Файл: Синяков Н.И. Технология изготовления фотомеханических печатных форм учебник.pdf

Наилучшим образом отвечают этим требованиям фенольные, эпок­ сидные смолы и поливинилбутираль. В связи с этим согласно техноло­ гическим инструкциям в состав копировального раствора, кроме свето­ чувствительных хинондиазидов, вводят пленкообразующие смолы. Светочувствительные хинондиазиды нерастворимы в воде, поэтому для составления копировального раствора применяют только органи­ ческие'растворители: этилцеллозольф, диэтилформамид и ацетон. Со­ гласно технологическим инструкциям в состав копировального раст­ вора входят все три растворителя в следующих соотношениях соответ­ ственно: 4 : 3 : 2 ; 6,5 : 1,5 : 1; 2 : 4 : 3 .

От выбора растворителя зависит растекание копировального раст­ вора, т. е. равномерность распределения раствора по поверхности пла­ стины в центрифуге. Введение в копировальный раствор пленкообра­ зующих смол предупреждает кристаллизацию хинондиазида и облегчает удаление с пластины разложившегося под действием света копи­ ровального слоя. Введение смолы повышает кислотоустойчивость неразложившегося под действием света копировального слоя. Для при­ дания указанных рабочих свойств в копировальный слой вводят термопластичную фенолформальдегидную смолу — новолак, обеспечи­ вающую достаточно хорошую растворимость находившихся под дей­ ствием света участков копировального слоя и предупреждающую кри­ сталлизацию хинондиазида. Для повышения кислотоустойчивости неразложившегося под действием света слоя в копировальный раствор вводят бакелитовый лак.

В копировальный раствор входит: 4% хинондиазида (№ 11 и № 27 или № 11 и № 30 в соотношении 1 : 1), 5% новолачной смолы и 5— 10% бакелитового лака (10% бакелитового лака вводят в копировальный раствор, предназначенный для биметаллических печатных форм). Вместо бакелитового лака применяют также поливинилбутираль (око­ ло 2%). Эти вещества растворяют в смеси указанных выше органиче­ ских растворителей*.

щенности на поверхности стекла копировальной рамы 16 000— 18 000 лк. Время экспонирования примерно 4 мин **. Копию проявляют водным раствором, содержащим 3,5—4% натрия фосфорнокислого трехзамещенного и 20—30% глицерина.

Применение летучих органических растворителей требует приня­ тия мер предосторожности при работе с копировальными слоями на хинондиазидах. Согласно данным, приведенным в технологических ин­ струкциях, предельно допустимая концентрация этилцеллозольва и ацетона в воздухе составляет 0,2 мг/л, а диметилформамида — 0,01

* Здесь приводятся, так же как и по другим процессам, только основные данные о составе растворов. Подробно рецептура и режимы обработки даны в технологи­ ческих инструкциях, регламентирующих копирование на хинондиазидах (см. Технологические инструкции по процессам офсетной печати. М., «Книга», 1970).

**Режимы нанесения слоя и копировального процесса излагаются применительно

кизготовлению биметаллических печатных форм.

191

щих элементах остается нерастворяющийся в слабощелочном растворе копировальный слой. На этом слое и образуются печатающие элементы. Отсюда и совокупность требований к свойствам слоя, определяющим ти­ ражеустойчивость печатающих элементов (гидрофобность, адгезия к поверхности металла, механическая прочность к истиранию, щелоче- и кислотостойкость). Проведенными исследованиями * были уточнены свойства копировального слоя, зависящие от вводимой смолы. На рис. 54 показаны результаты измерения краевого угла смачивания в зависи­ мости от оптической плотности прозрачной ступенчатой шкалы с плот­ ностями от £> = 0 , 2 до £> = 1 ,8 , копируемой на слой с хинондиазидами при введении разных смол. Время экспонирования 8 мин при освещен­ ности стекла копировальной рамы 2 0 000 лк. Копию обрабатывали в те­ чение 3 мин 3%-ным раствором фосфорнокислого трехзамещенного на­ трия. На оси абсцисс (рис. 54) отложены оптические плотности, на оси ординат— косинус краевого угла смачивания В. Испытанию были подвергнуты копировальные слои со светочувствительными хинондиа­ зидами № 11 и № 27 в отношении 1 : 1 (40 г/л) и новолаком (50 г/л) в смеси указанных выше растворителей. Испытывались три копироваль­ ных слоя, в каждый из которых вводилось одно из следующих пленко­

*Е. А. Никанчикова и др. Особенности копировального слоя на светочувствитель­ ных хинондиазидах. Исследование офсетных процессов. — «Труды ВНИИ поли­ графии», т. 21, вып. 2, 1971; Исследование отдельных свойств печатающих и пробельных элементов формы.— «Полиграфия», 1972, № 10.

1S2

диазиды стали применять взамен камеди сибирской лиственницы. Тру^ доемкость изготовления одной биметаллической печатной формы за счет сокращения операций с 15 до 10 уменьшилась примерно на 30%. Учитывая, что в формном цехе этого предприятия изготовляется до 100 печатных форм ежедневно, новая технология создала резервы для уве­ личения производства биметаллических печатных форм. Продолжитель­ ная сохраняемость рабочих свойств копировального слоя с хинондиазидами позволила отделить подготовку предварительно очувствленных пластин от копировального отделения.

