Файл: Балыгин, И. Е. Электрические свойства твердых диэлектриков.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 08.11.2024
Просмотров: 97
Скачиваний: 0
пересчетным устройством измерялась интенсивность ß- и у-излу- чений.
По снижению интенсивности ß-излучения при неизменной у-ком- поненте можно было судить о проникновении атомов Ag110 в толщу стекол. При опытах очень небольшая доля радиоактивных атомов серебра переходила на электрод (анод) из нержавеющей стали. Эта «утечка» учитывалась по интенсивности у-составляющей.
Такого рода измерения проводились и у образцов, испытывав шихся только на термодиффузионное внедрение. Серия кривых на рис. 9-1 относится к образцам из стекла А (табл. 8-8). По оси
Рис. 9-1. Снижение [3-интенсивности, характеризующее внедре ние Aguo в стекло
/ — при термодиффузионном |
прогреве |
(300° С) |
без приложения напряже |
||
ния; 2 — то же, |
но при 400° С; 3 — при 300° С и £=200 |
в/лш; 4 — при 400° С |
|||
и |
£=200 вімм; |
5 — при |
400° С |
и £=300 |
в/мм |
ординат отложено снижение интенсивности ß-излучения в процен тах от начального числа зарегистрированных импульсов в минуту. По оси абсцисс отложено время термодиффузионного прогрева и пребывания образцов под напряжением в часах. Начальные значе ния интенсивности ß-излучения равнялись нескольким тысячам им пульсов в минуту. Из рис. 9-1 видно, что при действии постоянного напряжения в толщу образцов стекла А внедряется значительно больше серебра по сравнению с тем, когда внедрение происходит только механизмом термодиффузии. По кривым 3—5 можно за ключить, что интенсивность этого внедрения определяется как на пряженностью приложенного поля Е при данных температурах, так
итемпературой окружающей среды при данной Е.
Встекло В при таких же условиях внедрялось значительно больше серебра. Стекло Б в отношении такого внедрения зани мает среднее положение между Л и й .
Овнедрении серебра только термодиффузионным механизмом
встекла А, Б, В и обычное листовое стекло Г можно получить
146
представление из значений коэффициентов диффузии D (табл. 9-1). Величины D определены методом снятия слоев при температурах
350° и 450° С.
|
|
|
Таблица 9-1 |
Значения |
коэффициентов диффузии D серебра |
||
и энергии активации Q процесса для |
стекол |
||
Стекло |
Температура, |
D, см9, сек |
Q, ккал моль |
опыта, ° С |
|||
А |
450 |
6 ,5 -ІО“ 11 |
42,0 |
|
350 |
5,7-10—13 |
|
Б |
450 |
2,1 • 10—11 |
19,4 |
|
350 |
2 ,4 -10~12 |
|
В |
450 |
1■ІО-10 |
24,3 |
|
350 |
6,5- ІО-12 |
|
Г |
450 |
З-Ю“ 10 |
11,5 |
(листовое) |
350 |
8,3- ІО-11 |
|
Из табл. 9-1 видно, что в бесщелочные стекла механизмом тер модиффузии внедряется значительно меньше серебра, чем в листо вое стекло, содержащее 15% Na20. Кроме того, в его состав вхо дит 71,5% Si02, 8,5% CaO, 3,5 MgO, 1,3% А120 3 и 0,2 Fe20 3.
Наименьшее внедрение при 350° С отмечено в многокомпонентное стекло А. То же зарегистрировано и при опытах по внедрению Ag под воздействием электрического поля.
