Файл: Синяков Н.И. Технология изготовления фотомеханических печатных форм учебник.pdf

быть одинаковой, в противном случае копировальный эффект задубливания при одной и той же экспозиции будет под разными фотофор­ мами различным.

Глава 2

Фототехнические пленки

§ П

Требования к сенситометрическим и физическим характеристикам фототехнических слоев

Фотослои, предназначенные для фоторепродукционного процесса, называются ф о т о т е х н и ч е с к и м и .

Рассмотренные в § 10 общие требования к фотоформам, в свою оче­ редь, определяют требования, предъявляемые к сенситометрическим и физическим характеристикам фототехнических слоев. По характеру этих требований фототехнические слои можно разделить на две группы: 1) для изготовления штриховых и растровых фютофюрм, 2) для изго­ товления тоновых фотоформ. По сенситометрическим характеристикам фототехнические пленки второй группы принципиально ничем не от­ личаются от обычных фотографических слоев, имеющих общефотогра­ фическое назначение, так как и здесь и там решается задача градацион­ ного воспроизведения.

Фототехнические слои первой группы — это слои специального назначения, к которым предъявляются особые требования. Основным показателем, определяющим пригодность этих слоев для штриховой

ирастровой съемки, прежде всего является резкость краев штриховых

ирастровых элементов, а также величины D 0 (вуаль) иОтах. Резкость краев штриховых и растровых элементов зависит от следующих сенси­

тометрических и физических характеристик фототехнического слоя: контрастности, нижнего криволинейного участка (области недодержек) характеристической кривой, разрешающей способности, которая, в свою очередь, зависит от ореолообразования (ореолы рассеяния и отра­ жения) и зернистости. Чем больше коэффициент контрастности у, больше разрешающая способность, меньше ореолообразование и мень­ ше нижний криволинейный участок (область недодержек) характери­ стической кривой, тем больше резкость краев штриховых и растровых элементов. Разрешающая способность фототехнических слоев первой группы находится в пределах 100—200 лин/мм.

Требуемые свойства фототехнических слоев достигаются путем на­ несения на основу тонких слоев мелкозернистых контрастных фотогра­ фических эмульсий и противоореольных слоев определенного цвета, зависящего от цветочувствительности данного фототехнического слоя. Эмульсионный слой фототехнических слоев в 2—3 раза тоньше, чем обычных фотоматериалов и находится в пределах 10 мкм, а у сверхкон­ трастных фототехнических слоев он еще меньше. В результате фото­ технические слои обладают высокой разрешающей способностью, так как уменьшение толщины эмульсионного слоя и величины зерен сни­

30

характеристической кривой: чем он меньше, тем меньше влияние свето­ рассеяния на резкость штриховых и растровых элементов.

На рис. 2 приведена типичная характеристическая кривая сверх­

Ассортимент фототехнических пленок

Фототехнические слои, как и общефотографические, выпускаются на разной подложке: стекле, пленке и бумаге. Однако в фотомехани­ ческих процессах в последнее время почти исключительно применяют­ ся фототехнические слои на прозрачной гибкой основе — фототехни­ ческие пленки. Это объясняется многими преимуществами их перед фотопластинками. Они очень удобны в обращении, позволяют перейти на автоматизированную обработку, транспортабельны. Рулонная плен­ ка позволяет выкраивать материал любого формата. Фотографирование на рулонную пленку, помещенную в автоматизированный двухкомнат­ ный репродукционный фотоаппарат, позволило объединить экспониро­ вание с обработкой фотопленки в одну поточную линию. При контакт­ ном изготовлении фотоформ и копировании с них на формный материал в пневматических копировальных рамах и копировально-контактных станках между пленками и между пленкой и поверхностью формного материала обеспечивается полный контакт. Использование фототехни-

* Фототехническая сверхконтрастная пленка ФТ-101.— «Полиграфическая про­ мышленность. Реферативная информация» (ЦБНТИ по печати). М.., 1971,

№ 3.