Копировальные слои с хинондиазидами отличаются от других копи­ ровальных слоев рядом существенных положительных свойств. Они хорошо противостоят химической обработке и обладают хорошими эле­ ктроизоляционными свойствами. Это исключает необходимость при­ менять химическую и термическую обработку копии. Отмечается хоро­ шая адгезия слоя к поверхности металла и полное удаление раствором щелочи продуктов разложения хинондиазида при достаточном экспо­ нировании слоя под прозрачными участками фотоформы. Поэтому к копировальной способности фотоформы предъявляются требования строгого соблюдения интервала плотностей: Z)max не ниже 1,6 и Dmin не выше 0,15.

Нанесение копировального слоя на офсетные формные пластины в центрифугах исключает возможность автоматизации заключительного этапа процесса подготовки моно- и биметаллических пластин. Нанесе­ ние копировального раствора в центрифугах — малопроизводительный процесс, отличается неравномерностью распределения слоя по поверх­ ности пластины, причем до 40% того количества копировального раст­ вора, которое наносится на пластину во время центрифугирования, сбрасывается с пластины, что при относительно высокой стоимости хинондиазидов экономически весьма ощутимо. Задача повышения про­ изводительности, автоматизации процесса и организации поточного про­ изводства предварительно очувствленных пластин может быть решена только при условии замены центрифугирования другим методом. Ис­ пытывается возможность переноса в электростатическом поле мель­ чайших капель копировального раствора из резервуара на подготовлен­ ную для этого формную пластину*. Для этого Одесским СКВ Главполиграфстекломаша была изготовлена установка ФСЛ-110Э, в которой нанесение копировального слоя с хинондиазидами на зерненью элек­ трохимическим путем алюминиевые пластины осуществляется в эле­ ктростатическом поле под высоким напряжением. Эта установка под­

*Перенос в электростатическом поле разного рода волокон на различные мате­ риалы с целью получения покрытий, имитирующих бархат, применяется уже давно (бархатные бумаги для переплетов и изготовления различных изделий, например, упаковочных коробок и т. п.).

**И. Е. Резников. Опыт Московской типографии № 6 Главполиграфпрома по меха­ низации изготовления предварительно очувствленных монометаллических офсетных пластин. Материалы Всесоюзного научного симпозиума «Проблемы

194

Копирование на фотополимерах находит применение не только для изготовления форм высокой печати (см. §61), но и моно- и биметалли­ ческих офсетных печатных форм. При этом на полиграфическом пред­ приятии либо применяют фотополимерные копировальные растворы и наносят их на формные пластины в центрифугах, либо, и это получает за рубежом все большее распространение, используют предварительно очувствленные офсетные пластины, выпускаемые фирмами для моно- и биметаллических печатных форм. Для указанных целей применяют ко­ пировальные слои на основе поливинилцинномата, что связано, как указывалось выше, с токсичностью органических растворителей. По­ этому предпочтительнее применять предварительно очувствленные оф­ сетные пластины с дальнейшим воднощелочным проявлением копий. Для изготовления офсетных копий можно использовать фотополимерный копировальный слой УНИИППа (см. § 61) при тех же режимах на­ несения слоя, экспонирования и обработки, которые рекомендованы при получении копий на формных пластинах высокой печати.

Позитивное копирование на слое хромированной камеди сибирской лиственницы применяют при изготовлении монометаллических оф­ сетных форм на алюминиевых и цинковых пластинах и при изготовле­ нии биметаллических офсетных форм медь — никель на алюминиевой основе с наращиванием никеля электролитическим путем на пробель­ ные элементы после удаления с них задубленного слоя, а также при изготовлении офсетных форм алюминий — медь с химическим медне­ нием печатающих элементов. Применяют очищенную камедь сибирской лиственницы, отвечающую требованиям ВТУ 96—52 Главиздата.

Технология изготовления копий на хромированной камеди сибир­ ской лиственницы и рецептура раствора при изготовлении моно- и би­ металлических печатных форм не имеют существенных отличий. В ко­ пировальный раствор вводят 80% раствора камеди сибирской листвен­ ницы (уд. вес 1,12). В раствор вводят 7% бихромата аммония и 0,02% марганцевокислого калия. Копию проявляют раствором роданистого аммония с глицерином. Затем следует второе проявление несколько более концентрированными растворами роданистого калия для алю­ миния и роданистого аммония для цинка. В качестве второго прояви­ теля применяют также концентрированный раствор хлористого каль­ ция с молочной кислотой. После проявления, как и при копировании на хромированном ПВС, копию покрывают тонким слоем бакелито­ вого лака и краски № 82. Задубленный слой удаляют 2—3%-ным раст­ вором серной кислоты.

Негативное копирование на диазосмоле, согласно технологическим инструкциям, производят на алюминиевых пластинах. Для этой цели применяют диазосмолу (ТУ ПДХЗ 53—1965). Подготовленную пласти­ ну очищают обработкой 3%-ным раствором тринатрийфосфата и промы­ вают водой. После этого на ее поверхность наносят раствор силиката натрия (жидкое стекло) с удельным весом 1,05— 1,06, затем пластину

развития офсетной печати», 16— 18 ноября 1971 г. Тезисы докладов. Издание ВНИИКПП;С. И. Шапошников. Симпозиум по офсетной печати.— «Полиграфия», 1972, № 1.