Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 182

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

§ 1. Фотовольтаический эффект в р п-переходах

ЗЗІ

диффузионной длине), могут быстро рекомбинировать через по­ верхностные состояния, прежде чем они смогут достичь перехода и внести свой вклад в фото-э. д. с. Это приводит к уменьшению величины квантового выхода.

3. Элемент солнечной батареи *)

Наиболее важным приложением фотовольтаического эффекта является преобразование солнечной энергии в электрическую 16]. В этом случае к. и. д. преобразования и выходная мощность оказываются основными параметрами. Спектр Солнца определяет выбор материалов, которые можно использовать для фотоэлектри­ ческих преобразователей: чем меньше ширина запрещенной зоны полупроводника, тем большая часть солнечного спектра может ■быть использована, но тем меньше максимально достижимая вели­ чина фото-э. д. с. С другой стороны, большая ширина запрещен­ ной зоны позволяет получить более высокие значения фото-э. д. с. и меньшие утечки (или ток насыщения /„). Поэтому оптимизация •спектральной кривой солнечного элемента оказывается весьма важным фактором при его разработке. Для космических прило­ жений, когда атмосферное поглощение не играет роли, оптималь­ ная ширина запрещенной зоны составляет примерно 1,6 эВ. При учете атмосферного поглощения оптимальная ширина зоны сме­ щается в сторону меньших энергий. На фиг.. 14.7 показана зави­ симость рассчитанного к. п. д. от ширины запрещенной зоны для различных толщин атмосферы. Хотя CdTe должен обладать наи­ высшим к. п. д., наилучшие результаты пока получены на крем­ нии благодаря высокому качеству, которое было достигнуто в результате особенно интенсивных работ по технологии его приготовления. Для кремниевых солнечных элементов получен к. п. д. около 14% [8]. На материале с большей шириной запре­

щенной зоны, GaAs, был достигнут к. п. д. 11% [9]. Для расширения области спектральной чувствительности солнечных элементов использовались гетеропереходы между полупроводни­ ками с различной шириной запрещенной зоны, при этом материал с большей шириной запрещенной зоны находился на освещенной стороне перехода [10].

Солнечный элемент можно изобразить в виде упрощенной

эквивалентной

схемы, показанной на фиг.

14.8. Здесь R L

сопротивление

нагрузки, а R s — внутреннее

последовательное

сопротивление диода. Излучение, поглощаемое в пределах диф­ фузионной длины от перехода, генерирует ток / 5С. Этот ток разде­ ляется на две компоненты — часть его, I L, течет через нагрузку,

1)Далее будет использоваться термин «солнечный элемент», вошедший

вобиход в отечественной технической литературе.— Прим. ред.


332

Глава 14. Фотовольтаические эффеклш

другая часть, / 0, инжектируется через переход. Из-за наличия внутреннего последовательного сопротивления R s напряженно

Ф и г . 14.7. Расчетные зависимости к.п. д. солнечных батарей от ширины запрещенной зоны Е„ полупроводника [7].

Учитывалось поглощение солнечного света атмосферой = 1/cos Ѳ, где Ѳ_угловое расстояние между Солнцем и зенитом).

на нагрузке VL меньше чем фото-э. д. с., возникающая на пере­ ходе,

Ѵь — ѴI LRS *

(14.5)

Объединяя (14.5) и (14.3), где I = І ы получаем

Ѵт

kT ln ( l

(14,6)

 

9

 

§ 1. Фотовольтаический аффект в р п-переходах

333

Фиг. 14.9 иллюстрирует влияние внутреннего последовательного сопротивления на работу солнечного элемента. Очевидно, что

потери на Rs

уменьшают

hv

 

 

максимальную отдаваемую

 

 

р X—^---- *ЛЛЛ----

мощность и,

следователь­

но, к. п. д.

 

 

 

V п

8J

О

 

 

 

1

 

Фи г. 14.8. Эквивалентная схе­ ма солнечного элемента.

На фиг. 14.10 сравниваются (при одинаковых условиях опы­ та) электрические характеристики солнечных элементов, изго­ товленных из веществ с различной шириной запрещенной зоны.

