Файл: Лодиз, Р. Рост монокристаллов.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 14.10.2024

Просмотров: 163

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

k1

Жидкость

1 Кристалл

Расстояние —*-

Ф и г . 3.11. Изменение концентрации в зависимости от расстояния (концен­ трационное переохлаждение).

Примесь

d

CL

Кристалл

Ф и г . 3.12. Диаграмма состояния

системы

кристалл — примесь (концентра­

ционное

переохлаждение).

 

I

1 I!

Жидкость Кристалл

Расстояние-

Ф и г . 3.13. Температура плавления как функция расстояния (концентра­ ционное переохлаждение).

128 Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ

гивании кристаллов из расплава, ослабляют тенденцию к кон­ центрационному переохлаждению.

Особенно остро проблема концентрационного переохлаждз-

ния встает

в том

случае, когда растущая поверхность

(или

пло­

скости,

которыми

она огранена)

по ориентации сильно

отли­

чается

от

граней,

возникающих в

почти равновесных

условиях.

В подобном случае форма фронта роста легко изменяется и на нем возникают выступы (см. ниже), ограненные поверхностями равновесных форм (или по крайней мере гранями с меньшей удельной поверхностной энергией). При этом гребни выступов будут находиться в зоне больших переохлаждений (пересыще­ ний), чем углубления между ними. Поэтому скорость роста вы­ ступов будет выше, что и вызывает самопроизвольный дендрит­ ный рост.

Концентрационное переохлаждение, естественно, не играет большой роли в чистых или почти чистых расплавах (например, при выращивании кристаллов большей части полупроводников и окислов неорганических веществ). Однако диффузия и кон­ центрационное переохлаждение могут доставлять неприятности при высоких концентрациях активаторов (например, при произ­ водстве диодов по методу Есаки [27]) и при выращивании инконгруэнтно плавящихся окислов неорганических материалов и дру­ гих соединений, у которых максимальная температура плавле­ ния не соответствует нужной стехиометрии и у которых кристалл и расплав сильно различаются по составу. Перемешивание рас­ плава уменьшает толщину диффузионного слоя, снижая вероят­ ность возникновения зоны концентрационного переохлаждения. Но как показал Хэрл [28], концентрационное переохлаждение возможно даже в перемешиваемых расплавах. При k0 <С 1 кон­ центрация примеси или активатора перед кристаллической по­ верхностью возрастает по мере роста и достигает стационарного уровня с0 . Развивая представления Бартона и др. [24], рассмат­ ривавших зависимость &Эфф от скорости перемешивания, Хэрл [28] вывел уравнение, связывающее возникновение концентра­ ционного переохлаждения со скоростью перемешивания.

3.12. ОБРАЗОВАНИЕ ФАСЕТОК

Возникновение фасеток роста в ряде случаев объясняется избирательной_адсорбцией на той или иной кристаллографиче­ ской грани [29]. В этом случае удельная межфазная поверхност­ ная энергия уменьшается, так как процесс не может протекать при положительном значении AG. Если адсорбция примеси при­ ведет к снижению о для грани с определенной ориентацией, то для этой ориентации на диаграмме Вульфа возникнет угловая точка. Следовательно, в соответствии со сказанным в разд. 3.3


3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ

129

плоская граница в данном направлении будет устойчивее сту­ пенчатой. При выращивании из расплава, в частности вытяги­ ванием кристалла, граница раздела расплав — кристалл часто искривляется, как на фиг. 3,14, а, следуя форме изотермы, соответствующей температуре плавления. Если адсорбция воз­ можна по одному из направлений (а), то в таком направлении образуется гладкая «фасетка» а — Ъ ' ) . Гладкий участок будет иметь такую протяженность, при которой выполняется условие ocos0 = aa , где сг — свободная поверхностная энергия чистой грани, aa — свободная поверхностная энергия грани с адсорби­ рованными примесями. Как видно из фиг. 3.14, б, площадь грани

Жидкость

а

6

Ф и г . 3.14. Граница раздела расплав — кристалл при образовании фасеток.

уменьшается по мере того, как поверхность раздела расплав — кристалл становится более выпуклой. Площадь грани стано­ вится меньше и при уменьшении угла между направлением ро­ ста и направлением (а). Образование фасеток затрудняется, когда изотерма имеет вогнутую форму, поскольку в этом слу­ чае возникающие плоские участки попадают в зону перегрева.

