ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 21.07.2024
Просмотров: 92
Скачиваний: 0
§ 5. Простейшие и сложные комплексы дефектов^
образующиеся при облучении
И з предыдущего у ж е стало понятно, что во время облучения кристаллической решетки происходят чрез
вычайно |
сложные |
процессы, которые |
зачастую |
конку |
||||||||
рируют |
между собой. Исход облучения |
зависит от многих |
||||||||||
факторов — в первую |
очередь |
от |
типа |
кристаллической |
||||||||
решетки, |
от |
типа |
частиц, |
от |
энергии |
и интенсивности |
||||||
облучения, а т а к ж е |
от температуры |
опыта. На |
второе |
|||||||||
место можно |
поставить |
такие |
факторы, |
как |
направ |
|||||||
ление |
облучения |
внутри |
кристаллической |
решетки |
и |
|||||||
степень |
|
ее |
дефектности. |
Под |
действием |
облучения |
в |
твердом теле возникают самые разнообразные измене
ния, в зависимости |
от |
действия перечисленных |
факто |
|||||
ров. Могут |
д а ж е |
не |
возникать смещения |
атомов |
и дело |
|||
ограничивается |
лишь |
возбуждением кристаллической |
||||||
решетки и |
системы |
свободных электронов |
(в |
металлах) . |
||||
Это случай |
чистого |
радиационного |
нагрева. |
Но |
могут |
|||
т а к ж е произойти |
катастрофические |
явления, |
близкие к |
|||||
локальным |
расплавлениям кристаллической |
решетки, |
т а к ж е сопровождающиеся сильным радиационным на гревом. В промежутке между этими крайними случая ми существует целый спектр различных радиационных повреждений —.от одиночных вакансий и внутренних атомов до скоплений радиационных дефектов, приобре тающих новые свойства, характерные для ансамблей то
чечных |
дефектов. |
|
|
|
|
Простейшими |
радиационными дефектами |
являются |
|||
вакансия и междоузельные или внедренные |
атомы. Во |
||||
время |
облучения |
возникают обычно |
внедренные |
атомы |
|
и вакансии одновременно, поскольку |
выбивание |
атома |
из положения равновесия в решетке сопряжено с тем, что |
||
в этом |
месте решетки возникает пустое место или |
ва |
кансия. |
В силу того, что окружающие атомы имеют |
воз |
можность релаксировать |
и занять |
вакантное место, |
а |
||
внедренный атом в свою очередь может начать |
движе |
||||
ние по решетке, итог облучения сразу предсказать |
труд |
||||
но. В зависимости от температуры |
материала |
и |
типа |
||
кристаллической решетки |
часть дефектов может |
|
вооб |
||
ще исчезнуть, аннигилируя на противоположных |
по |
ти |
|||
пу дефектах, сливаясь с дислокациями или выходя |
на |
||||
поверхность. |
|
|
|
|
|
и/
Д р у г ая часть дефектов может объединиться в скоп ления, состоящих из однотипных дефектов. Таким обра зом, могут возникнуть скопления вакансии, которые сначала «съедают» часть какой-нибудь плоскости в крис таллической решетке, а затем образуют поры внутри твердого тела. В свою очередь внутренние атомы могут т а к ж е объединиться и образовать участки лишней атом
ной |
плоскости. Это искажает решетку, создает |
внутрен |
||||
ние |
напряжения |
и затрудняет |
пластическую |
деформа |
||
цию материала. |
|
|
|
|
||
|
Вместе с |
тем |
процессы |
объединения однотипных де |
||
фектов могут |
не |
заходить |
так |
далеко (до образования |
пор и внедренных атомных плоскостей), и дело ограни
чивается |
|
скоплением |
вакансий |
в одних областях |
решет |
||||||
ки и внедренных |
атомов в других. Такие процессы |
чаще |
|||||||||
всего наблюдаются, если в твердом |
теле |
существует |
|||||||||
неравномерное |
распределение |
внутренних |
напряжений. |
||||||||
В |
этом |
случае |
вакансии стремятся |
сконцентрироваться |
|||||||
в |
сжатых |
областях |
решетки, |
а внедренные атомы — в |
|||||||
растянутых. Причину этого понять |
нетрудно — посколь |
||||||||||
ку |
с |
вакансиями |
связано появление «пустоты» в решет |
||||||||
ке, |
они |
стремятся перейти в область, |
где имеется |
лиш |
|||||||
ний |
материал |
и |
напряжения |
сжатия . |
Прибытие |
||||||
вакансий |
в эти |
области р а з р я ж а е т |
обстановку и |
стаби |
лизирует структуру. По аналогичным причинам внед
ренные |
атомы |
стремятся в |
растянутые области. |
Именно |
|||
в этих |
областях они могут |
более |
свободно |
разместиться |
|||
и легко |
перемещаться, |
поскольку |
каждый |
внедренный |
|||
атом вносит тесноту в решетку и |
бесцеремепно |
растал |
|||||
кивает |
своих |
соседей, |
создавая |
локальные |
перенапря |
||
жения |
сжатия. |
|
|
|
|
|
|
Теоретики оценили энергию образования и движения |
|||||||
вакансий и внедренных |
атомов для плотноупакованных |
металлов. Энергия образования вакансии примерно сов
падает |
с энергией |
активации ее движения и равна |
|||
~ 1 эв. |
Что |
касается |
внедренных атомов, то энергия их |
||
образования |
составляет |
~ 5 зе, |
а энергия активации |
||
движения — всего 0,1 |
эв. |
Расчеты |
энергии образования |
вакансий и внедренных атомов проводились для случая
теплового возникновения этих дефектов. Из |
приведен |
|||
ных |
данных видно, что |
внедренные атомы |
образуются |
|
в пять раз труднее, а двигаются |
в десять раз |
легче. От |
||
сюда |
вывод — вакансии |
должны |
встречаться |
в решетке |
гораздо |
чаще, чем |
внедренные |
атомы. Внедренные |
ж е |
||
атомы |
с трудом |
возникают и быстро исчезают. Во |
вре |
|||
мя облучения |
вероятности возникновения |
внедренных |
||||
атомов |
и вакансии |
примерно |
одинаковы, |
поскольку . в |
каждом элементарном акте столкновения частицы с уз
лом решетки |
возникает внедренный |
атом |
и |
вакансия. |
При этом, как указывалось, затрачивается |
энергия при |
|||
мерно 25 эв |
(в силу динамичности |
процесса). |
Однако |
дальнейшая судьба вакансий и внедренных атомов зави сит от скорости передвижения их по решетке.