Ф.и г. 14.9. Вольт-амперные характеристики кремниевого солнечного эле­ мента площадью 1,7 см2 при ярком солнечном, освещении [И].

Экспериментальные данные

обозначены кружками, сплошные линии соответствуют

ч

формуле (1.4.6).

Очевидно, что вещество с большей шириной запрещенной зоны дает наибольшее напряжение холостого хода, тогда как вещество с меньшей шириной запрещенной зоны, которое поглощает боль­ шую часть спектра падающего излучения, генерирует наиболь­ ший ток короткого замыкания. Кроме того, в Si, в котором длина диффузии носителей больше, чем в GaAs, собирается больше фотовозбуждениых -носителей. Точка, отвечающая максимальной


334 Глава 14. Фотовольтаические эффекты

выходной мощности и максимальному к. п. д., находится на изги­ бе кривой. Чем ближе кривая по форме к прямоугольнику, тем (при данных значениях Ѵос и / 8С) выше к. п. д.

Чтобы собрать носители, генерируемые на освещенной поверхности сильно поглощаемым излучением (hv Е g), переход располагают очень близко от поверхности (в пределах диффузион­ ной длины). Малая толщина диффузионного слоя приводит к боль­

шим значениям Rs .

Поэтому при

разработке солнечных

элемен-

 

1

1

I

 

 

 

 

 

 

______ ;

!

GoAs

 

 

 

 

-

 

--■ L

/ і

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

______ 1

!

 

 

 

 

 

 

 

-

1

--------j Точии

м а к с е і м а л ь н о и

 

 

 

\

;

эфі ф е к т и о мости

 

 

 

 

j

 

\

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

-

 

 

 

 

кремний

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

'

 

 

-

 

 

 

 

 

 

 

 

-

 

 

 

 

 

\

 

О

8

16

24

32

40

48

56

64

 

 

 

Гол, мА

 

 

 

 

Ф и г . 14.10. Вольт-амперные характеристики солнечных элементов на GaAs и Si [6].

тов важной проблемой является нахождение компромисса между высокой эффективностью собирания и низким значением последо­ вательного сопротивления.

Потери излучения, связанные с отражением, удается обычно значительно уменьшить, нанося на поверхность просветляющее покрытие.

Когда солнечные элементы используются в космосе, они под­ вергаются бомбардировке быстрыми частицами, которые вызы­ вают их деградацию, называемую «радиационным повреждением». Повреждение заключается в основном в возникновении дефектов Френкеля. (Атомы смещаются со своих мест в кристаллической решетке и попадают в междоузлия, на их месте остаются вакан­ сии; внедренный атом может мигрировать до тех пор, пока он не займет стабильное положение, например на поверхности, тогда как вакансия в ходе миграции может образовать комплекс с ка­ ким-либо дефектом или примесью — например «А»-центр в Si, представляющей собой комбинацию вакансии и атома кислорода.}


§ 2. Фотовольтаические эффекты на барьерах Шоттки

335

В результате радиационных повреждений образуются эффектив­ ные центры безызлучательной рекомбинации. Следовательно* повреждения приводят к уменьшению времени жизни неосновных

іб------ 1----1— 1

ггтп -------1----1---1 1 1111

1

1 1 1 1И 1-------1----1—1 I 11и

 

X

 

 

 

 

 

ч

 

 

 

-

 

Х\

ч

GaAs

 

14

 

 

Si

 

V

 

 

Б

 

 

 

Д " < д

 

 

 

 

\

 

 

1 12

 

 

 

 

 

 

\

 

 

-

 

 

 

\

1,8 см 2

 

 

 

 

 

 

\

-

- Энергия пропіонов 17,6МэВ

 

 

 

____ 1__ 1_111 1J-L____ 1

1 1 1 м м

1

1 f 1 11Т1

 

ю"

 

 

 

іо14

ф, число протонов / см

Ф п г. 14.11. Сравнение деградации солнечных элементов на GaAs и Si [12].

