Файл: Панков Ж. Оптические процессы в полупроводниках пер. с англ.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 147

Скачиваний: 3

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

§ 3. Некоторые результаты

431

в точках симметрии) очень сходными спектрами электроотражеипя, структуру которых можно идентифицировать с определенными переходами (фиг. 18.12).

Для того чтобы подтвердить идентификацию пиков, было иссле­ довано электроотражение сплавов GaAs^JP^. с различными х [31]. Это позволяет проследить за смещением различных пиков при переходе от зонной структуры GaAs к структуре GaP. Эксперимен­ ты показали, что при комнатной температуре ширина зоны для

Ф л г. 18.12. Спектр электроотражения GaP л-типа при комнатной темпе­ ратуре [31].

Постоянное напряжение равно 1,5 В; амплитуда модулирующего напряжения состав­ ляет 3 В.

прямых переходов Е 0 меняется с увеличением х не по линейно­ му закону, как предполагалось ранее, а описывается зависимо­ стью, содержащей квадратичный член. Таким образом, получаем (в электронвольтах)

Е0= 0,210 X2+ 1,091 ® + 1,441,

как это показано на фиг. 18.13. Сшга-орбитальное расщепление меняется от 0,33 эВ в GaAs до 0,10 эВ в GaP по линейному закону.

Хотя измерения при помощи модуляции отражения позволили получить значительное количество новых данных, их интерпрета­ ция осложнена многими трудностями, которые до сих пор полно­ стью не преодолены. Так, следует учитывать, в частности, экситон-

432

Глава 18. Модуляция отражения

ные эффекты [34, 35]. Электрическое поле смещает экситонные переходы в сторону меньших энергий (эффект Келдыша — Фран­ ца) и уменьшает их вклад (ионизация экситонов). Обычно считает­ ся, что зоны — параболические; если известен точиый закон дисперсии, то можно попытаться внести поправки. Далее, при изме­ рениях, в которых существенно значение поверхностного потен­ циала (фотоотражение и поперечное электроотражение), электри­ ческое поле в полупроводнике неоднородно. Трудно сказать,

Ф п г. 18.13. Изменение Е 0 н Е0 -- До (см. фнг.

18.10) в зависимости от

состава сплава GaAs,_a.Pr, полученное из данных по фотоотражеипю.

Крѵжкп

обозначают экспериментальные

точки.

Кривые

соответствуют

выражениям

=

0,210 ж2 4 - 1,091 ж + 1,441 эВ и

Е а + Д0

= 0,182

ж 2 + 0,884 ж +

1,776 эВ.

какой вклад вносят области с различными значениями поля. Кроме того, из-за нелинейности электрооптического эффекта зависимость от времени оптического сигнала ие воспроизводит таковую для модулирующего поля. Поскольку носители генери­ руются фотонами, обладающими энергиями, большими чем ширина запрещенной зоны, то релаксация энергии этих носителей проис­ ходит очень быстро; следовательно, в соответствии с соотноше­ нием неопределенностей энергия определяется с меньшей точ­ ностью (уширение за счет конечного времени жизни) [36].

ЛИТЕРАТУРА

1. Greenaway D. L ., НагЪеке G., Optical Properties and Band Structure of

Semiconductors, Pergamon, 1968.

2. Aspnes D. E., Handler P., Blossey D ■ G., Phys. Rev., 166, 921 (1968). '3. Cardona M ., в книге Solid State Physics, Suppl. 11, ed. F. Seitz, D. Turn-

bull, H. Ehrenreich, Academic Press,

1969.

4. Semiconductors and Semimetals, Vol.

8, Academic Press, 1971.


Литература

433

5.Kalian А ., Bouthillette L., Spitzer W. G., Bull. Am. Plays. Soc., 14, 326

(1969).

6.

Pankove J. I ., Annales de Phys., 6, 331 (1961).

7.

Filinski / ., Pliys. Rev., 107, 1193 (1957).

8.

Sosnowski L., Phys. Rev., 107, 1193 (1957).

9.

Birnbaum M ., Stocker T. L., Bull. Am. Phys. Soc., 9, 729 (1964).

10.

Seraphin B. 0., Bottka N., Phys. Rev.,139, A560 (1965).

11.

Hamakawa Y ., Handler P., Germane F . A . , Phys. Rev., 167, 709 (1968).

12.Ландау Л. Д ., Лифшиц E. M ., Квантовая механика, Фпзматгнз, 1963.

13.Engeier W. E., Fritzsche FI., Garfinkei M ., Tiemann J. / . , Phys. Rev.

Lett., 14, 1069 (1965).

14.Forman R. A ., Cardona M ., в книге II—VI Semiconducting Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 100.

