Файл: Троицкий О.А. Радиация и прочность твердых тел.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 21.07.2024

Просмотров: 92

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

§ 5. Простейшие и сложные комплексы дефектов^

образующиеся при облучении

И з предыдущего у ж е стало понятно, что во время облучения кристаллической решетки происходят чрез­

вычайно

сложные

процессы, которые

зачастую

конку­

рируют

между собой. Исход облучения

зависит от многих

факторов — в первую

очередь

от

типа

кристаллической

решетки,

от

типа

частиц,

от

энергии

и интенсивности

облучения, а т а к ж е

от температуры

опыта. На

второе

место можно

поставить

такие

факторы,

как

направ­

ление

облучения

внутри

кристаллической

решетки

и

степень

 

ее

дефектности.

Под

действием

облучения

в

твердом теле возникают самые разнообразные измене­

ния, в зависимости

от

действия перечисленных

факто­

ров. Могут

д а ж е

не

возникать смещения

атомов

и дело

ограничивается

лишь

возбуждением кристаллической

решетки и

системы

свободных электронов

металлах) .

Это случай

чистого

радиационного

нагрева.

Но

могут

т а к ж е произойти

катастрофические

явления,

близкие к

локальным

расплавлениям кристаллической

решетки,

т а к ж е сопровождающиеся сильным радиационным на­ гревом. В промежутке между этими крайними случая­ ми существует целый спектр различных радиационных повреждений —.от одиночных вакансий и внутренних атомов до скоплений радиационных дефектов, приобре­ тающих новые свойства, характерные для ансамблей то­

чечных

дефектов.

 

 

 

 

Простейшими

радиационными дефектами

являются

вакансия и междоузельные или внедренные

атомы. Во

время

облучения

возникают обычно

внедренные

атомы

и вакансии одновременно, поскольку

выбивание

атома

из положения равновесия в решетке сопряжено с тем, что

в этом

месте решетки возникает пустое место или

ва­

кансия.

В силу того, что окружающие атомы имеют

воз­

можность релаксировать

и занять

вакантное место,

а

внедренный атом в свою очередь может начать

движе­

ние по решетке, итог облучения сразу предсказать

труд­

но. В зависимости от температуры

материала

и

типа

кристаллической решетки

часть дефектов может

 

вооб­

ще исчезнуть, аннигилируя на противоположных

по

ти­

пу дефектах, сливаясь с дислокациями или выходя

на

поверхность.

 

 

 

 

 

и/


Д р у г ая часть дефектов может объединиться в скоп­ ления, состоящих из однотипных дефектов. Таким обра­ зом, могут возникнуть скопления вакансии, которые сначала «съедают» часть какой-нибудь плоскости в крис­ таллической решетке, а затем образуют поры внутри твердого тела. В свою очередь внутренние атомы могут т а к ж е объединиться и образовать участки лишней атом­

ной

плоскости. Это искажает решетку, создает

внутрен­

ние

напряжения

и затрудняет

пластическую

деформа­

цию материала.

 

 

 

 

 

Вместе с

тем

процессы

объединения однотипных де­

фектов могут

не

заходить

так

далеко (до образования

пор и внедренных атомных плоскостей), и дело ограни­

чивается

 

скоплением

вакансий

в одних областях

решет­

ки и внедренных

атомов в других. Такие процессы

чаще

всего наблюдаются, если в твердом

теле

существует

неравномерное

распределение

внутренних

напряжений.

В

этом

случае

вакансии стремятся

сконцентрироваться

в

сжатых

областях

решетки,

а внедренные атомы — в

растянутых. Причину этого понять

нетрудно — посколь­

ку

с

вакансиями

связано появление «пустоты» в решет­

ке,

они

стремятся перейти в область,

где имеется

лиш­

ний

материал

и

напряжения

сжатия .

Прибытие

вакансий

в эти

области р а з р я ж а е т

обстановку и

стаби­

лизирует структуру. По аналогичным причинам внед­

ренные

атомы

стремятся в

растянутые области.

Именно

в этих

областях они могут

более

свободно

разместиться

и легко

перемещаться,

поскольку

каждый

внедренный

атом вносит тесноту в решетку и

бесцеремепно

растал­

кивает

своих

соседей,

создавая

локальные

перенапря­

жения

сжатия.

 

 

 

 

 

Теоретики оценили энергию образования и движения

вакансий и внедренных

атомов для плотноупакованных

металлов. Энергия образования вакансии примерно сов­

падает

с энергией

активации ее движения и равна

~ 1 эв.

Что

касается

внедренных атомов, то энергия их

образования

составляет

~ 5 зе,

а энергия активации

движения — всего 0,1

эв.