Механизм адсорбции на фасетках предполагает более ин­ тенсивный захват ими примесей в случае их роста. Чаще всего так и обстоит дело. Однако не всегда связь между содержа­ нием примесей и развитием фасеток прямая. Дикхоф [30] изучал фасетки {111} на кристаллах германия при их выращивании по

Чохральскому и установил усиление захвата

ими примеси. Он »

согласен с тем, что &Э фф

возрастает (в случае

&Э фф <

1)

по

мере

снижения температуры

кристаллизации, как это и должно

быть,

поскольку для роста плоских участков требуются

более

высокие

') Фасетка может формироваться у a — b и без

примесей

по

механиз­

му, рассмотренному в разд. 3.3. Возникнув, она может

характеризоваться

большим коэффициентом распределения примесей, чем

соседние

направления.

б Зак, 718



130

Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ

переохлаждения (необходимое возрастание &ЭФФ очевидно из рассмотрения типичной диаграммы состояния, подобной, напри­ мер, диаграммам на фиг. 2.3,а или б). Хотя такой механизм и возможен в действительности в отдельных случаях, более об­ щий характер имеет, видимо, адсорбционный механизм [30]. Об­ разование фасеток может быть связано и с концентрационным переохлаждением. В данном направлении явно необходимы дальнейшие исследования.

3.13.ОБРАЗОВАНИЕ ЯЧЕИСТОЙ СТРУКТУРЫ [29J

Вусловиях концентрационного переохлаждения устойчивость присуща либо ячеистой, либо дендритной структуре. Если на гладкой границе расплав — кристалл при наличии зоны кон­ центрационного переохлаждения возникает выпуклый выступ (фиг. 3.15), то вершины выступов D станут проявлять тенден-' цию к продвижению в расплаве до точек D, где температура равна температуре плавления. Линия АВ отвечает действитель­ ной температуре раствора, а линия СВ — температуре плавления сообразно диаграмме состояния. Иными словами, фазовая гра­ ница будет стремиться «врастать» в раствор, чтобы снять кон­ центрационное переохлаждение (область DB — зона концентра­ ционного переохлаждения). Но поскольку поверхность пере­ стала быть плоской, диффузия вдоль боковых сторон способна подводить растворенное вещество, чтобы устранить концентра­ ционное переохлаждение в областях DF. Форма поверхности кри­ сталла на участках DF самопроизвольно изменится таким обра­ зом, чтобы диффузия вдоль боковых сторон выступов обеспечи­

вала «снятие» концентрационного переохлаждения.

Состав

вдоль DF самопроизвольно придет в соответствие

с диаграммой

состояния для данного температурного профиля.

Форма

ячеек

зависит от температурного градиента, диффузионного поля (раз­ личия концентраций и коэффициента диффузии) и значений сво­ бодной поверхностной энергии в различных направлениях по поверхности раздела расплав — кристалл. По Тиллеру [29] по­ верхность с увеличением температурного градиента часто при­ обретает характерные морфологические признаки, изображен­ ные на фиг. 3.15,6". При очень высоких переохлаждениях у фронта кристаллизации ячеистый рост сменяется дендритным, или папоротникообразным, с длинными выступами в виде вет­ вей, пронизывающих расплав. Морозные узоры на оконных стек­ лах — прекрасный пример дендритов.

Образование ячеистой или дендритной структуры наблюда­ лось при выращивании кристаллов из расплавов1 ), когда при-

') Теория роста кристаллов из расплава рассматривается в работе Дже ­ ксона [40].


3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ

131

меси образуют водные и неводные растворы, и из газовой фазы при наличии диффузионного поля. В сообщениях более давних времен иногда говорилось о неплоских гранях, похожих на «бу-

Форма растущей

поверхности

 

Исходное

 

положение

 

плоеной

 

межфазной

Ровная

границы

 

поверхность

 

„ о о

 

оо

Ячейки или I

Пустулы

 

дендриты

 

%

Неправильная

js

ячеистая структура

 

Вытянутые ячейки

 

Правильная

 

ячеистая структура

• Расстояние

Дендриты

а

б

Ф и г . 3.15. Ячеистый

рост.

лыжную мостовую» или усыпанных холмиками роста. Холмики роста иногда ограняются плоскими гранями.

3.14. К О Р Р Е Л Я Ц И И С ЭНТРОПИЕЙ

Джексон [31] отметил зависимость между формой поверхно­ стей роста на макроскопических кристаллах и энтропией их плавления AS (AS = Lf/kTnn, где Lf — скрытая теплота плавле­ ния, k — постоянная Больцм ана, l пл —

температура плавления). Взяв за основу разбиения энтропию AS, можно наметить четыре следующих класса материалов:

1) AS < 1: изометричный рост, при котором ячейки и ден­

дриты образуются только в присутствии примеси; б*