Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 153

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

§ 1. Зависимость отражения от зонной структуры.

419

касающуюся этих максимумов и минимумов, основываясь на рас­ пределении состояний по энергиям: прямые переходы между пара­ болическими зонами, разделенными зазором E g, дают величину а (Е), пропорциональную Е g)1^. Вблизи этой критической точки типа Мо da (E)ldE пропорционально (Е Е 8 т. е. имеет корневую особенность при Eg. С другой стороны, для запрещенных переходов, когда а (Е) пропорционально (Е Eg)3/* и для непря­ мых переходов, когда а (Е) пропорционально (Е Е я)3, производ­ ная da (.й'Уіій'плавно стремится к нулю вблизи критической точки.

Ф и г. 18.2. Комбинированная плотность состоянии для четырех основных типов критических точек.

В случае экситонов комбинированная плотность состояний отлич­ на от нуля в узком интервале энергий, поэтому экситонам соот­ ветствуют большие значения da (E)/dE.

Следовательно, в спектре показателя преломления появляется структура каждый раз, когда da (E)ldE проходит через большой максимум или минимум. Спектр отражения воспроизводит струк­ туру спектра показателя преломления.

Структуру в спектре показателя преломления и, следовательно, отражения можно сделать более рельефной путем периодической модуляции параметра, влияющего на комбинированную плот­ ность состояний. При помощи синхронного детектирования можно выделить сигнал, связанный с зависящей от времени частью отра­ жения. Рассмотрим для примера эффект модуляции отражения электрическим полем.

Показатель преломления при некотором значении поля Швыра­

жается

формзыюй [101

 

 

 

п(Е ,

а { Е ', 0)

dE'

Да (Е ', %)

dE', (18.5)

8 ) - i = -f-J (£')2— £2

(Е')2—£2

о

где первый интеграл дает величину п (Е , 0) — 1, т. е. определяет п (Е) в отсутствие поля. Следовательно, изменение в п (Zs1), вызван­ ное приложенным полем, записывается в виде

Да (S', %)

dE'. '

(18.6)

Ап(Е, g) = 4 J (£')2— £2

о


420

Глава IS. Модуляция отражения

Зависимости действительной и мнимой частей диэлектрической проницаемости (s1 и е2 соответственно) от энергии фотона Е = Тки

Ф и г . 18.3. Сводка частотных зависимостей изменения диэлектрической проницаемости в электрическом поле для разных типов критических точек [И].

Форма линий Aet (со, Е) и Д е, ( со, Е) вычислена при условии: ЛѲ = 10 маВ, Eg = 0,8 эВ и В = 1. Здесь р = (йш — Eg)/hQ, А = — Ѳ1/ 2)/ш*.

изображены на фиг. 18.3 для нулевого поля и поля конечной вели­ чины. Нетрудно заметить изменение диэлектрической проницае­

§ 2. Методы модуляции отражения

421

мости, вызванное полем, для различных типов критических точек. Зависимости от энергии величин Ап и Да, даваемые формулой

(18.6),

подобны представленным на фиг. 18.3 зависимостям Дех

и А82

соответственно.

Вспомним, что в п. 2 § 3 гл. 2 мы рассматривали уширение дис­ кретного уровня за счет эффекта Келдыша — Франца. При уширении однородным полем зоны состояний вероятность нахождения частицы описывается функцией Эйри [12]. Функция Эйри харак­ теризуется экспоненциальным спадом, с одной стороны от края зоны, соответствующего нулевому полю, и осцилляциями с убы­ вающими амплитудой и периодом с другой стороны от этого края. Эти осцилляции видны на фиг. 18.3. Если, однако, электрическое поле не однородно, то интерпретация данных по отражению становится более трудной, как мы это увидим в п. 1 § 2 гл. 18.

Хотя в интеграл в формуле (18.6) вносят вклад переходы с лю­ быми энергиями, существенны только изменения а вблизи кри­ тических точек. Переходы с энергиями, много большими или много меньшими чем Е, вносят пренебрежимо малый вклад в значение интеграла в точке Е, поскольку этим энергиям соответствует очень

большая

абсолютная

величина знаменателя.

 

Используя

соотношение

Крамерса — Кронига

для расчета

относительного

изменения

отражения,

вызванного

изменениями

в п и а ,

получаем следующее выражение:

 

 

 

 

 

сТг Г Да ( ') dE'

 

 

 

 

 

 

~пJ (.ЕУ--Е2

2Ё-ВАа(Е),

(18.7)

где

 

 

о

 

 

 

 

 

 

. А =

 

п2 — к2 — 1

 

 

 

 

 

 

 

и

 

[(? ? ,+ 1 )2 +

7с2] [ ( и — l) 2 +

fc2]

 

 

 

 

 

8nie

 

 

 

 

 

В = -

[ ( W + l )2+

)2+

 

 

 

 

f t 2] [ ( 'Л — l

fc2] •

 

 

 

 

 

В германии [10] АR/R = 0,267Д?г + 0,0022Д7г. В GaAs [13] также И > В. Следовательно, AR/R гораздо сильнее зависит от Ап,

чем от Ак = %Аа/4п.

