Файл: Кулигин, О. С. Многокристальные интегральные схемы (опыт проектирования).pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 03.11.2024

Просмотров: 27

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

Последнее выражение, выведенное для прямоугольных корпусов C

выводами на две стороны, является удовлетворительной аппрок­ симацией потерь и для квадратных корпусов с выводами на четы­ ре стороны.

Функция g3(x3) представляет собой коэффициент уменьшения плотности компоновки за счет различного конструктивного оформ­ ления корпусов рассматриваемых типов с'учетом потерь на уров­

не узла, определяемых выбором типа корпуса — X3 на третьем

шаге процесса.

Рис. 3. Характер и типичная величина потерь при установке

планарных (а) и штыревых корпусов на коммутационную плату

Типичные величины потерь площади и объема при установке

корпусов различных типов на печатные платы в соответствии с нормативными требованиями [5] показаны на рис. 3. Выражение

для функции g3(x3) будем искать в следующем виде:

S3V3/ ∕t(x3)∙⅛(x3).η(x3) ’

где h(xz) высота корпуса с выводами и монтажной платой (мм);

A(x3) — коэффициент для учета потерь на поле выводов;

η (х3) — коэффициент для учета потерь на элементы конст­ руктивного оформления узла.

Значения этих коэффициентов можно найти на основании анализа соответствующих нормативных материалов и фактических разра­

боток. Примем:

A(X3=I) =6; A(x3=2; 3) =9;

 

 

 

A(x3=l) = 1,2;

 

∕e(x3 = 2; 3) = 1,1;

 

Тогда

η (X3= 1;

2; 3) = 1,3.

 

 

g3(x3)≈

Í 0,105; x3=l

)

(4)

 

 

Í

0,078; X3 = 2;

3 J

18

 

Результирующую функцию плотности компоновки на

уровне

узла определим

как произведение частных функций эффектив­

ности:

 

 

 

0>l°5;

χ3=1

I ¢5)

G

(λ'∙ =--------- ʌ--------- .------------ →=------- .

 

(1,25

t ]

X1 -3tγ

U2 + 16 V-X2+ 38)

ɪ 0,078;

X3=2;

3 J

 

 

 

 

 

 

На основании этого оценим верхнюю границу возможностей MIiC

в рассматриваемом диапазоне конструктивных

параметров при

принятом состоянии технологии:

 

G(X) max = 43,5 (вент./см3).

 

Такай плотность компоновки соответствует конструктивным реше-

!иям .Y= (100, 1000, 1), т. е. МИС, содержащей 1.0 кристаллов по

100 вентилей каждый, герметизируемой в плоском планарном кор­ пусе. Оценка фактических значений G(x) для известных типов

МИС хорошо совпадает с результатами расчетов.

Функции

надежности

 

МИС

Увеличение надежности аппаратуры при использовании

обуславливается следующим:

 

 

 

— уменьщением количества паяных соединений на негермети-

зируемом уровне конструкции

(на уровне печатной платы),

где

они имеют относительно низкую надежность,

и переносом

их в

герметизируемый уровень (корпус МИС), где

их надежность зна­

чительно повышается;

уменьшением общего количества сварных соединений, вы­

званное тем, что различные кристаллы соединяются в пределах од­ ного корпуса, поэтому отпадает необходимость в дополнительных

контактах для перехода из корпуса на внешнюю плату комму­

тации и в другой корпус;

уменьшением количества паек на уровне печатной платы;

уменьшением общего числа внешних выводов корпусов, ко­ торые вызывают нарушение герметизации корпуса.

Таким образом, МИС должны обладать более высокой надеж­

ностью на один вентиль в составе аппаратуры, чем простые ИС.

Вкачестве количественной характеристики надежности воспользу­

емся величиной интенсивности отказов ■— λ. Тогда для периода

нормальной работы параметр потока отказов устройства ʌ будет

равен:

ʌ •— ʌj * ∏j,

J

тде tij — количество элементов /-го типа с интенсивностью отказов λ j. Так как nj∙ зависит от выбираемых конструктивных параметров микросхемы Хі, а процесс проектирования полагается многошаго-

19



вый, то последнее выражение можно переписать следующим обра­ зом:

Л = Л (х) = ɪі,

λ

j ∙ ∏j (Xi),

і

 

 

ʌw = 2 M*0.

і

где λι(Xι)—суммарная интенсивность отказов конструктивных

элементов, определяемых выбором степени интегра­

ции кристалла Xt на первом шаге процесса;

λ2(x2)—суммарная интенсивность отказов конструктивных

элементов, определяемых выбором степени интегра­ ции микросхемы X2 на втором шаге процесса;

λ3(X3) —суммарная интенсивность отказов конструктивных элементов, определяемых выбором типа корпуса X3

на третьем шаге процесса.

При анализе решения относительно X1 необходимо учесть ин­ тенсивность отказов кристалла λκp и сварных соединений λι(λ'ι)c, отнесенных к одному вентилю, т. е.

λ 1 (Xi)

= λκp ÷ λ ι(Xι)c,

.