Золото по сравнению с серебром механизмом термодиффузии внедряется в значительно меньших количествах. Например, при
450° С коэффициент диффузии |
D этого металла в стекло Б ока |
зался равным ~ 1 • ІО-14 см2/сек, |
т. е. почти на три порядка меньше. |
Определение D для Au произведено методом снятия слоев. Радиусы атомов у Ag и Au почти одинаковы и в этом случае
они не являются определяющими параметрами. То же самое относи
тельно радиусов установлено и при |
опытах с |
диффузией |
некото |
||||
рых металлов в германий [9-1]. |
|
|
|
|
атомов |
||
По-видимому, при кристаллизации плотность упаковки |
|||||||
у стекол |
увеличивается. |
Условия |
для |
проникновения |
серебра |
||
в толщу, |
например стекла |
В (табл. |
8-8), делаются поэтому менее |
||||
|
Состояние стекла В |
Темпера |
Значение |
|
|
||
|
тура, °С |
D, см9!сек |
|
||||
|
Закристаллизованное . . . |
|
350 |
2 .4 - |
10~12 |
|
|
|
Незакристаллизованное . . |
. |
350 |
6 .5 - |
ІО“ 12 |
|
|
|
Закристаллизованное . . . |
|
450 |
6- ІО-12 |
|
||
|
Незакристаллизованное . . |
|
450 |
ы о ~ 10 |
|
6* |
147 |
Рентгеновский анализ показал, что серебро не стимулирует кристаллизацию листового стекла. После длительных прогревов образцов из этого стекла с нанесенными слоями серебра при
Рис. 9-2. Микрофотографии, характеризующие изменение структуры листового стекла при 500° С
600° С на рентгенограммах неизменно отмечалась аморфная струк тура. Но микрофотографирование показало, что в отдельных мик
рообластях кристаллизационные |
процессы в листовом стекле под |
||||||||||
|
|
|
влиянием внедрившихся атомов или |
||||||||
|
|
|
ионов |
Ag |
все |
же |
происходят |
||||
|
|
|
(рис. 9-2). На образцы с одной сто |
||||||||
|
|
|
роны были нанесены слои обычного |
||||||||
|
|
|
(не радиоактивного) серебра. |
Нано |
|||||||
|
|
|
сились они серебряной пастой. Гра |
||||||||
|
|
|
дуировочный |
масштаб |
0,01 мм от |
||||||
|
|
|
носится к микрофотографиям / —III, |
||||||||
|
|
|
а |
0,05 |
мм — для |
микрофотогра |
|||||
|
|
|
фий IV. |
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
От |
сплошного |
слоя |
серебра |
||||
|
|
|
(рис. 9-2,/) после |
368 |
ч |
остались |
|||||
|
|
|
только отдельные «островки» |
(рис. |
|||||||
|
|
|
9-2,11). Часть серебра |
внедрилась |
|||||||
|
|
|
в толщу стекла и какое-то количе |
||||||||
Рис. 9-3. Внедрение серебра |
в зер |
ство его мигрировало |
с |
соседних |
|||||||
участков на эти «островки» (см. |
|||||||||||
кальное стекло под |
действием |
||||||||||
§ |
9-4). |
|
|
|
|
|
|
||||
электрического |
поля |
|
|
|
|
|
|
|
Микроячейки с поликристалличе ской структурой можно хорошо различить на рис. 9-2,111. Воз можно, что в этом микроучастке стекла при его изготовлении слу чайно образовалась сетка из неполных тетраэдров, как в кварце
148
вом стекле, а внедрившиеся атомы или ионы Ag стимулировали кристаллизацию. Такие области встречаются редко и рентгенов ский анализ не выявляет их.
Несомненно, что наибольшее внедрение серебра должно про исходить в дефектных микроучастках с разрыхленной структурой. В областях же с более плотной упаковкой атомов серебро должно
внедряться |
очень мало. Один из таких участков показан на |
рис. 9-2, IV. |
Это почти круглая зона сравнительно большего размера |
(показана тольке половина ее). Серебро здесь осталось на поверх ности стекла. Темный ободок светлой зоны представляет область повышенного внедрения. В этом ободке упаковка, видимо, была более рыхлой. Маловероятно, чтобы такая сравнительно крупная зона могла образоваться при участии внедрившегося серебра. Более правильным будет предположение о том, что она уже су ществовала в стекле, а серебро ее только выявило.
Микрофотография рис. 9-3 снята на границе серебряного слоя у зеркального стекла толщиной 8 мм после 6-часового испытания образца при 300°С и Б —200 в/мм (постоянное напряжение). Се ребро внедрилось здесь в виде зубцов на разных глубинах от поверхности. Характерно, что такое внедрение не привело к на рушению сплошности стекла. Приложенное постоянное напряже ние было мало и способствовало только некоторому смещению ионов Na+ от анода. В оставленные вакансии внедрялись ионы
A g +.
9-2. Проникновение серебра в толщу стекловидного и кристаллического кварца под действием постоянного напряжения
Опыты проводились по методике, изложенной в § 9-1. На по лированные пластинки кварцевого стекла толщиной 1,5 мм с одной стороны по площади круга диаметром 12 мм наносилось радио активное серебро (анод), а на другую сторону — неактивное. Вос становление его производилось прогреванием при 400°С в течение 30 мин. Часть образцов испытывалась под постоянным напряже нием в термостатах с автоматической регулировкой температуры.
Изменение интенсивности ß- и у-излучений Agu0 в зависимости от времени прогревания представлено кривыми на рис. 9-4. Это изменение характеризует внедрение серебра в толщу кварцевого стекла. Чем глубже внедряются ионы или атомы этого металла, тем больше электроны ß-излучешія поглощаются веществом. Кри
вая / |
записана |
при / = 300° С и |
£ = 0,66 кв!мм. Видно, что за |
время |
~ 140 ч |
произошло очень |
небольшое снижение интенсив |
ности ß-излучения. Следовательно, при указанных условиях се ребро почти не проникало в кварцевое стекло. Но положение резко изменилось, когда напряженность поля была увеличена до 1,7 кв/мм (кривая 2), Приблизительно за 50 ч от анода перемести лось почти все серебро, которое при указанных условиях могло перемещаться. Утечка серебра с поверхности в этих двух случаях
149