Файл: Мастеров, В. А. Практика статистического планирования эксперимента в технологии биметаллов.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 21.10.2024

Просмотров: 58

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

д*_размер зерна исходных материалов. Использовали заготовки ниобия и тантала двух видов: крупно­ кристаллические из слитков электроннолучевой плавки (средний размер зерна примерно 10 4 мкм) и мелкозернистые—из деформированных и рекрис-

таллизованных слитков

(средний размер зерна

примерно 50 мкм).

1100— 1000° С, температу­

Температура

прессования

ра инструмента

350—400° С и

смазка (стеклосуспензия

Рис. 7. Матрицы для прессования прутков

Рис.

8.

Заготовки

тантал+ниобпЛ

(шашки)

тантал +

 

+

ниобий

№ 185В) не варьировались п были выбраны на основа­ нии предварительных экспериментов.

Заготовки для прессования собирали из танталовой втулки и ниобиевого сердечника диаметром 30 мм с по­ следующей сваркой торцовых швов в инертной атмосфе­ ре (рис. 8 ). Для снятия сварочных напряжений и очистки внутренних поверхностей заготовки отжигали при 1300° С в течение 2 ч в вакууме (1—2)-10-5 мм рт. ст.

Толщину слоя тантала h на прутках измеряли на по­ перечных шлифах при увеличении 24. Точки замеров рас­ полагали от одной образующей, в одном направлении,

сравномерной плотностью. Среднюю толщину оболочки

всечении h находили усреднением 32 замеров. Промеря­ ли 12— 14 сечений по длине прутка и строили график из­

менения h по длине прутка (рис. 9).

Для определения выхода годного брали длину прес­

сованного прутка L0 (рис. 10); на которой /г^( 1—0,1)/гр где hp= (d2/D2)h0, cl и D — диаметры прутка и заготовки

45

соответственно; h0— толщина танталовой

оболочки в

заготовке; Ар — расчетная толщина

танталовой оболоч­

ки в прутке. Тогда yi = L0/L.

 

 

В каждом из сечений на всей длине L

определены

значения выборочных дисперсий s2

толщины

оболочки.

Рис. 9. Распределение средней толщины танталовой оболочки по длине биметаллических прутков

А, мм

 

 

 

 

 

 

V <

 

 

 

 

 

 

V-

 

 

 

 

 

 

cT

 

 

—o

---

0-00

_

к

 

1,0

1

 

 

 

 

 

d>J

'

 

L

 

 

 

100

200

300

400

500

600

мм

Рнс. Ю. Схема оценки «годного» по длине прутка

Достаточная удаленность сечений друг от друга подби­ ралась экспериментально, в нашем случае она равна 50 мм на «стационарной части» и Ю мм на концах прутка.

Условия эксперимента 23 иллюстрирует табл. 8 . Коэффициенты моделей видаУ

У = Ь0 + £ bt X +

У btj X t Xj + bm X! x 2 x 3

t= l

£,/= 1

 

i<i

46


Т а б л и ц а 8

Условия эксперимента

 

 

Уровень (—)

Уровень (+ )

Фактор

Код

натураль­

кодиро­

натураль­

кодиро­

 

 

ное зна­

ванное

ное зна­

ванное

 

 

чение

значение

чение

значение

Вытяжка

 

5

— 1

15

+ 1

Угол матрицы

 

90°

— 1

180°

+ i

Размер зерна

* 3

104 мкм

— 1

50 мкм

+ i

определили по стандартным формулам планирования 23. После дискриминации статистически незначимых ко­ эффициентов модель имела вид:

ух = 67,5

+ 6,4*! — 3,75Х2 + 6,88Х3 + 0,875^ Х2 —

 

- 2 , 5 X 1Xa +\,25X1Xi Xa,

(27)

г/2=

15,13 + 3,24^ — 5,ОЗХ3- 0,88ХхХз.

(28)

На рис.

11 представлены объемные диаграммы у\ =

= f 1(xi) и

1/2= Ы хг)> построенные по уравнениям

(27)

Рис. 11. Влияние технологических факторов на выход годного (с) и разно* толщннность по сечению (б) прутков тантал+ннобий:

/— крупное зерно; 2 — мелкое зерно

и(28). Диаграммы наглядно показывают, что процесс

формирования разнотолщинности является сложным, т. е. вклад одного фактора зависит от уровня других факторов.

47


ческих конденсаторов, стабильность рабочих характери­ стик которых определяется высокими диэлектрическими свойствами тончайшей окнсной пленки Ta2Os. Толщина танталовой оболочки должна быть такой, чтобы кон­ центрация ниобия на наружной поверхности в резуль­ тате диффузии во время изготовления и эксплуатации не превышала 1—3 %. Результаты исследования на мик­ роанализаторе с электронным зондом показали, что на готовой проволоке 0,8 мм минимальная толщина обо­ лочки должна составлять 35—40 мкм. .

