Файл: Радиопередающие устройства на полупроводниковых приборах. Проектирование и расчет.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 159

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

8.1.4. Параметр n0L

Одним из важных параметров приборов, основанных на эффекте Ганна (эффекте переноса электронов), является па­ раметр n0L. Существует два значения этого параметра, ко­ торые разграничивают дипольную неустойчивость, неустой­ чивость с заряженным слоем и абсолютную устойчивость полупроводника с ОДП.

Первое значение параметра n0L, составляющее пример­ но 2,5 • 1011 с м - 2 [4], является граничным при переходе из области дипольной неустойчивости в область неустойчи­ вости с заряженным слоем. Физически значение критерия существования дипольного слоя nQL « 2,5 • 1011 с м - 2 можно рассмотреть на следующем примере. Пусть распределение концентрации электронов и напряженности электрического поля вдоль домена имеет вид, изображенный на рис. 8.6. Протяженность (длина) отрицательного объемного заряда такого домена обычно значительно меньше положительного. Это связано с тем, что ограничивает концентрацию избы­ точных электронов лишь диффузия электронов из области отрицательного объемного заряда. Для того чтобы компен­ сировать отрицательный объемный заряд, положительно заряженная часть диполя должна быть достаточно протя­ женной, поскольку концентрация положительных ионов примеси постоянна. Следовательно, домен не может быть бесконечно тонким, и для данной концентрации п0 он обла­ дает минимальной длиной, при которой еще возможно его существование и движение через кристалл.

Если положить, что основную длину домена составляет положительно заряженная часть, то из уравнения Пуассо­ на, как будет показано далее, следует

л 0 / д = ( £ д - £ 0 ) е / 4 т 7 .

(8.16)

При минимальной напряженности электрического поля в

домене £ д ~

10-М5 кВ/см и £ 0 ~

1,5 кВ/см

произведение

и0 /д составляет порядка 2,5 • 10й

с м - 2 . Если

при данной

концентрации

электронов длина

кристалла

L <С / д м и н ,

то дипольный домен не сможет полностью сформироваться,

передвигаться

от катода

к аноду и, следовательно, не вы­

зовет неустойчивости тока в кристалле.

При n0L >

2,5

• 10й

с м - 2

существует неустойчивость

только дипольного

типа.

Если

n0L не намного превышает

2,5 • 1011 с м - 2 , то в диоде может распространяться как нара-


стаюшая волна объемного заряда

(заряженный

слой)

так

и дипольный домен. При больших

напряжениях

волна объ­

емного заряда

преобразуется

в дипольный домен

на первой

же неоднородности материала [4].

 

 

 

Значение

параметра n0L,

отделяющего область

абсо­

лютной устойчивости кристалла от области существования волны пространственного заряда, для GaAs составляет по­ рядка 101 0 с м - 2 . Достаточно точно этот критерий не установ­ лен. При 101 0 см~2 < n0L < 2,5 • 10й с м - 2 наблюдается распространение волны пространственного заряда, исполь­

зуемой обычно в целях

усиления.

при n0L •<

Абсолютная

устойчивость

кристалла

< 101 0 с м - 2 обусловлена

тем,

что при

напряженностях

электрического

поля

Е >

Еп

распределение электриче­

ского поля вдоль диода становится неоднородным, носители в образце перераспределяются и возникающий диффузион ный поток электронов компенсирует уменьшение общего потока электронов, обусловленное падением дрейфовой ско роста носителей. В результате этого при напряжениях превышающих пороговые, ток через кристалл не умень­ шается, т. е. внешнего отрицательного сопротивления меж­ ду электродами не наблюдается. Кристалл оказывается устойчивым.

Границу возникновения доменной неустойчивости можно оценить по времени формирования домена сильного поля. Доменная неустойчивость возможна при времени формиро вания домена, меньшем, чем период колебаний тока. Как

уже

показано, домен формируется

за время

порядка т д 2

Это

время т д 2 < £ / р д р ,

отсюда

при и д р ~ 107

см/с и ц ~

—3000 см2 /В-с следует

n0L >

2,7

• 10" см"2

[16] что хо­

рошо согласуется с теоретическими

расчетами

границы су­

ществования доменной (дипольной) неустойчивости тока.

8.1.5. Упрощенный анализ движения доменов сильного поля

В простейшем случае поведение системы электронов с дипольным доменом описывается уравнением Пуассона, уравнением сохранения числа электронов (уравнением не­ прерывности) и уравнением для плотности тока в домене и вне домена. В рассмотрении принимается, что электроны в сильном электрическом поле следуют статической харак­ теристике (время междолинного перехода порядка 10~12—• 390


Ю - 1 3 с мало по сравнению с максвелловским временем ре­

лаксации т д 1 и т д 2 ) .

Если рассматривать систему электронов, распределение которой показано на рис. 8.6, т. е. сформировавшийся до­

мен сильного поля, то для нее будут справедливы

следую­

щие уравнения: во-первых, уравнение Пуассона

[17] (для

одномерного случая)

 

 

дх

( „ _ „ „ ) ,

(8.17)

е

 

где п — концентрация электронов; п0 — концентрация ио­ низированных донорных уровней, не изменяющаяся в сильном электрическом поле; во-вторых, уравнение непре­ рывности

^ L

= J - d i v J ,

 

(8.18)

dt

q

 

 

где

 

 

 

Э =qnv(E)-q-%-[D(E)n\+±.2L

An dt

(8.19)

 

дх

 

— плотность тока; D — коэффициент диффузии. Слагаемые в (8.19) соответствуют токам проводимости,

диффузии и смещения.

