Файл: Носков Д.А. Электронно-ионное оборудование технологического назначения.pdf

- ы -

падевая воядрруиюта «уча а друмх факторов, то На «вране трубя в черно-бедои ваобрамнвв воссоздается вартвяа верхвоств облучаемого участка М воемя подробнг отняв. На Увьпявах мектроввов рввроскьвв* рааработаяв уотро*ства

увехвчвввев в 1000-2000 крат.

1

- 95

5-1. Вакуумные система с* обводной откачкой объёмов

| Одна на наиболее простых вакуувннх систем с обводной отяачкой по.сазана на рис . 5 - 1 - 1 . Рабочая камера откачивает­ ся диффуэионным насосом с эетвором* перекрывающим насос,

диффузионный насос и возможное» срыва откачки, если по ка­ кой-либо причине произойдет эадержка при откачке камеры через обводную систему. От э'^их недостатков свободна вакуум­ ная система с откачкой обводного канала автономным насосом (см . ряс . 5 - 1 - 2) . Этот насос включается на период откачки ра­ бочей камеры после загрузки и герметизьдии. На это время, как а в первом варианте, диффузионный насос Л перекрыт зат ­ вором 3, а верхний вентиль 10 открыт. Вакуумный вентиль 9 позволяет производить стартовую откачку диффузионного насо­

пупки и рабочей камеры, приведена но рис.5-1-3. В некоторых

установках сте зт Выдвори между пуякой л в ргбочен наг ре, воаводницие сократи» время на рвагерметиз&дию и откачку ка­

меры за счет того, что д м раэгерметнэации камеры не нужно ждать пока остынет катодный узел. Иногда в вакуумные систе­ мы л<я удавлввания л ров масла вводят вымораживающие или

больиинотва случаев используются обычные паромасляныо диффуемоавые ваоооы я форвакуунные насосы. Только в установке: для изготовлений интегральных схем с регулируемым составом, атмосферы, в которых недопустимо присутствие паров масла, «сподьзувт для откачки электроразрядные насосы в другие бешаслянне средства oiлачка.

- 97 -

\

Рво.5-1-3. Схегт електронно-дугсхоя уотановкя о раэдея*- ной откачкой пушки и рабочэн камеры»

I-рабочая камере}. 2,Ю-диффуэйонные насооы} 5,Я-мвхвЕЭ- ческие насосы, 4,9-затворщ 5,12-ваку?апроводягб-вбнтяль| 7-лин8а,* 8-датчики давления; 13-диа$рагаа{ М-оальфонн,'

15-натеватель

5-2. -Вакуумные оистеыы для сверхвысоковакуумных установок

Некоторые технологические операции, связанные о полученаен тонких пленок, легированием полупроводников, изготов­ лением интегральных схем и другими задачами электронной техники, должны выполняться в условиях озерхвысокого вакуу­ ма. Для выполнения этих операций разработаны опециадьянв установка со сверхвакуумныы:; системами.. Системы для получегия сверхвысокого вакуума изготавливают,как правило.о про-

- 99 -

усилий. В некоторых случаях тонкие с1внки используются • в качестве нагревателя для прогрева внутренней арматуры. CfeLM нагрегаются путем пропускания тона.

I Длл откачки внутреннего объема до сверхвысссого ва­ куума может использовался сверхвысошиакуумный диффу- . вионный паромасляный насос о азстной ловушкой или гет - терноионный насос с высокой скоростью откачка. В слу-. чае «спольаования геттерно-ионного насоса, ой подключвётсй обычно непосредственно к внутренней камере без затво­ ра, внутренняя камера может отсекаться от промежуточного объема после обеагаживания стенок и достижения стартово- гр давления.

/ 2 3 4 s

Рис.5-2-2. Схема эле:строн.:о-ионкоЙ установки для изготовления микросхем:

1-ч--коллекторное устройство', 5-приемник вторичных электронов; 6~о'-.ушняга~ая система', 7,8,1ч--электро- статические линзы; 9,18-массфильтр; 10,12-электро- разрядные насосы*, П-бункер; АЗ - ВВОД { 15,1б,17-де- тали электронной пушки; 19,20,21-учлв ионного ис ­ точника; 22-поворотннй стол

Вакуумная система типа "вакуум з вакууме'1 применен.'" в уни­ версальной электронно-иопной установке, предназначенной для изготовления интегральных схем. Принципиальная схема установки и вакуумной системы приведена на рис . 5 - 2 - 2 .