед группой из двух
букв, и две — сразу после |
нее образуют номер |
серии; |
причем первая цифра |
номера серии показывает |
технологический тип |
ИС: |
1 — полупроводниковые |
ИС, 2 — гибридно-пленочные ИС. Группа из двух букв означает функциональ ную разновидность интегральной схемы. Расшифровку этого элемента обоз начения можно найти, например, в [31]. После цифр, входящих в номер серии, в обозначении приводится число, указывающее номер разработки данной разновидности ИС в данной серии. Буква, стоящая в конце обозначе ния, если она есть, указывает на значения отдельных электрических парамет ров или эксплуатационные режимы микросхемы. Если перед обозначением ИС или серии ИС стоит буква К, это означает, что схема предназначена для широкого применения. Например, обозначение К2ТКД71Б говорит о том, что эта интегральная схема серии К217 выполнена по гибридно-пленочной тех нологии, предназначена для широкого применения, содержит триггер с ком бинированным запуском (так расшифровываются буквы «ТК»), номер разра ботки — первый, буква «Б» в данном случае указывает на повышенное быстродействие триггера.
3. Достоинства интегральных схем и перспективы их применения в измерительных приборах
Преимущества, которые обеспечивает применение ИС,— это прежде всего повышение надежности, снижение стоимости аппаратуры и улучшение ее эксплуатационных характеристик.
Надежность повышается как за счет снижения интенсивности отказов основных элементов, так и за счет уменьшения внешнего монтажа. Сравни тельно небольшое количество типовых технологических операций, непрерыв ность и замкнутость процесса изготовления ИС в пределах одной производ ственной линии позволяет максимально автоматизировать производство и контроль ИС, уменьшить вероятность допущения ошибок и добиться однород ности продукции по качеству [12]. Применение пониженных напряжений и токов питания создает благоприятные тепловые условия для работы эле ментов ИС. Малая масса ИС обусловливает их высокую стойкость к воздейст вию вибрационных, ударных и линейных нагрузок.
В настоящее время надежность одной ИС примерно равна надежности кремниевого транзистора (10-5—10-8 1/ч), в то время как в ее состав могут входить несколько транзисторов и более десятка других элементов.
Выигрыш в надежности, получаемый при переходе от транзисторной ап паратуры к аппаратуре на ИС, составляет в среднем 1—2 порядка и более.
Среди отказов, наблюдающихся при эксплуатации ИС, преобладают ка тастрофические, основная часть которых обусловлена дефектами соединений. У полупроводниковых ИС отсутствует явно выраженный период приработки. Совмещенные ИС могут иметь период приработки 100—500 ч [12].
Существенным достоинством ИС является то, что они затрудняют возмож ность неправильного использования отдельных элементов (неверное включе ние, перегрузка), что может иметь место в обычных схемах.
Стоимость электронной аппаратуры если не считать накладных расходов, складывается из стоимости разработки, стоимости деталей и материалов,
11
стоимости сборки и испытаний. При переходе на интегральные схемы умень шаются все эти составляющие части стоимости.
Разработчик электронной аппаратуры, используя ИС, получает сущест венную экономию времени. Это объясняется прежде всего тем, что для про ектирования используются уже готовые узлы, а не отдельные детали. По скольку ИС представляют собой четко определенные электронные схемы, для которых известны их гарантированные характеристики и обеспечена взаимо заменяемость, то зачастую нет необходимости делать экспериментальный ма кет. Все проектирование может быть выполнено опытным инженером на бу маге. Проектируемая аппаратура вначале разбивается на блоки, а затем эти блоки представляются в виде набора необходимых ИС. Таким образом, при менение ИС существенно снижает стоимость и сроки разработки аппаратуры. Некоторая формализация процесса проектирования аппаратуры на ИС поз воляет даже заменить часть инженерного труда применением электронной вычислительной машины (ЭВМ).
При изготовлении аппаратуры на ИС ее стоимость уменьшается как за счет стоимости самих деталей, так и за счет конструкционных материалов, соединений и разъемов. Кроме того, поскольку применение ИС значительно сокращает количество внешних соединительных проводников, то соответст венно сокращается и стоимость сборочных работ. Что касается стоимости са мих ИС, то если в США в 1954 г. логическая схема на ИС была в 2,5 раза дороже, чем на дискретных компонентах, то в 1968 г. она была уже в 2 раза дешевле [32]. Снижение цен на ИС проибходит как За счет разработки но вых технологических процессов, так и за счет отработки существующих, вслед ствие чего значительно повышается процент выхода годных ИС. Предпола гается, что в перспективе стоимость распространенных цифровых схем будет составлять всего десятую часть стоимости аналогичных схем, использующих дискретные компоненты, а стоимость линейных и сложных цифровых схем будет равна примерно половине стоимости аналогичных схем с дискретными компонентами [6].
Повышение надежности и уменьшение номенклатуры и количества ком плектующих изделий удешевляет эксплуатацию аппаратуры на ИС [17].