15.Seraphin B. O., Proc. Int. Coni, on Semiconductor Phys. (Paris), Dunod,

1964, p. 165.

16. Aspnes D. E., Frova A ., Solid State Comm., 7, 155 (1969).

17.Frova A ., Aspnes D. E., Phys. Rev., 182, 795 (1969).

18.Shaklee K. L., Poliak F. FI., Cardona M ., Phys. Rev. Lett., 15, 883 (1965).

19.Cardona M ., Poliak F. H., Shaklee K. L., Journ. Phys. Soc. Japan, 21,

Suppl., 89 (1966).

20.Poliak F. IF., Cardona M ., Shaklee K. L., Phys. Rev. Lett., 16, 942 (1966).

21.Wang E. Y ., Albers W. A ., Bleil С. E., в книге II—VI Semiconducting

Compounds, ed. D. G. Thomas, Benjamin, 1967, p. 136.

22. Nahory R. E.,

Shay J. L., Phys. Rev. Lett., 21, 1569 (1968).

23.

McCoy

J. IF.,

Wittry D. B., Appl. Phys. Lett., 13, 272 (1968).

24.

Gobeli

G.

W.,

Kane E. O., Phys. Rev. Lett., 15, 142 (1965).

25.

Batz B.,

Solid

State Comm., 4, 241 (1966).

26.Balzarotti A ., Grandolfo M ., Solid State Comm., 6, 815 (1968).

27.Balslev I ., Phys. Rev., 143, 636 (1966).

28.Braunstein R ., Schreiber P., Welkowsky M ., Solid State Comm., 6, 627

(1968).

29. Seraphin В. О., Hess R. B., Phys. Rev. Lett., 14, 138 (1965).

30.Wang E. Y ., Albers W. A ., Jr., Bleil С. E., в книге II—VI Semiconducting

Compounds, ed. D. G. Tliomas, Benjamin, 1967, p. 136.

31.Thompson A . G., Cardona M ., Shaklee K. L., Woolley J. C., Phys. Rev.,

146, 601 (1966).

32.

Seraphin B.

O.,

Journ. Appl. Phys., 37, 721 (1966).

33.

Sturge M .

D.,

Phys. Rev., 127, 768 (1962).

34.Dow J. D., Redfield D., Phys. Rev., B4, (1970).

35.Ralph H. I., Journ. Phys. C. (Proc. Phys. Soc.), 1, 378 (1968).

36.Landsberg P. T., Proc. Phys. Soc., A62, 806 (1949).

28—01085


П Р И Л О Ж Е Н И Я

I. ОБОЗНАЧЕНИЯ

 

 

 

 

 

 

 

а

Постоянная

решетки;

боровскнй

радиус

с

Скорость

света

в вакууме

 

D

Коэффициент диффузии

 

 

Е

Энергия

 

 

 

 

 

Ес, Еѵ

Энергии,

соответствующие краям

валентной

Eg

зоны и зоны проводимости

 

Ширина

запрещенной

зоны

начального

Et

Энергия

ионизации;

энергия

еа, Еd, Ех

состояния

 

 

 

Энергии связи акцептора, донора и экситоиа

EF

Уровень

Ферми

 

 

 

Ef

Энергия

конечного состояния

 

Ерп Epp

Квазиуровни Ферми для электронов и дырок

Ео

Энергия, требуемая для создания электронно-

E

дырочной пары

 

 

Энергия

фонона

 

 

 

JEp

Энергия

первичного электрона

 

Ет

Порог внешнего

фотоэффекта

 

Et

Энергия

уровня

захвата

 

Ш

Электрическое поле

 

 

F

Сила

 

 

 

 

 

 

1

Функция Ферми

 

 

 

g

Усиление

генерации

 

 

G

Скорость

 

 

h

Постоянная

Планка

 

 

n

Постоянная Дирака

 

 

i, I

Ток

 

 

 

 

 

 

h

Ток

насыщения

 

 

 

Isc

Ток

короткого замыкания

 

UJ

Плотность

тока

 

 

 

к

Постоянная

Больцмана; волновой вектор;

 

вектор квазиимпульса

 

к

Коэффициент экстинкции

 

К

Вектор квазиимпульса

 

 

1

Длина

 

 

 

 

 

L

Интенсивность света

 

 


Le

LH m

inf

К

n c n

n N

Nc, Nv

Na, Na; ND, Nd

Ni

Np

NT, Nt

P

Я

Q

r R

t

T

V

7

vD

voc

а

e

Ф

Ф д, Фb

Л

X

P

V

tt>

p

0' T

0

X

6

Приложения

 

435

Длина диффузии электронов

 

Длина

диффузии дырок

 

 

Масса свободного электрона

 

Эффективная масса электрона

 

Эффективная

масса дырки

 

