Файл: Смирнова Н.А. Методы статистической термодинамики в физической химии учеб. пособие.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 217

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

словленные выходом в междоузлия ионов С1~, встречаются гораздо реже, чем дефекты, связанные с аналогичным явлением* для ионов Ag + . Для кристаллов AgCl и AgBr можно ограничиться рассмотрением таких дефектов, как вакансии на местах ионов Ag + и междоузельные ионы Ag + .

Если в

кристалле

имеется эквивалентное

количество

катионных

и анионных

вакансий,

а междоузельные ионы

отсутствуют, говорят

о дефектах

по Шоттки

(рис. 52, б). Катионные и анионные

вакансии,

по-видимому, зарождаются на поверхности граней кристалла или на поверхности внутренних микротрещин и затем диффундируют в тол­ щу кристалла. Образование дефектов по Шоттки имеет место, напри­ мер, в кристалле NaCl.

Наличием дефектов в структуре решетки обусловлена ионная про­ водимость кристаллов. Если дефекты являются дефектами по Френ­ келю, перенос электричества осуществляется при движении вакансий и междоузельных ионов в объеме кристалла, причем в этом процессе обычно участвует практически ион лишь одного знака (как мы заме­ тили ранее, обычно только катионы или только анионы в значительной степени переходят в междоузлия). Так, в случае кристалла AgBr пе­ реносчик электричества — катион Ag+ ; измеряемое на опыте число переноса аниона Вг~ равно нулю. При наличии дефектов по Шоттки (кристалл NaCl) перенос заряда осуществляется как катионами, так и анионами в процессе движения катионных и анионных вакансий. Суждения о характере дефектов в кристалле в большой степени осно­ вываются на экспериментальных данных о числах переноса для катио­ нов и анионов (также используются данные о тепловом расширении кристаллов, рентгенографические данные и др.).

Равновесные концентрации дефектов по Френкелю или Шоттки (возможно также наличие в кристалле дефектов обоих типов) опреде­ ляются величинами свободных энергий образования дефектов. Полу­ чим соответствующие зависимости в предположении, что дефекты мож­ но считать невзаимодействующими. Поскольку в системе действуют медленно убывающие с расстоянием кулоновские силы, данное пред­ положение допустимо лишь при очень малой равновесной концентра­ ции дефектов (строго говоря, при с - > 0 ) . И все же для реальных ион­ ных кристаллов при температурах заметно ниже температур плавле­ ния приближение дает удовлетворительные результаты.

Вначале рассмотрим соотношения, определяющие концентрацию дефектов по Френкелю. Будем полагать, что в кристалле имеются только катионные вакансии. Введем следующие обозначения: N — число правильных мест для катионов; N' — число междоузельных мест, доступных для катионов; — число дефектов по Френкелю,

* Отсутствие междоузельных ионов С1~ в кристалле AgCl можно объяснить

о

тем, что эффективный радиус иона С1~ (1,81 А) велик и составляет значительную

о

часть расстояния между соседними катионом и анионом (2,77 А). Выходу иона С1~ в междоузлие препятствуют силы отталкивания, возникающие при таком процессе. Энергия выхода иона Ag + в междоузлие значительно меньше. Анало­

гичное объяснение годится и в случае кристалла AgBr. 370


равное числу вакансий (числу занятых междоузлий); gp — изменение термодинамического потенциала Гиббса в результате переноса произ­ вольно выбранного иона из правильного положения в решетке в не­ которое произвольно заданное междоузельное положение при постоян­ стве р и T; f F > Up , hp и sp — изменения соответственно объема, внут­ ренней энергии, энтальпии и энтропии при указанном процессе*. Параметры решетки считаем постоянным; поэтому ѵр = 0 и

ËF = h F -

T s F = " F + PVF — T s F = " F — T s F •

(XII.8

Величину gp можно отождествить со свободной энергией образования дефекта.

В силу предположения о независимости дефектов изменение сво­ бодной энергии системы при образовании ./VF дефектов следует прирав­ нять величине NF gF . если за конечное состояние принята некоторая определенная конфигурация системы (заданный способ распределе­ ния в кристалле вакансий и междоузлий.) Чтобы найти действитель­ ные термодинамические характеристики процесса образования NF дефектов, мы должны учесть еще, каким числом способов данный про­ цесс может быть реализован. Начальное состояние (правильная ре­ шетка) реализуется одним способом; для конечного состояния таких

способов множество. Имеется

- r r -

, — . / ^ 1 . , — способов распред

JV-—NF катионов

 

(/V — /Ѵр

/Ѵр,

и JVp вакансий по JV пронумерованным узлам решет-

 

Д7'|

способов распределения NF катионов

ки и независимо

_ N ^ N t

по междоузлиям. Каждое состояние подсистемы узлов может комби­ нироваться с каждым состоянием подсистемы междоузлий. Поэтому общее число способов получим, перемножив оба выражения. Обозна­ чим составляющую энтропии, связанную с числом способов реализа­ ции состояния с заданным значением NF , через

S K 0 H ( p - f e l n (N — NF )! NF ! (jv'— NF )! NP 1 • (XII.81)

Для идеального кристалла Np =

0 и 5 К 0 Н ф = 0.