(6)

 

X1

 

λ і (Xi) = λκp + λc • 5 ∕^

X1

 

Основными источниками

отказов, вносимых конструктивными

элементами и технологическими операциями,

являются:

 

гибкие перемычки плата—корпус: λ2(x2) перем.;

пайки на печатной плате коммутации при монтаже микро­

схем на уровне узла: λ2(X2)n.

Для оценки надежности на

уровне субблока необходимо

было

бы учесть отказы межузловых

связей. Однако обычно этн

связи

составляют незначительный процент от общего числа контактов,

поэтому допустимо этим источником отказов пренебречь. Аналити­

ческий учет основных причин отказов дает следующее выражение для описания надежности на втором шаге процесса проектирова­

ния:

λ2(x2) =λ22(x2) =λ 2(X2) перем. +

λ2(x2)n,

(7)

λc.5]∕Γ2. X + λn∙5∕Σ∙ ɪ.

Основные причины уменьшения надежности МИС и аппарату­

ры на МИС, связанные с влиянием типа корпуса:

— температурный перегрев кристаллов за счет конечной ве­ личины теплового сопротивления корпуса: λ3(X3)i;

20


— различная степень герметичности корпусов,

используемых

при изготовлении микросхем: λ3(x3)r.

отказов,

вы­

Аналитический учет увеличения интенсивности

званный указанными причинами, можно представить в

виде:

 

λ 3(x3) = λ3(X3)i ÷ λ3(x3)r∙

один

вентиль-

Оценка увеличения интенсивности отказов на

из-за перегрева кристалла λ3(X3)z строится на основании

дан­

ных [6], согласно которым повышение температуры кристалла на

каждые IO0C приводит к пропорциональному увеличению интен­ сивности отказов кристалла, т. е.

λ3(X3)i= ^-^∞λκp-

Оценка увеличения интенсивности отказов на один вентиль за: счет недостаточной герметичности корпуса для различных типов

корпусов строится на основании данных [1], согласно которым ин­ тенсивность отказов кристалла, герметизируемого в пластмассовые корпуса (x3 = 3), увеличивается примерно в два раза, тогда как

металлостеклянные корпуса (x3=l; 2) в этом смысле почти не-

оказывают влияния, т. е.

0

,

X3= 1;

2 )

ʌ ɪ:p,

X3 =3

/

Вероятно, это преимущество

металлостеклянных (и керамиче­

ских) корпусов является временным.

Имеются данные о том, что-

при достигнутом американской промышленностью состоянии техно­

логии в. 1972 г. надежность пластмассовых и керамических корпу­

сов существенно не отличается. Суммирование λ3(x3)i и λs(x3)τ-

дает значение функции λ3 (х3):

(8>

Результирующая функция для оценки надежности цифрового

устройства на аппаратурном уровне в пересчете на один логичес­

кий вентиль выразится как

Л (х) — λ κp + 5 λ

+ λ и)

U ,

x3=l;

ʌ кр,

X3 = 3 \

21


Функции стоимости

При анализе функций стоимости аппаратуры па МИС следует

учитывать основные технологические операции изготовления такой

аппаратуры:

интегрированные операции по обработке полупроводнико­ вой пластины;

сборка кристаллов с выводами, включая контроль и испыта­

ния;

изготовление платы металлизации;

монтаж кристаллов на плате металлизации;

изготовление корпуса и корпусирование микросхемы;

установка микросхемы на печатную плату.

Степень интеграции кристалла характеризует стоимость интег­ рированных операций по обработке полупроводниковой пластины при изготовлении кристалла Сі(Хі)пл, стоимость сборки, контроля и испытаний кристалла C1(x1)lφ и стоимость монтажа кристалла на плате металлизации Ci (x )m, что аналитически можно предста­ вить как

' Ci(Xi) = C1 (xι)π,-1 + Cι (Xι)κp+Ci (X])m.

Для определения стоимости интегрированных операций можно

воспользоваться известной моделью аппроксимации процесса из­

готовления кристаллов [ 7 ]. Стоимость сборки и монтажа кристал­ ла будем считать пропорциональными числу выводов. Тогда

C1 (χ1) = -L . -J- (-⅛i α0(l - /ʧ exp. Bda. (1 + ∕x?)2 +

)

X1 /сб \ -^пл

+ ( C,c6 ɪ ÷ ^c62) • 5 ɪʌ -və .

C повышением степени интеграции микросхемы связано увели­

чение площади платы металлизации и числа внешних выводов, что приводит к росту трудоемкости сборочных операций при корпусировании C2(X2)c6, операции по изготовлению платы металлизации

C2(X2)mi и операций по установке микросхемы на печатную плату

C2(x2)∏∏:

C2 (x2) =C2(x2)∏m+ C2(x2) cs + C2(x2)∏∏.

Стоимость платы металлизации зависит от ее топологических па­ раметров и уровня технологического процесса. Выход годных плат

можно рассчитать аналогично выходу годных кристаллов, полагая

основной причиной производственного брака нарушение изоляции

между перекрещивающимися проводниками. Тогда

f,∏M=exp. (—B2d2ksx2).

22