Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 155

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

414

Глава 17. Влияние ловушек на люминесценцию

троицо-дырочные пары создаются посредством другого вида возбуждения, в частности с помощью света. Как показано на конфи­ гурационной диаграмме (фиг. 17.22), деформация приводит к сме­ щению носителя вдоль метастабильного состояния в область боль­ ших энергий, в результате становится возможным его освобожде­ ние для радиационного перехода. Кристаллы CclS, накачанные

при низкой температуре излучением с длиной вол­ ны, меньшей 6900 А, удер­ живали носители на ловуш­ ках в течение очень дли­ тельного времени. Если затем кристалл ударяли молоточком в направлении С-оси, наблюдалась вспыш­ ка зелено-голубого света

Ф и г. 17.22. Конфигурацион­ ная модель, поясняющая ипду- ♦ цирование люминесценции с по-

г мощью деформации.

[24, 25]. Повторяя удары, можно получить сотни вспышек после одной оптической накачки. В спектре излучения наблюдается четы­ ре или пять пиков, разделенных расстоянием, соответствующим энергии LO-фонона. Эти спектры очень похожи на спектры фотолю­ минесценции того же вещества, только с тем исключением, что в ударной люминесценции доминирует второй пик, а в фотолюми­ несценции — первый.

3. Люминесценция при изломе

Другая форма триболюминесценции наблюдается при разламы­ вании полупроводника. Если кристалл разламывать в темноте, то иногда можно видеть голубую вспышку. Предполагают, что это излучение обусловлено ' образованием поверхностных состояний на возникшей новой поверхности и перегруппировкой носителей на ней. По-видимому, первоначальное перераспределепие электро­ нов, имеющих значительную положительную энергию, по поверх­ ностным состояниям происходит с излучением (в противополож­ ность последующей поверхностной рекомбинации, которая являетсябезызлучательной).Триболюминесценции при разламывании была исследована в кремнии *). Для измерения спектра излучения

х) О. Parodi, частное сообщение, 1957; D. А . Jenny, частное сообще­

ние, 1957.


Литература

4 1 5

получали серию следующих с малым интервалом, вспышек при пес­ коструйной обработке кремниевых кристаллов. В результате этого процесса создавались с большой скоростью небольшие тре­ щины. Для получения стационарного источника света кристалл медленно вращался перед струей песка так, чтобы точка соударе­ ния всегда находилась в фокусе оптической системы. Спектр излу­ чения был очень широким, простирающимся в видимую область.

Весьма возможно, что свет, излучаемый при образовании тре­ щин, возбуждается деформациями, которые приводят к раскалы­ ванию кристалла. В этом случае поверхностные состояния не будут участвовать в процессах люминесценции. Возможно также, что люминесценция при раскалывании представляет собой не что иное, как свечение воздуха в дуге между заряженными свежесколотыми поверхностями.

>ЛИТЕРАТУРА

1.Bube R. II., Photoconductivity in Solids, Wiley, 1960. (Имеется перевод:

Бьюб Р., Фотопроводимость твердых тел, ИЛ, 1962.)

2.Leverenz II. W ., An Introduction to Luminescence of Solids, Wiley, 1950, p. 299.

3.

Curie D., Luminescence in Crystals, Wiley, 1963.

 

4.

Bube R. II., Phys. Rev., 80, 655 (1950).

100, 72 (1953).

 

5.

Klasens H. A .,

Journ. Electrochem. Soc.,

 

6.

Riehl N., Baur

G., Mader L., Thoma P., в книге И —VI Semiconducting

 

Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 724.

 

7 .

Shionoya S., Kallmann II. P., Kramer B.,

P h y s . R e v . , 1 2 1 ,

1 6 0 7 ( 1 9 6 1 ) .

8.

Meijer G., Journ. Phys. Chem. Solids, 7, 153 (1958).

 

9.

Fenner G. E.,

Solid State Electr., 10, 753

(1967).

 

10.