По опытным данным распределение толщины обо­ лочки аппроксимируется законом нормального распре­ деления Гаусса — Лапласа.

В настоящей работе 1 варьированием маршрутов во­ лочения и режимов отжигов исследована возможность уменьшения разиотолщинности оболочки.

Прутки для исследования были получены по техноло­

гии, приведенной в работе

[31]; перед волочением

их

очищали от стеклосмазки

в растворе HF:HNC>3=

3 : 1

и отжигали в печи ТВВ-4

при 1250° С в течение 1 ч

при

остаточном давлении 2• 10-5 мм рт. ст. Волочение с диа­ метра 10 до 5 мм вели на цепном стане, далее до 0,8 мм на машине с барабаном. Смазкой служила окисная пленка, полученная нагревом на воздухе в электропечи до 800° С, 2 мин и покрытая аквадагом. Факторы: х\ — суммарная вытяжка между отжигами, х2-— температура отжига, °С; х з— длительность отжига, мин.

Смазку, форму канала волок, частные вытяжки под­ держивали постоянными. Параметр оптимизации — от­ ношение коэффициентов вариации толщины оболочки в готовой проволоке и исходном прутке M = q J q D. Мето­ дика определения выборочных дисперсий толщины и средней толщины оболочки аналогична описанной в ра­ боте [32].

Общая суммарная вытяжка составляла 102: 0,82== = 156. При наличии промежуточных отжигов вытяжка

между ними равна у 156, где — 1) — число отжи­ гов. При такой большой суммарной вытяжке необходим, по крайней мере, один отжиг. В этом случае т = 2 и вы­

тяжка между отжигами Ximax=V 156«12,5. Из эконо­ мических соображений число трудоемких операций от­ жига в вакууме 2 - 1 0-5 мм рт. ст. не должно превышать

1 Выполнена совместно с Г. Г. Сафоновой п Н. М. Ковалевой.

4 -1193

49



4 ,----------

в первом приближении трех, тогда Ximin= у 156=3,54. При выборе температуры и длительности отжига учиты­ вали, что верхний уровень этих факторов должен обес­

печить отсутствие

ниобия

на поверхности

танталовой

оболочки, а нижний — снятие наклепа. В итоге:

 

Натуральные

значения

Н

*2

*3

на верхнем уровне (+ 1)

12,5

1600°С

120

мин

То же на нижнем уров­

3,54

1100°С

20

мин

не (— 1 ) ...........................

 

Матрица планирования 23 имела вид, описанный вы­ ше. После рандом изации') порядка опытов, расчета ко­ эффициентов модели и проверки их значимости получе­ на модель:

М = 2,212 + 0,287*! + 0,675*2 + 0,195*3 +

 

 

 

 

 

+ 0,320*! * 2 + 0,112 * а * 3.

 

 

 

(29)

 

 

Уравнение

(29) показывает,

что

разнотолщинность

оболочки

увеличивается

по сравнению

 

с

исходной

 

 

 

 

 

 

л

 

во

всем

 

исследо­

 

 

 

 

 

 

( М > 1 )

 

 

 

 

 

 

 

ванном

объеме

факторного

 

 

 

 

 

 

пространства, а роль каж­

 

 

 

 

 

 

дого

фактора

 

зависит

не

 

 

 

 

 

 

только от его индивидуаль­

 

 

 

 

 

 

ного значения, но одновре­

 

 

 

 

 

 

менно

от

уровня

других

 

 

 

 

 

 

факторов. Наглядная гра­

 

 

 

 

 

 

фическая модель

(29)

по­

 

 

 

 

 

 

казана

на

рис.

13.

Видно,

 

 

 

 

 

 

что

наиболее

целесообраз­

 

 

 

 

 

 

ным технологическим режи­

 

 

 

 

 

 

мом

является

 

использова­

 

 

 

 

 

 

ние больших вытяжек (х\=

 

 

 

 

 

 

= 12,5)

при температуре от­

Рас.

13.

Влияние

температуры от­

жига

1100° С

и

длительно­

жига

и

вытяжки

на разнотолщнн-

сти

20

мин.

 

Реализация

ность плакирующего слоя проволо­

 

 

 

 

 

 

л

 

ки

ннобнй+тантал

при длительно­

 

 

 

 

 

 

 

сти

отжига

2 ч (а) и 20 мни (б)

этого режима дает М — 1,42.1

1 Рандомизацией называют прием включения неизвестных экспе­ риментатору или не интересующих его систематических ошибок в число случайных ошибок. Практически рандомизацию проводят так: все опыты нумеруют, а затем очередность каждого опыта выбирает­ ся с помощью таблицы равномерно распределенных случайных чисел. Подробнее см. [20].

50