31

ческой пленки благодаря практически одинаковой толщине и неогра­ ниченной возможности резать ее любых размеров и очертаний по контуру устраняет трудные моменты в изготовлении монтажных фотоформ, особенно смешанных для журнальной продукции, связанные в прош­ лом с применением стеклянных пластинок. Появилась возможность готовить монтажные фотоформы на общей гибкой пластмассовой под­ ложке взамен зеркальных стекол.

Весьма существенным недостатком фототехнических пленок на нитроцеллюлозной и триацетатной основе является ее деформация, которая значительно превышает допустимую. В тс время как допус­ тимая деформация не должна превышать 0,025%, что для формата 30x40 см составляет 0,1 мм, деформация фототехнической пленки на указанных подложках доходит до 0,2—0,3 %, т. е. для формата 30 х 40 см составляет 0,8— 1,2 мм, превышая таким образом допустимую в 8— 12 раз. Такая значительная деформация фототехнических пленок, безусловно, затрудняет ее использование, однако принимаемые меры (см. § 28) позволяют устранить ее отрицательное влияние на несовмещение размеров фотоизображений.

С развитием химии синтетических полимеров появились пластмас­ сы, используемые в качестве основы фототехнической пленки, которая обладает незначительной деформацией (не более 0,01%). К таким прак­ тически недеформирующимся синтетическим основам можно отнести астралон, полистирол, терилен (полиэтилентерефталат)* и др. Толщина основы фототехнической пленки не превышает 0,1—0,2 мм. Как у нас, так и за границей фототехническая пленка выпускается листовой и ру­ лонной.

Отечественная листовая фототехническая пленка выпускается стан­ дартных форматов от 13X 18 до 50x60 см, а рулонная с шириной ру­ лона до 1150 мм и длиной 10—20 м. Пленка имеет марку ФТ с двумя

ортохроматическая и 2 — изопанхроматическая). Все фототехнические пленки имеют противоореольный слой, нанесенный на оборотную сто­ рону подложки. У несенсибилизированных пленок цвет противоореольного слоя красный, у изоортохроматических — темно-красный,

уизопанхроматических — зеленый.

Кпервой группе фототехнических пленок для штриховых и раст­ ровых фотоформ относятся: ФТ-30, ФТ-31, ФТ-32, ФТ-41 и ФТ-41-СС (со съемным слоем), ФТ-101. Ко второй группе фототехнических пле­ нок для тоновых фотоформ относятся: ФТ-10, ФТ-11, ФТ-12, ФТ-20, ФТ-21, ФТ-22, ФТ-ВМ и ФТ-КР (двухслойные с маскирующим слоем).

Несенсибилизированная фототехническая пленка предназначена главным образом для контактного изготовления негативов и диапози­ тивов, изоортохроматическая и изопанхроматическая — для проекци­ онной съемки.

* Т е р и л е н — новый синтетический материал для кинопленки. — Журнал научной и прикладной фотографии и кинематографии, 1956, т. 1, № 2.

32

Кроме фототехнических пленок отечественного производства, у нас применяют некоторые из следующих фототехнических пленок, выпус­ каемых в ГДР народным предприятием «ORWO»: F04, FP4, FU2, FP2. Пленки F04, FP4 относятся к первой группе, а пленки FU2, FP2 — ко второй. Первая буква маркировки означает «фототехническая»; вто­ рая: U — несенсибилизированная, 0 — ортохроматическая,?— пан­ хроматическая; цифра характеризует степень контрастности.

В связи с тем, что фототехнические пленки первой группы ФТ-30, ФТ-31 и ФТ-32, а также указанные выше фототехнические пленки «ORWO» F04, FP4 не обладают достаточным контрастом, они с самого начала не удовлетворяли требованиям изготовления штриховых и ра­ стровых фотоформ. При работе с этими пленками появляется необхо­ димость во многих случаях применять контратипирование для устране­ ния нерезкости (ореола) на краях растровых элементов. Контратипи­ рование увеличивает трудоемкость и ведет к излишнему расходу фото­ технической пленки. Все это вызвало необходимость разработки новых фототехнических слоев и новых проявителей. В результате у нас и за границей появились сверхконтрастные фототехнические слои, которые в сочетании с контактными растрами и особыми контрастными прояви­ телями позволили получить высококачественные растровые фотоформы, отличающиеся резкостью растровых элементов.