Konnerlh K., Lanza C., Appl. Phys. Lett., 4, 120 (1964).

 

11.

Carlson R. O., Journ. Appl. Phys., 38, 661 (1967).

 

1 2 .

Dobson C. D., Franks J.,

Keeble F. S., I E E

E

J o u r n . Q u a n t u m E l e c t r . , 4 ,

 

1 5 1 ( 1 9 6 8 ) .

 

O., E l e c t r . L e t t . ,

 

 

 

1 3 .

Guekos G., Strutt M. J.

 

3 , 2 7 6 ( 1 9 6 7 ) .

 

14. Dynient J. C., Ripper J. E., IEEE Journ. Quantum Electr.. 4, 155 (1968).

15.

Konnerth K., IEEE Trans. Electr. Devices, 10, 506 (1965).

16.

Winogradolf N.

N.. Kessler II. K., Solid State Comm., 2,

119 (1964).

17.Pankove J. I., IEEE Journ. Quantum Electr., 4, 161 (1968); 4, 427 (1968).

18.Труды IX Международной конференции но фпзнке полупроводников

19.

(Москва, 1968), стр. 591, изд-во «Наука», 1969.

Pankove J. I., Bull. Am. Phys. Soc., 13, 1657 (1968).

20.

Ripper J. E., IEEE Journ. Quantum Electr., 5,

391 (1969).

21. Ripper J. E., Dyment J. C., Appl. Phys. Lett., 12, 365 (1968).

22.

Chudacek I., Czechoslovak Journ. Phys., 15, 359 (1965); 17, 34 (1967).

23.

Sadomka L., Czechoslovak Journ. Phys., 14, 800 (1964).

2 4 .

Warschauer D. M., Reynolds D.

C., J o u r n .

P h y s .

C h e m . S o l i d s , 1 3 , 2 5 1

 

(1 9 6 0 ) .

Phys. Rev.,

125,

516 (1962).

25. Litton C. W ., Reynolds D. C.,

\


МОДУЛЯЦИЯ ОТРАЖЕНИЯ Ц

Модуляция отражения представляет незначительный интерес при разработке полупроводниковых устройств, являясь в.то же время очень ценным методом исследования зонной структуры полупроводников [1—4]. Наиболее очевидное (хотя и довольно неэффективное) практическое применение модуляции отражения можно представить себе в виде устройства для управления интен­ сивностью отраженного излучения. Более важное практическое применение состоит в выяснении (перазрушающим методом [5]) влияния радиационных нарушений, когда при помощи измерения отражения определяется изменение концентрации носителей и их времени релаксации.

Будем отличать модуляцию света в приповерхностном слое (происходящую при hv > Eg) от модуляции света, отраженного от некой поверхности внутри кристалла, что может иметь место при h v < .E g . В последнем случае свет может пройти дважды (туда п обратно) через область, поглощение которой модулируется, так что, хотя отраженный пучок и оказывается промодулнроваиным, активным процессом является поглощение, а ие отражение. В качестве примера .можно привести модуляцию пучка света, отра­ женного от поверхности (/г-типа), под которой находится р п- переход. Если р — /г-переход включен в прямом направлении, то концентрация дырок перед ним возрастает, приводя к усилению. поглощения свободными носителями за счет переходов между валентными подзонами. Это поглощение обладает характерной спектральной .зависимостью, которая и наблюдается у модулиро­ ванного излучения, отраженного от р п -перехода. В германии в результате инжекции дырок интенсивность отраженного света (с длиной волны 9 мкм) уменьшалась на 80% [6].

В отличе от вышеупомянутой модуляции поглощения при энер­ гиях фотона, много меньших ширины запрещенной зоны, ранние исследования модуляции отражения были выполнены в области энергий, которые близки к ширине запрещенной зоны или немного меньше» ее [7]. Наблюдались небольшие изменения отражения

а) В советской литературе этот метод, как и аналогичные ому, относят к области «дифференциальной спектроскопии», включающей также методы модуляции поглощения света.— Прим. ред.