Расчеты

энергии образования

вакансий и внедренных атомов проводились для случая

теплового возникновения этих дефектов. Из

приведен­

ных

данных видно, что

внедренные атомы

образуются

в пять раз труднее, а двигаются

в десять раз

легче. От­

сюда

вывод — вакансии

должны

встречаться

в решетке


гораздо

чаще, чем

внедренные

атомы. Внедренные

ж е

атомы

с трудом

возникают и быстро исчезают. Во

вре­

мя облучения

вероятности возникновения

внедренных

атомов

и вакансии

примерно

одинаковы,

поскольку . в

каждом элементарном акте столкновения частицы с уз­

лом решетки

возникает внедренный

атом

и

вакансия.

При этом, как указывалось, затрачивается

энергия при­

мерно 25 эв

(в силу динамичности

процесса).

Однако

дальнейшая судьба вакансий и внедренных атомов зави­ сит от скорости передвижения их по решетке.

Приведенные выше теоретические оценки энергии активации перемещения дефектов остаются в силе. Ва­

кансии перемещаются с энергией активации ~

1 эв, а

внедренные

атомы ~ 0,1 эв. Таким образом,

внедрен­

ные атомы

при данном уровне теплового возбуждения

решетки получают возможность первыми начать движе ­

ние и закончить свой путь, объединившись со

своей или

чужой вакансией, либо выйдя на поверхность

образца,

на линию дислокации или в растянутую область

решет­

ки. Практически дело выглядит так. Внедренные

атомы

начинают быстро двигаться, лихорадочно искать

место

в решетке, где избыточная энергия, связанная

с

их

су­

ществованием, могла бы разрядиться. Вакансии

ж е

в

это время остаются на месте или двигаются очень мед­ ленно. В результате часть мечущихся внедренных ато­ мов попадет в свои или чужие вакансии и там успоко­ ится, но большая часть уйдет от вакансий и вообще по­ кинет эту область решетки.

Если бы внедренные атомы и вакансии имели одина­ ковую энергию активации, то результат облучения был бы совсем иной, точнее никакого результата могло бы вообще не быть. Действительно, вообразим себе, что ва­ кансии и внедренные атомы после окончания облучения начинают одинаково интенсивно метаться по решетке.

Вэтом случае почти со стопроцентной вероятностью

можно было бы ожидать, что

каждый

партнер

найдёт

свой или

чужой

антипод и аннигилирует на нем, т. е.

никакого

остаточного

эффекта

не было

бы. Однако в

действительности

это не происходит,

и

основная

причи­

на остаточных явлений

в облученных

материалах зак­

лючается

именно

в разных энергиях

активации

движе ­

ния точечных дефектов. Благодаря этому в облученных материалах при средних и высоких температурах оста-



ются лишь

объединения вакансий.

Внедренные

атомы

и их — ансамбли — более редкое

радиационное

повреж­

дение

и их

существование может быть

обусловлено

только

сохранением облученных

образцов

при

очень

низких

температурах

(в большинстве

случаев единицы

и десятки

градусов

Кельвина),

когда

энергия

тепло­

вых колебаний узлов

кристаллической

решетки еще

мала .

 

 

 

 

 

 

 

Внедренные атомы могут занимать в решетке раз­ личное положение, в зависимости от типа облуча­ емой кристаллической решетки. На рис. 5 показано по-

о

6-

 

в

.2

Р и с.

5. Положение внедренного атома и грансцентрировашюй

(а),

объёмноцентрнрованиоп

(б),

гексагональной

(в) и типа

 

алмаза (г)

решетках.

 

ложение

внедренных атомов

в гранецентрированной

(а), объемноцентрированной (б), кубических, гексаго­

нальной

(в), и в решетке типа

алмаза (г).

 

В полярных кристаллах, которые построены из элек­

трически

взаимодействующих

и

противоположно

заря ­

женных

ионов, расположенных

в

соседних узлах

решет­

ки, дело

усложняется тем, что

необходимо сохранение

условия электрической нейтральности в материале. В

ионных кристаллах возникают в близком

соседстве сра­

зу две вакансии — одна з а р я ж е н н а я

положительно,дру­

гая отрицательно. Такая пара, в

целом,

я в л я ю щ а я с я

нейтральным дефектом, называется

дефектом

по

Шотт-

ки. Энергия

ее образования

составляет

примерно

2 эв,

т. е. вдвое

больше,

чем одиночной

вакансии.

Энергия

активации

движения

такой

пары должна

быть

т а к ж е

больше, чем в случае одиночной вакансии. В этом зак­ лючается одна из причин наблюдаемой на опыте стой­ кости радиационных изменений в ионных кристаллах