К сверхконтрастным фототехническим пленкам относятся: отече­ ственные ФТ-41, ФТ-101*, пленки «ORWO» F05, F06 и ряд фототехни­ ческих пленок, выпускаемых иностранными фирмами, например: Кодалит (Англия), Ферралит (Италия), Типолит (Швейцария), Фудзалит (Япония) и другие, название которых оканчивается на лит (lith), что и послужило основанием объединить их под общим названием сверхконтрастные фототехнические пленки типа «лит».

Сверхконтрастная фототехническая пленка ФТ-101 при проявлении в проявителе ИП обеспечивает высокую контрастность фотоизображения (у не менее 10). Примерно такой же результат дают и фототехнические пленки типа «лит» при проявлении их в параформальдегидном прояви­ теле. Наибольшую гамму на сверхконтрастных фототехнических плен­ ках удается получить с использованием только специально разработан­ ных для них рецептов проявителей. Поэтому все эти фототехнические пленки выпускаются в комплекте с готовыми проявителями. Так, фотопленка ФТ-101 комплектуется указанным выше проявителем ИП**.

Двухслойная фототехническая пленка с внутренним градационным маскированием применяется для получения тонового негатива с ис­ правленной градационной передачей. Следовательно, она относится ко второй группе фототехнических слоев, предназначенных для фото­ графирования тоновых оригиналов с целью получения тоновых не­ гативов.

Известно несколько типов двухслойных фототехнических пленок с

* ФТ-101 означает фототехническая, первые две цифры (10) — гамма не менее 10, а последняя цифра 1 — ортохроматическая.

**Проявитель ИП для фототехнической пленки ФТ-101.— «Полиграфическая про­ мышленность. Реферативная информация» (ЦБНТИ по печати). М., 1971, № 3.

Применяя двухслойную пленку для изготовления тонового диапозитива

жения и получают фотоформу — диапозитив с повышенной гаммой в светах и тенях изображения.

У двухслойных фототехнических пленок для градационного маски­ рования— отечественной ФТ-ВМ (ВМ— внутреннее маскирование), «ORWO» (ГДР) F015 нижний фотослой несенсибилизированный, нор­ мальный, имеет относительно большую светочувствительность, предназначен для получения на негативе всей шкалы яркостей оригинала с нормальной градационной передачей; второй фотослой — маскирую­ щий, ортохроматический, контрастный, с относительно малой светочув­ ствительностью, предназначен для передачи на негативе светов ори­ гинала с повышенной у. На рис. Зв осях lgH,D, приведены характери­ стические кривые фотослоев двухслойной пленки: 1 — нормального и 2 — контрастного. Поскольку при съемке на двухслойной пленке об­ разуются два совмещенных изображения — основное и маскирующее, то суммарная градационная кривая получается при сложении града­ ционных кривых обоих изображений. Пунктиром на кривой 1 показа­ на исправленная в светах часть суммарной градационной кривой.

Производя экспозицию частично с желтым светофильтром и частич­ но без него, можно изменять эффект градационного маскирования, так как он зависит от соотношений этих двух экспозиций. Чем больше от­ носительная экспозиция через желтый светофильтр, тем с большим кон­ трастом передаются на негативе света оригинала. Причем градационное маскирование с увеличением экспозиции с желтым светофильтром и, следовательно, уменьшением экспозиции без светофильтра все боль­ ше распространяется на примыкающие к светам полутона. При экспо­ нировании только с желтым светофильтром получаемый негатив будет контрастным, так как в этом случае изображение получается только в

34