§2. МЕТОДЫ МОДУЛЯЦИИ ОТРАЖЕНИЯ

1.Электроотражение

Электрическое поле может' быть приложено вдоль поверхности полупроводника. Для этой цели между двумя электродами, напы­ ленными па переднюю поверхность, прикладывается переменное напряжение, так чтобы электрическое поле существовало в обла­ сти между параллельными краями электродов [14]. Если толщина


422

Глава 18. Модуляция отражения

материала мала по сравнению с расстоянием между электродами, то поле в кристалле приблизительно однородно. В этом случае данные, характеризующие отражение, можно сравнить с данными по пропусканию, полученными в тех же условиях. Отметим, что при такой конфигурации можно изменять направление поляри­

зации падающего излуче­ ния по отношению к на­ правлению модулирующе­ го электрического поля.

Обычно, однако, элек­ трическое поле направлено перпендикулярно поверх­ ности, т. е. почти парал­ лельно направлению рас­ пространения света. Напримёр, для того чтобы приложить к образцу пере­ менное электрическое по­ ле, можно использовать прозрачные электроды, от-

Ф и г. 18.4. Действительная и мнимая части индуцированных полем изменении диэлектриче­ ской функции германия в об­ ласти прямых междузоииых переходов для различных по­

лей.

Верхняя пара кривых соответст­ вует приближению однородного по­ ля. Величина поля дана и В/см; <Де,>, отложенная по левой оси ор­ динат, пропорциональна ДЯ/fi, а <Де2> st (лс/ш) <Да> (отложена по

кривой оси ординат [16]).

деленные от поверхности 10-микронным слоем майлара [15]. Про­ тивоположная сторона образца делается шероховатой, чтобы умень­ шить отражение от задней поверхности. Эта методика позволяет регистрировать весьма малые относительные изменения отражения

(ДД/Д « 5 -ІО-6).

При интерпретации данных по электроотражению следует про­ являть большую осторожность. Если поле приложено перпендику­ лярно поверхности, то оно неоднородно внутри полупроводника. Эта неоднородность сильно влияет на форму спектра за счет эффек­ тов усреднения и смешения действительной и мнимой частей диэлектрической функции [16]. На фиг. 18.4 показано сильное влияние неоднородности электрического поля на вид осциллирую­


§ 2. Методы модуляции отражения

423

щей части диэлектрической функции (две верхние кривые относятся к случаю однородного поля). Экспериментальное доказательство влияния неоднородного поля на спектр электроотражения подтвер­ дило необходимость учета неоднородности поля при интерпрета­ ции данных [17].

Поскольку при синхронном детектировании неизбежно проис­ ходит некоторое усреднение, то существенно, чтобы модуляция * электрического поля осуществлялась при помощи волн прямо­ угольной формы с изменением поля между двумя фиксированными

значениями,

так

чтобы

 

спектр, полученный при по­

 

мощи такой дифференци­

я- тип

альной методики, соответ­

ствовал

определенному

 

значению поля (желатель­

 

но однородного).

 

 

Электрическое поле мо­

 

жно приложить к поверхно­

 

сти более простым

спосо-

 

Ф и г. 18.5. Изменение

внут­

реннего электрического

поля

на различных поверхностях.

Величина электрического поля определяется наклоном краев зон.

 

р-т и п

Инверсионный

/

Обогащенный

слой .

слой

бом, а именно путем погружения полупроводника в элек­

тролит, например

слабый раствор

КС1

в воде [18].

Перемен­

ное напряжение

прикладывается

между

образцом и

платино­

вым электродом, погруженным в электролит. Излучение попадает на образец через окно в ячейке. Коротковолновая граница пропу­ скания воды составляет 1700 А; в длинноволновой области спектра можно, работать вплоть до длин волн 2,6 мкм в системе с тонким слоем водного раствора или с органическим растворителем, не со­ держащим радикалов ОН [191. Эта простая техника позволяет про­ изводить скалывание образца в электролите, не подвергая его воз­ действию воздуха. К образцу можно приложить механические напряжения для исследования влияния деформации на зонную структуру [20]. Применение электролитов ограничено, однако, областью температур выше 200 К.

Отметим, что поверхностный потенциал, а следовательно, и электрическое поле на поверхности и вблизи нее зависят от по­ верхностных состояний и природы адсорбированных примесей, как это показано на фиг. 18.5. Внешнее поле индуцирует поверхно­ стный заряд, который может усилить или ослабить изгиб зон или даже изменить полярность поверхностного поля. Поскольку изгиб