ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 14.10.2024
Просмотров: 163
Скачиваний: 0
k1
Жидкость |
1 Кристалл |
Расстояние —*-
Ф и г . 3.11. Изменение концентрации в зависимости от расстояния (концен трационное переохлаждение).
Примесь |
d |
CL |
Кристалл |
Ф и г . 3.12. Диаграмма состояния |
системы |
кристалл — примесь (концентра |
|
ционное |
переохлаждение). |
|
I
1 I!
Жидкость Кристалл
Расстояние-
Ф и г . 3.13. Температура плавления как функция расстояния (концентра ционное переохлаждение).
128 Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ
гивании кристаллов из расплава, ослабляют тенденцию к кон центрационному переохлаждению.
Особенно остро проблема концентрационного переохлаждз-
ния встает |
в том |
случае, когда растущая поверхность |
(или |
пло |
||
скости, |
которыми |
она огранена) |
по ориентации сильно |
отли |
||
чается |
от |
граней, |
возникающих в |
почти равновесных |
условиях. |
В подобном случае форма фронта роста легко изменяется и на нем возникают выступы (см. ниже), ограненные поверхностями равновесных форм (или по крайней мере гранями с меньшей удельной поверхностной энергией). При этом гребни выступов будут находиться в зоне больших переохлаждений (пересыще ний), чем углубления между ними. Поэтому скорость роста вы ступов будет выше, что и вызывает самопроизвольный дендрит ный рост.
Концентрационное переохлаждение, естественно, не играет большой роли в чистых или почти чистых расплавах (например, при выращивании кристаллов большей части полупроводников и окислов неорганических веществ). Однако диффузия и кон центрационное переохлаждение могут доставлять неприятности при высоких концентрациях активаторов (например, при произ водстве диодов по методу Есаки [27]) и при выращивании инконгруэнтно плавящихся окислов неорганических материалов и дру гих соединений, у которых максимальная температура плавле ния не соответствует нужной стехиометрии и у которых кристалл и расплав сильно различаются по составу. Перемешивание рас плава уменьшает толщину диффузионного слоя, снижая вероят ность возникновения зоны концентрационного переохлаждения. Но как показал Хэрл [28], концентрационное переохлаждение возможно даже в перемешиваемых расплавах. При k0 <С 1 кон центрация примеси или активатора перед кристаллической по верхностью возрастает по мере роста и достигает стационарного уровня с0 . Развивая представления Бартона и др. [24], рассмат ривавших зависимость &Эфф от скорости перемешивания, Хэрл [28] вывел уравнение, связывающее возникновение концентра ционного переохлаждения со скоростью перемешивания.
3.12. ОБРАЗОВАНИЕ ФАСЕТОК
Возникновение фасеток роста в ряде случаев объясняется избирательной_адсорбцией на той или иной кристаллографиче ской грани [29]. В этом случае удельная межфазная поверхност ная энергия уменьшается, так как процесс не может протекать при положительном значении AG. Если адсорбция примеси при ведет к снижению о для грани с определенной ориентацией, то для этой ориентации на диаграмме Вульфа возникнет угловая точка. Следовательно, в соответствии со сказанным в разд. 3.3
3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ |
129 |
плоская граница в данном направлении будет устойчивее сту пенчатой. При выращивании из расплава, в частности вытяги ванием кристалла, граница раздела расплав — кристалл часто искривляется, как на фиг. 3,14, а, следуя форме изотермы, соответствующей температуре плавления. Если адсорбция воз можна по одному из направлений (а), то в таком направлении образуется гладкая «фасетка» а — Ъ ' ) . Гладкий участок будет иметь такую протяженность, при которой выполняется условие ocos0 = aa , где сг — свободная поверхностная энергия чистой грани, aa — свободная поверхностная энергия грани с адсорби рованными примесями. Как видно из фиг. 3.14, б, площадь грани
Жидкость
а |
6 |
Ф и г . 3.14. Граница раздела расплав — кристалл при образовании фасеток.
уменьшается по мере того, как поверхность раздела расплав — кристалл становится более выпуклой. Площадь грани стано вится меньше и при уменьшении угла между направлением ро ста и направлением (а). Образование фасеток затрудняется, когда изотерма имеет вогнутую форму, поскольку в этом слу чае возникающие плоские участки попадают в зону перегрева.