Изменение

свобод­

ной энергии при образовании NF дефектов представится

выражением

A G = G ( / V F ) - G ( 0 ) = ] V F

§р-Г5к 0 „ф =

 

 

 

N\

 

N'\

 

 

= /VF gF-kT\n

{ N _ N p ) l

N p I

(N'-Np

)INP\

( X I L 8 2 >

* Величина Up относится к изменению энергии системы при переходе ка­

тиона из одного среднего положения (узел) в другое среднее положение ^меж­ доузлие). Так как при таком переходе изменяются условия взаимодействия ионов с окружением, то изменяется и характер движения ионов, и не только катиона, перешедшего в междоузлие, но также ионов, по соседству с которыми находится вакансия или занятое междоузлие. Поэтому с образованием дефекта связано ненулевое значение s F . Если указанных эффектов не учитывать, то ве­ личину gF следует приравнять изменению потенциальной энергии ир .

371


Воспользуемся формулой Стерлинга для факториалов больших чи­ сел и запишем

AG = NF gP — kT [А/ In N — (N -

NF ) ln (N — NF ) — 2NF lnNP

+

+ N'\nN' — (N'—

NF)]n(N' — Np)].

(XII.83)

Равновесное значение Np в кристалле при заданных T, р и N находим из условия минимума свободной энергии:

Щ>~)

=

^ - f e r

[ l n ( A / - t f F ) + l - 2 1 n t f F - 2 +

 

 

 

NF

Np

+ \n(N'~NF

) +

l]==g F

+ W l n N _ N p

N ' _ N p =0 - (XII.84)

Учитывая, что согласно

исходным посылкам

Np € N, N',

получаем

формулу

 

 

 

Np

Np

p),

(XI 1.85)

 

k T =K(T,

где в левой части стоит произведение доли вакантных мест (доля от общего числа узлов) на долю занятых междоузельных мест, — запись в форме «произведения растворимостей». Константа К. связана со сво­ бодной энергией образования дефекта равенством

gp=-kT\nK.

(XI 1.86)

Изменение величины К в зависимости от температуры определяется соотношением

ід\пК\

hp

(XII-87)

hH, =

где hP — изменение энтальпии

при образовании

дефекта.

Формулы ( X I 1.86) и ( X I 1.87) согласуются с

опытными данными

о температурной зависимости концентрации дефектов и могут быть использованы для определения характеристикgF, hp Tsp = hp —gp процесса образования дефекта, если экспериментально определена

зависимость -jf~= f (Т). При высоких температурах, вблизи точки

плавления, использование соотношения (XI 1.87) может, однако, вызвать возражения, поскольку концентрация дефектов становится большой, и не учитывать взаимодействие между ними было бы необос­ нованным (при 420°С, вблизи точки плавления кристалла AgBr, концентрация дефектов около 3,7%).

Случай дефектов по Шоттки мы подробно разбирать не будем, по­

скольку

вывод совершенно

аналогичен. При одинаковой

валентности

катиона

и аниона получаем формулу

 

 

 

 

 

 

go

 

 

N.

N.

-

- J .

 

 

~ -

^ -

^ е

k T ~ K ,

(XI 1.88)

372


где N — число узлов в подрешетке катионов (анионов); Ns — число катионных (анионных) вакансий, gs — изменение термодинамиче­ ского потенциала Гиббса при образовании пары изолированных ва­ кансий, т. е. при переходе одного катиона и одного аниона из узлов внутри кристалла в новые узлы на поверхности. Левая часть форму­ лы (XII.88) представляет произведение долей катионных N$ IN и анионных Ns IN вакансий.

§ 5. Кооперативные явления

Рассмотрим кристаллическую решетку, в которой для каждого узла существуют два способа, две возможности быть занятыми. Два рода возможных состояний обозначим А и В. В случае бинарного сплава или твердого раствора символы А и В будут относиться к ато­ мам (молекулам) разного сорта. В модели ферромагнитного вещества два рода состояний — это атомы данного металла (например, железа) с различной ориентацией электронного спина: допустим, А — атом железа с положительной ориентацией спина, В — атом железа с отри­ цательной ориентацией спина. Вообще говоря, в узлах металлической решетки находятся положительные ионы, но для той модели, которая будет рассматриваться, это несущественно. Для простоты частицы А и В, находящиеся в узлах решетки, будем далее называть всегда ато­ мами. Оговорим, однако, что А и В не могут быть ионами разного зна­

ка;

случай

ионного кристалла

AB из рассмотрения исключается.