Габариты, масса и потребление электронной аппаратуры при применении ИС также заметно снижаются, что особенно существенно для приборов, устанавливаемых на подвижных объектах. Для стационарной аппаратуры эти параметры не всегда имеют первостепенное значение, но даже и в этом случае их уменьшение позволяет упростить конструкцию, легче обеспечить охлаждение, сократить производственные площади. Величина экономического эффекта от снижения массы аппаратуры, по американским данным, лежит в диапазоне от 1,1-10—4 дол./г для стационарной до 44 дол./г для ракетнокосмической аппаратуры [17].
Снижение габаритов электронной аппаратуры может'быть охарактеризо вано увеличением плотности упаковки. Если для обычного монтажа плотность
упаковки, выраженная |
количеством элементов |
в 1 |
см3, |
составляет 0,1— |
|
0,2 эл/см3, для |
модульных конструкций 1—2 |
эл/см3, для |
микромодульных |
||
10—20 эл/см3, |
то для |
гибридно-пленочных ИС |
она |
равна |
20—100 эл/см3 и |
для полупроводниковых ИС 50—1000 эл/см3. Для схем, плотность упаковки которых более 5 эл/см3, употребляют название «микросхемы» (ГОСТ 17021— 71). Следует отметить, что фактическая плотность упаковки для ИС меньше предельной возможной вследствие относительно больших размеров корпусов.
Развитие И С в настоящее время идет в основном по пути увеличения степени интеграции. Под степенью, или уровнем, интеграции понимают число элементов, объединенных в одной интегральной схеме [7]. Наряду с улуч шением характеристик и снижением стоимости обычных ЙС, в которых сте пень интеграции относительно низка — не превышает 50—60, в настоящее время уже имеются ИС со средним уровнем интеграции, содержащие до
200—300 элементов, |
и большие интегральные схемы (БЙС), |
содержащие |
более 400 элементов. |
внедрение БИС в электронную аппаратуру |
еще более |
Ожидается, что |
снизит ее стоимость и повысит надежность.
12
БИС строятся как на основе однокристальных, так и на основе много кристальных полупроводниковых ИС. В первом случае чаще всего находят применение схемы на МДП-транзисторах, так как они позволяют получить большую поверхностную плотность размещения элементов. Вероятность не исправности сложной схемы возрастает с увеличением количества элементов, ее составляющих. Поэтому в процессе промышленного производства процент выхода годных БИС с фиксированной схемой соединений невысок. В связи с этим часто схему соединений отдельных элементов, входящих в БИС, не проектируют заранее. После изготовления этих элементов проводят их про верку, а затем составляют схему соединений таким образом, чтобы в окон чательную цепь вошли только исправные элементы. Естественно, что в этом случае количество элементов, формируемых на подложке, должно быть пре
дусмотрено с некоторым избытком.
В случае построения многокристальных БИС предварительной проверке подвергаются цепи, сформированные в отдельных кристаллах.
Для выполнения всех внутренних соединений в БИС, как правило, ис пользуют несколько слоев металлизации.
В качестве примера БИС можно привести миниатюрную вычислитель ную машину, выполненную практически полностью в одном кристалле крем ния. Квадратный кристалл размером 4,5X4,5 мм содержит 360 логических схем и 160 триггеров, необходимых для производства арифметических дейст
вий над 12-разрядными числами [24].
Наряду с увеличением количества элементов, помещаемых в один кор пус, развитие ИС идет также по пути создания функциональных схем, в ко торых отсутствуют традиционные электронные цепи, а их работа основана на использовании различных свойств твердого тела.
Применение ИС в измерительных приборах приводит к повышению на дежности измерительной аппаратуры, снижению ее габаритов, массы, потреб ления, стоимости. Но наряду с количественными изменениями характеристик внедрение ИС вызывает также существенные качественные изменения изме рительной аппаратуры. Так, например, улучшение эксплуатационных харак теристик и снижение габаритов цифровых приборов на ИС поставило на повестку дня вопрос о замене большей части аналоговых щитовых приборов на цифровые. При этом стоимость цифровых приборов при использовании дешевых ИС оказывается сравнимой со стоимостью аналоговых, габариты —
почти такими же, а характеристики — лучшими.
Существует мнение, что в настоящее время аналоговые приборы должны использоваться лишь для грубых измерений, а приборы с классом точности 1% и выше должны быть цифровыми [И]. Потребитель в этом случае по лучает такие дополнительные преимущества, как возможность цифровой ре гистрации, возможность сопряжения с ЦВМ и т. п.
Конструктивная простота и надежность электронных узлов на ИС поз воляет вводить в измерительную аппаратуру много новых узлов, автоматизи рующих процесс измерения, улучшающих его характеристики, придающих ему новые функции. Сюда можно отнести различные цепи линеаризации, масшта бирования, обработки, регулирования и т. п.
Применение ИС в измерительной технике быстро расширяется. Показа тельно, что среди первых зарубежных и отечественных серий ИС со средним и большим уровнем интеграции разработаны схемы, предназначенные для ра
боты |
в узлах измерительных приборов и аналого-цифровых преобразовате |
лей |
[13, 33]. |
13