Исходный к. п. д. элемептов — 9%. Измерения проводились при естественном солнеч­ ном освещении.

носителей. Это по существу означает уменьшение диффузионной длины и, следовательно, объема материала, реагирующего на оптическое возбуждение.

Чувствительность к радиационным повреждениям различна у разных полупроводников. Порог повреждения для GaAs вдвое больше, чем для Si. Это различие в чувствительности иллюстри­ руется на фиг. 14.11.

Радиационные дефекты можно отжечь, нагревая образец, при этом внедренные атомы будут мигрировать обратно к вакансиям. Их можно также уменьшить, легируя кремний литием [13]. Литий при комнатной температуре обладает большим коэффициентом диффузии в кремнии. Он может восстанавливать фоточувстви­ тельность солнечного элемента (механизм этого процесса пока еще не выяснен).

§2. ФОТОВОЛЬТАИЧЕСКИЕ ЭФФЕКТЫ НА БАРЬЕРАХ ШОТТКИ

1.Барьер Шоттки

Если привести металл в контакт с полупроводником, то обычно происходит перераспределение зарядов, в результате чего в полу­ проводнике возникает обедненный слой. Соответствующее искрив­


336 Глава 14. Фотовольтаические эффекты

ление краев зон вблизи поверхности раздела называется «барье­ ром Шоттки».

Проиллюстрируем этот эффект на примере, когда металл обладает работой выхода Ф м , большей, чем полупроводник

Ф п г. 14.12. Образование барьера Шоттки в полупроводнике, находя­ щемся в контакте с металлом.

тг-тппа (Фд) (фиг. 14.12). После приведения металла и полупро­ водника в контакт электроны должны уходить из полупроводни­ ка, поскольку в равновесии уровни Ферми в полупроводнике

Ф и г. 14.13. Характеристика контакта металл — полупровод­ ник (при прямом смещении) [14].

Ф и г. 14.14. Определение энер­ гии активации из наклона кри­ вой In / = / (1/Т) для контакта

металл — полупроводник [14].

и металле должны совпадать. Если Ф м < ® s> т0 электроны

переходят в полупроводник и возникает изгиб зон в противопо­ ложном направлении, т. е. образуется барьер Шоттки для дырок.

§ 2. Фотовольтаические эффекты на барьерах Шоттки'

337

Высота Ф в

барьера Шоттки зависит от значений

работы

выхода для поверхностей обоих материалов, т. е.

 

 

 

Фв = Ф дг-Ф в.

 

(14.7)

Плотность

тока через контакт

металл — полупроводник

дается формулой

[14]

 

 

/

=

/ 0ехр ( — — ) [ех р

( -§ - ) — і ] ,

(14.8)

где / 0 » 120 Т2 А/см2, когда эффективная масса электрона при­

близительно равна массе свободного электрона [15]. Из форму­ лы (14.8) следует, что Ф в можно определить из эксперименталь­ ных кривых J (У) и / (Т), построенных в правильно выбранном масштабе (фиг. 14.13 и 14.14).

2.Фотоэффекты

а.Внутренний фотоэффект

Пусть на структуру, изображенную на фиг. 14.12, падают фотоны с энергией hv Ф в . В результате оптического возбуж­ дения электроны в металле приобретут энергию, достаточную для

Ф и г . 14.15. Два возможных процесса внутренней фотоэмнсснн.

преодоления барьера. Горячие электроны движутся во всех на­ правлениях, и некоторые из них перемещаются к поверхности. Если при этом они не испытывают слишком много столкновений, то энергии их достаточно, чтобы войти в полупроводник, который таким образом будет заряжаться отрицательно, т. е. на барьере возникает фото-э. д. с. Явление напоминает внешний фотоэффект, рассмотренный в гл. 13, с той лишь разницей, что в данном случае фотоэлектроны эмиттируются в полупроводник, а не в вакуум (процесс 1 на фиг. 14.15).

Отметим, что возможна также фотоэмиссия электронов из ва­ лентной зоны полупроводника в металл, где они будут занимать состояния выше уровня Ферми (процесс 2 на фиг. 14.15). Однако,

22-01085