Механизм адсорбции на фасетках предполагает более ин тенсивный захват ими примесей в случае их роста. Чаще всего так и обстоит дело. Однако не всегда связь между содержа нием примесей и развитием фасеток прямая. Дикхоф [30] изучал фасетки {111} на кристаллах германия при их выращивании по
Чохральскому и установил усиление захвата |
ими примеси. Он » |
|||||
согласен с тем, что &Э фф |
возрастает (в случае |
&Э фф < |
1) |
по |
мере |
|
снижения температуры |
кристаллизации, как это и должно |
быть, |
||||
поскольку для роста плоских участков требуются |
более |
высокие |
||||
') Фасетка может формироваться у a — b и без |
примесей |
по |
механиз |
|||
му, рассмотренному в разд. 3.3. Возникнув, она может |
характеризоваться |
|||||
большим коэффициентом распределения примесей, чем |
соседние |
направления. |
б Зак, 718
130 |
Р. ЛОДИЗ. РОСТ МОНОКРИСТАЛЛОВ |
переохлаждения (необходимое возрастание &ЭФФ очевидно из рассмотрения типичной диаграммы состояния, подобной, напри мер, диаграммам на фиг. 2.3,а или б). Хотя такой механизм и возможен в действительности в отдельных случаях, более об щий характер имеет, видимо, адсорбционный механизм [30]. Об разование фасеток может быть связано и с концентрационным переохлаждением. В данном направлении явно необходимы дальнейшие исследования.
3.13.ОБРАЗОВАНИЕ ЯЧЕИСТОЙ СТРУКТУРЫ [29J
Вусловиях концентрационного переохлаждения устойчивость присуща либо ячеистой, либо дендритной структуре. Если на гладкой границе расплав — кристалл при наличии зоны кон центрационного переохлаждения возникает выпуклый выступ (фиг. 3.15), то вершины выступов D станут проявлять тенден-' цию к продвижению в расплаве до точек D, где температура равна температуре плавления. Линия АВ отвечает действитель ной температуре раствора, а линия СВ — температуре плавления сообразно диаграмме состояния. Иными словами, фазовая гра ница будет стремиться «врастать» в раствор, чтобы снять кон центрационное переохлаждение (область DB — зона концентра ционного переохлаждения). Но поскольку поверхность пере стала быть плоской, диффузия вдоль боковых сторон способна подводить растворенное вещество, чтобы устранить концентра ционное переохлаждение в областях DF. Форма поверхности кри сталла на участках DF самопроизвольно изменится таким обра зом, чтобы диффузия вдоль боковых сторон выступов обеспечи
вала «снятие» концентрационного переохлаждения. |
Состав |
|
вдоль DF самопроизвольно придет в соответствие |
с диаграммой |
|
состояния для данного температурного профиля. |
Форма |
ячеек |
зависит от температурного градиента, диффузионного поля (раз личия концентраций и коэффициента диффузии) и значений сво бодной поверхностной энергии в различных направлениях по поверхности раздела расплав — кристалл. По Тиллеру [29] по верхность с увеличением температурного градиента часто при обретает характерные морфологические признаки, изображен ные на фиг. 3.15,6". При очень высоких переохлаждениях у фронта кристаллизации ячеистый рост сменяется дендритным, или папоротникообразным, с длинными выступами в виде вет вей, пронизывающих расплав. Морозные узоры на оконных стек лах — прекрасный пример дендритов.
Образование ячеистой или дендритной структуры наблюда лось при выращивании кристаллов из расплавов1 ), когда при-
') Теория роста кристаллов из расплава рассматривается в работе Дже ксона [40].
3. КИНЕТИКА РОСТА КРИСТАЛЛОВ |
131 |
меси образуют водные и неводные растворы, и из газовой фазы при наличии диффузионного поля. В сообщениях более давних времен иногда говорилось о неплоских гранях, похожих на «бу-
Форма растущей
поверхности |
|
Исходное |
|
положение |
|
плоеной |
|
межфазной |
Ровная |
границы |
|
|
поверхность |
|
„ о о |
|
оо |
Ячейки или I |
Пустулы |
|
|
дендриты |
|
% |
Неправильная |
js |
ячеистая структура |
|
Вытянутые ячейки |
|
Правильная |
|
ячеистая структура |
• Расстояние |
Дендриты |
а |
б |
Ф и г . 3.15. Ячеистый |
рост. |
лыжную мостовую» или усыпанных холмиками роста. Холмики роста иногда ограняются плоскими гранями.
3.14. К О Р Р Е Л Я Ц И И С ЭНТРОПИЕЙ
Джексон [31] отметил зависимость между формой поверхно стей роста на макроскопических кристаллах и энтропией их плавления AS (AS = Lf/kTnn, где Lf — скрытая теплота плавле ния, k — постоянная Больцм ана, l пл —
температура плавления). Взяв за основу разбиения энтропию AS, можно наметить четыре следующих класса материалов:
1) AS < 1: изометричный рост, при котором ячейки и ден
дриты образуются только в присутствии примеси; б*