Приведенные выше теоретические оценки энергии активации перемещения дефектов остаются в силе. Ва
кансии перемещаются с энергией активации ~ |
1 эв, а |
|
внедренные |
атомы ~ 0,1 эв. Таким образом, |
внедрен |
ные атомы |
при данном уровне теплового возбуждения |
решетки получают возможность первыми начать движе
ние и закончить свой путь, объединившись со |
своей или |
||
чужой вакансией, либо выйдя на поверхность |
образца, |
||
на линию дислокации или в растянутую область |
решет |
||
ки. Практически дело выглядит так. Внедренные |
атомы |
||
начинают быстро двигаться, лихорадочно искать |
место |
||
в решетке, где избыточная энергия, связанная |
с |
их |
су |
ществованием, могла бы разрядиться. Вакансии |
ж е |
в |
это время остаются на месте или двигаются очень мед ленно. В результате часть мечущихся внедренных ато мов попадет в свои или чужие вакансии и там успоко ится, но большая часть уйдет от вакансий и вообще по кинет эту область решетки.
Если бы внедренные атомы и вакансии имели одина ковую энергию активации, то результат облучения был бы совсем иной, точнее никакого результата могло бы вообще не быть. Действительно, вообразим себе, что ва кансии и внедренные атомы после окончания облучения начинают одинаково интенсивно метаться по решетке.
Вэтом случае почти со стопроцентной вероятностью
можно было бы ожидать, что |
каждый |
партнер |
найдёт |
||||
свой или |
чужой |
антипод и аннигилирует на нем, т. е. |
|||||
никакого |
остаточного |
эффекта |
не было |
бы. Однако в |
|||
действительности |
это не происходит, |
и |
основная |
причи |
|||
на остаточных явлений |
в облученных |
материалах зак |
|||||
лючается |
именно |
в разных энергиях |
активации |
движе |
ния точечных дефектов. Благодаря этому в облученных материалах при средних и высоких температурах оста-
ются лишь |
объединения вакансий. |
Внедренные |
атомы |
||||
и их — ансамбли — более редкое |
радиационное |
повреж |
|||||
дение |
и их |
существование может быть |
обусловлено |
||||
только |
сохранением облученных |
образцов |
при |
очень |
|||
низких |
температурах |
(в большинстве |
случаев единицы |
||||
и десятки |
градусов |
Кельвина), |
когда |
энергия |
тепло |
||
вых колебаний узлов |
кристаллической |
решетки еще |
|||||
мала . |
|
|
|
|
|
|
|
Внедренные атомы могут занимать в решетке раз личное положение, в зависимости от типа облуча емой кристаллической решетки. На рис. 5 показано по-
о |
6- |
|
в |
.2 |
Р и с. |
5. Положение внедренного атома и грансцентрировашюй |
|||
(а), |
объёмноцентрнрованиоп |
(б), |
гексагональной |
(в) и типа |
|
алмаза (г) |
решетках. |
|
|
ложение |
внедренных атомов |
в гранецентрированной |
(а), объемноцентрированной (б), кубических, гексаго
нальной |
(в), и в решетке типа |
алмаза (г). |
|
|
В полярных кристаллах, которые построены из элек |
||||
трически |
взаимодействующих |
и |
противоположно |
заря |
женных |
ионов, расположенных |
в |
соседних узлах |
решет |
ки, дело |
усложняется тем, что |
необходимо сохранение |
условия электрической нейтральности в материале. В
ионных кристаллах возникают в близком |
соседстве сра |
|||||||
зу две вакансии — одна з а р я ж е н н а я |
положительно,дру |
|||||||
гая отрицательно. Такая пара, в |
целом, |
я в л я ю щ а я с я |
||||||
нейтральным дефектом, называется |
дефектом |
по |
Шотт- |
|||||
ки. Энергия |
ее образования |
составляет |
примерно |
2 эв, |
||||
т. е. вдвое |
больше, |
чем одиночной |
вакансии. |
Энергия |
||||
активации |
движения |
такой |
пары должна |
быть |
т а к ж е |
больше, чем в случае одиночной вакансии. В этом зак лючается одна из причин наблюдаемой на опыте стой кости радиационных изменений в ионных кристаллах