 

Будем считать кристалл правильным в том отношении, что все

узлы решетки заняты, все междоузлия

свободны. Обозначим через

NA

И NB

числа атомов типа

А и В соответственно; N = NA + N Q —

общее число атомов в системе

(число узлов решетки). При заданных

значениях

JVA и N B существует •д , ^

^ конфигураций, отличаю­

щихся в отношении распределения атомов А и В по узлам решетки. Вероятность некоторой і-й конфигурации пропорциональна величине е х р / ' — — ), где Ut — потенциальная энергия системы в заданной

конфигурации. Энергетически выгодные конфигурации (конфигура­ ции с меньшими значениями Ut) имеют большую вероятность. В тех системах, которые мы будет рассматривать (А и В — незаряженные частицы или ионы одинакового заряда), сопоставляя энергии различ­ ных конфигураций, в первом приближении можно учитывать лишь взаимодействие ближайших соседей. Поэтому, говоря об энергии взаи­ модействия пары частиц, мы будем далее иметь в виду пару ближай­ ших соседей. Для кристаллической решетки, образованной частица­ ми А и В, возможны следующие три варианта:

I . Энергии парных взаимодействий типа А — А, В — В и А — В одинаковы. В этом случае всем конфигурациям системы (речь идет о способе распределения частиц А и В по узлам) отвечает одна и та ж е потенциальная энергия. Все конфигурации системы имеют одинако­ вую вероятность, и распределение атомов А и В по узлам решетки будет полностью беспорядочным (рис. 53, а).

373


I I . Взаимодействия типа А — В

энергетически более

выгодны-

чем взаимодействия типа А — А и В

— В. В этом случае потенциал ь-

. ная энергия системы тем меньше (множитель ехр ^— - ^ j

тем боль­

ше), чем больше число смешанных пар в системе. Наименьшую потен­ циальную энергию система будет иметь в такой конфигурации, при которой число пар А — В в системе максимально. Для системы стехиометрического состава это отвечает правильному чередованию ато­ мов А и В в решетке (рис. 53, б ) , когда каждый атом А окружен ато­ мами В и наоборот. Такую полностью упорядоченную структуру си-

 

•-/ O-Z

 

О О • О • •

€tN Q * N Q 4 * 4 0

О О • • О О

о • • • о •

а Ч Ъ ^ Ъ ч *

о • • • • о

о • о о о •

«^ХЧЧЯ

о • • • о о

• • о • • о а * \ р * Ъ ч *

• • • о о о

• о • • • о

^ц^оХ0

• • • О О О

о о о • о о о ч * Ъ Ѵ о ч * о • • • о о

а

 

5

 

6

Рис. 53.

Распределение частиц А и В по

узлам

решетки:

/ — у з л ы ,

занятые по способу

А; 2 — узлы, занятые

по способу В; а —

беспорядочное распределение; б

— сверхструктура; в — случай

«выделения»

стема будет иметь при Т = 0. С повышением температуры степень упорядоченности будет уменьшаться, но все же в определенной темпе­ ратурной области (часто весьма широкой) можно будет говорить о существовании в кристалле двух подрешеток, одна из которых занята в основном атомами А, другая — в основном атомами А. Можно вы­ делить правильные положения атомов А (а-узлы) и правильные поло­ жения атомов В (ß-узлы); к правильности геометрической структуры решетки добавляется правильность (пусть неполная) в распределении атомов А и В по узлам. В таком случае говорят, что кристалл имеет сверхструктуру.

I I I . Взаимодействия типа А — В энергетически менее выгодны, чем взаимодействия типа А — А и В — В. В этом случае повышается вероятность конфигураций, которым отвечает небольшое число пар смешанного типа. Наблюдается тенденция к распределению атомов таким образом, чтобы имелись области, состоящие преимущественно

из атомов

одного

сорта, А или

В, — так называемое

«выделение»

(рис. 53,

в).

При

понижении

температуры происходит

расслаи­

вание: система

из

микрогетерогенной превращается

в

гетероген­

ную.

 

 

 

 

 

 

Среднее число пар разного рода в системе при заданной температу­ ре определяется статистически. Упорядочение и выделение с ростом температуры уменьшаются; при высоких температурах распределе­ ние по узлам в случаях I I и I I I хаотическое, как и в случае I . Темпе-

374