§ 1. Зависимость отражения от зонной структуры

. 417

(порядка 1% или менее), возникающие в результате

инжекции

в область вблизи отражающей внешней поверхности. Эта модуля­ ция отражения связывалась с изменением комплексного показате­ ля преломления за счет вклада свободных носителей в диэлектриче­ скую восприимчивость [8]. Поверхностный слой с диэлектрической проницаемостью, несколько отличающейся от диэлектриче­ ской проницаемости объема, действует как отражающий или про­ светляющий диэлектрический слой, показатель преломления и толщина которого модулируются инжектированными носителями. Интенсивный свет лазера с модулированной добротностью может создавать очень высокую концентрацию электронно-дырочных пар, приводя к появлению в полупроводнике отражения металлическо­ го типа [9].

В этой главе мы рассмотрим, каким образом периодические возмущения зонной структуры вблизи поверхности полупроводни­ ка влияют на отражение. Хотя в некоторых случаях в процессе модуляции зонная структура в объеме также может меняться, при измерениях отражения зондируется прежде всего поверхность. Отражение зависит от таких параметров, как давление, темпера­ тура и электрическое поле.

§1. ЗАВИСИМОСТЬ ОТРАЖЕНИЯ ОТ ЗОННОЙ СТРУКТУРЫ

Коэффициент отражения определяется следующей формулой:

ч (ц -1 )2+fc2

(18.1)

(и +1)2-|-/са ’

 

где и — действительная часть показателя преломления, а к — коэффициент экстинкции. В § 1 гл. 4 [формула (4.7)] мы нашли, что

CCL

Ji = 4яѵ ’ (18.2)

где а — коэффициент поглощения. В области энергий, которые близки к ширине запрещенной зоны или меньше ее, величина к обычно мала по сравнению с п — 1; поэтому величина R в основ­ ном зависит от п:

п —1

(18.3)

■/г+ І

 

В § 3 гл. 4 мы приводили соотношение Крамерса — Кронига для показателя преломления

п (в ) _1 _

ch р

f

а

(•g')

1

2 я 2 Г

J

( £

' ) 2 _ £ 2

27—01085


418

Глава 18. Модуляция отражения

где Р означает главное значение интеграла по Коши. Интегриро­ вание по частям дает

1

da (E’)

dE'.

(18.4)

(£')2_Д'2

dE'

I)

 

 

 

Когда логарифмический множитель велик, значение интеграла зависит в основном от производной. Далее, а (Е ') зависит от ком­ бинированной плотности состояний и возрастает для переходов

Обозначение

 

 

 

Тип крит и­

 

Е(кх)

Е(ку)

E (k z)

ческой

 

 

 

 

т очки

М0

\ J

KI

\ J

Минимум

М,

\J

\ J

^

Седло

М г

 

А А _ Седло

м з

A“-A"-A

Максимум

 

 

Ф и г . 18.1. Критические

точки,

для которых

VhE {к) — 0.

вблизи критических

точек.

Критические точки определяются

условием Ѵд ІЕС(к) Е ѵ (к)] =

0. Простейшие критические точ­

ки — точки, для которых

 

 

 

dEc (к)

_ dEv (к)

dk

~~

dk

~~и '

Имеется четыре типа критических точек, они показаны на фиг. 18.1, где изображена зависимость Е (к) вдоль каждого направления в трехмерном пространстве импульсов. На фиг. 18.2 приведены соответствующие зависимости комбинированной плотности состоя­ ний от энергии.

Поскольку а (Е') пропорционально комбинированной плот­ ности состояний, то величина da (E')ldE' в формуле (18.4) будет велика и положительна при энергиях, больших Е 0 и меньших Ег, или велика и отрицательна при энергиях, больших Е2 и меньших Е 3. Поэтому показатель преломления, определяемый формулой (18.4), будет проходить через максимум при Е 0 и Е1 и через мини­ мум при Е2 и Е 3. Мы можем получить дальнейшую информацию,