Решение уравнений (8.17)—(8.19) должно описывать движущийся сформировавшийся домен сильного электри­ ческого поля. Поскольку общее число электронов в системе

не изменяется, dnldt = 0 и

(8.18) следует, что дС//дх = О,

е. d = const.

в образцеиз

 

 

 

 

т. Домен движется

со скоростью vR, напряжен­

ность электрического поля

вне домена

 

равна EQ, напря­

женность электрического

поля

Е и концентрация электро­

нов п являются функциями времени t

координаты х (оси,

совпадающей с направлением движения домена).

Плотность тока

вне домена

определяетсяи

током прово­

димости

 

3=qn0v0.

 

 

(8.20)

 

 

 

 

Производя замену

 

 

 

 

 

 

 

,

дЕ

 

дЕ

дЕ

 

 

дЕ

у = х — v t; — — = —

; — =

0 Д - Т - .

rt

дх

 

ду

dt

rt

 

ду

уравнения (8.17) и (8.19) можно преобразовать к виду

 

f . - i ^ - z O ,

 

 

(8.21)

 

ду

е

 

 

 

 


-%-\D(E)n] = n(v -va) 4- n0(va-v0).

(8.22)

Из уравнений (8.21) и (8.22) получаем дифференциальное уравнение для п как функции Е\

 

4 J 1 L ± [ D ( £ ) „ | =

В ( Р - Р Д ) - Я О ( Р О ~ Р Д )

,

( 8 .23)

В

выражении (8.23)

п — двузначная

функция £

(см.

рис. 8.6). Следовательно, при решении

уравнения

(8.23) задача сводится к отысканию такой величины ско­ рости va, при которой в точке домена с п — п0 функция напряженности электрического поля не претерпевает раз­ рыва. Если эта величина vu находится, то из уравнения Пуассона следует соотношение между напряженностью электрического поля в домене и расстоянием

в

У = Умакс + 7 Г -

\ ^ ~ -

(8-24)

£

д

 

В общем случае такая задача решается

численными мето­

дами.

Можно, однако, рассмотреть некоторые приближения. Например, если D(E) не зависит от напряженности элект­ рического поля Е, т. е. D = const, то уравнение (8.23) после

интегрирования

приобретает следующий вид:

 

 

J L _ i n

J L _ 1

= = _ ^ L _ x

 

 

па

0

inqn0D

 

 

Е

 

 

 

X

j [ ( o - o „ ) — ^ - ( o 0 ~ o a ) j d £ .

(8.25)

При п = п 0 в области домена Е = Еп левая часть урав­ нения (8.25) равна нулю. Интеграл правой части может быть равен нулю лишь в случае v0 = с д . Если v0 Ф од , то вклад второго слагаемого под интегралом различен при интегри­ ровании по обедненному и обогащенному участкам домена (распределение электронов в домене неравномерно).

Таким образом, при постоянном коэффициенте диффу­ зии электронов дрейфовая скорость домена равна скорости электронов вне домена. Если учитывать зависимость £>(£), то скорость домена оказывается несколько меньше (пример­ но на 10—20%) скорости электронов вне домена [18].


Согласно уравнению (8.25) при п = п0 можно записать

\

(v-vR)dE

 

= 0,

 

Е ;

 

 

 

(8.26)

J

v(E)dE

=

va(Ea-E0).

 

На основе правила равных площадей (8.26) может быть

построена так называемая

динамическая характеристика

(в отличие от статической v(E)),

которая позволяет

находить

зависимость скорости

вне домена, равной скорости

домена,

от напряженности электрического поля в домене Ед. Пра­ вило равных площадей (8.26) и динамическая характеристи­ ка иллюстрируются на рис. 8.8. Динамическая характери­ стика начинается в максимуме характеристики v(E) и окан­ чивается в такой точке на характеристике v(E), в которой площади частей характеристики, расположенных выше и ниже прямой v0 или v0', равны по величине. Когда напря­ женность электрического поля вне домена уменьшается, скорость v0 = Уд также уменьшается, а напряженность электрического поля в домене Ед растет.

Знание динамической характеристики чрезвычайно важ­ но, поскольку с ее помощью определяются вольтамперные характеристики доменов и образцов с доменами.

Динамическая характеристика в виде зависимости ско­ рости домена от максимальной напряженности электриче­ ского поля домена на основании аналитического приближе­ ния Батчера — Фосетта (8.4) записывается в следующем виде:

V» =

E~IF0

{Т-"~

Е 1 ) +0*х +

 

xE^Ea-EJ-fiEl-El)}

(8.27)

при £ д < £ м и н ,

 

а)-

V* = Т±Т1^-(Е*и-ЕЬ)

+

(іі1+^Еии

С д — с

0 { I

 

 

 

(^мин

Ей) + У М ил ( ^ д

^ м и н )

п р и £ д > £ м в д .