Комплексный

показатель

преломления

Действительная

часть показателя

преломле­

ния

 

 

 

 

 

 

Концентрация

 

электронов

 

 

Концентрация

 

 

 

 

Плотность

состояний в зоне проводимости

и валентной

зоне

 

 

Концентрации

акцепторов

и доноров

Концентрация примесей

 

 

Плотность

фононов

 

 

Концентрация ловушек

 

 

Вероятность;

давление; мощность

 

Заряд электрона

 

 

Полный

заряд

 

 

 

Радиус

 

 

 

 

 

 

Коэффициент

отражения;

скорость

рекомби­

нации;

сопротивление

 

 

Время

 

 

 

 

 

 

Температура;

пропускание

 

Скорость

 

 

 

 

 

Напряжение;

объем

 

 

Э. д. с.

Дембера

 

 

Напряжение холостого хода

 

Коэффициент

поглощения

 

 

Диэлектрическая проницаемость

 

Работа

выхода

 

 

 

Высота

барьера

 

 

Эффективность

(коэффициент полезного дей­

ствия)

 

 

 

 

 

Теплоемкость

 

 

 

 

Подвижность

 

 

 

 

Частота

 

 

 

 

 

Угловая частота

 

 

Сопротивление;

плотность

состояний

Проводимость;

эффективное сечение захвата

Постоянная времени

 

 

Угол

 

 

 

 

 

 

Восприимчивость; энергия сродства к элек­ трону

Положение уровня Ферми по отношению к краю зоны

28*


И. СВОЙСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВ*

Ширина запрещен­

 

 

 

 

ной зоны

Tim абсолют­

 

 

 

 

 

ного мини­

О ' » *

 

 

Eg (OK),

Kg (300 К),

мума зоны

(300 К),

(

Э ) г - .

проводимости

 

аВ/бар

ЭВ

ЭВ

 

аВ/К

 

 

 

r

s i

1,166

1,11

 

 

 

IV

1

Ge

0,74

0,67

{

 

1

 

 

 

 

1

a-Sn

_0 2 * *

*

 

 

 

3,0

2 ,8 -

 

f

(6H)

3,2*

IV — IVSiC^

 

 

 

I ß

2,68

2,2

 

(

Se

1,95

1,74

V!

 

 

 

 

 

[Т е

0,334

0,32

 

r BP

 

2

 

AIP

2,5

2,43

 

AlAs

2,24

2,16

 

AlSb

1,6

1,6

 

GaN

3,6

3,5

III —V

{

 

2,4

2,25

 

GaP

 

GaAs

1,520

1,43

 

GaSb

0,81

0,69

 

InP

1,42

1,28

пепр.

100

- 2 ,3

—1,5

лепр.

111

- 3 ,7

5,0

пр. 000

 

5,0

непр.

 

- 3 ,3

 

пепр.

 

 

 

пр.

0001

—14

- 2 0

пр.

0001

- 0 ,3

—19

пепр.

 

 

 

непр.

100

- 3 ,5

 

пепр.

 

 

 

непр.

100

- 4

- 1 ,6

пр.

0000

—3,9

3,7

непр.

100

- 5 ,4

—1,7 1

пр.

000

- 5 ,0

11

пр.

000

- 4 ,1

12

пр.

000

- 4 ,6

4,6

InAs

0,43

0,36

пр. 000

—3,3

5

InSb

0,235

0,17

п р .000

—2,9

15

г

I

Эффективная масса

Показа­

Статическая

Постоян­

Подвижпость

 

 

 

 

 

 

 

 

тель пре­

диэлектри­

ная решет­

 

 

т *

 

m'h

ломления

ческая про­

ки а, Â

Ре .

Рл.

 

n

ницаемость e

 

 

 

 

 

 

см2/(В-с)

С М 2 / ( В - С )

ОТ; 0,98

 

0,52

3,44

11,7

5,43

1350

480

m-t 0,19

 

 

 

 

 

 

 

 

пц 1,58

 

0,3

4,00

16,3

5,66

3 900

1900

m;0,08

 

 

 

 

 

 

 

 

0,02

 

 

 

 

6,489

2 000

1000

 

 

 

2,69 Иc

10,2

а 3,0817

400

 

 

 

 

2,65 JL c

с 15,1123

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4,359

 

 

 

 

0,12

5,56 Иc

8,5

 

1

 

 

 

3,72 _L c

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,038 1

 

0,26 И

3,07 II c

5,0 (I с

 

1100

 

 

0,10 j_

2, 68 _L c

2,2 _L с

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2,6

6,9

4,538

 

 

0,13 **

 

 

3,0

9,8

5,462

80

 

0,5

m i 1,06

 

12

5,66

1 000

~ 100

m i

0,49

 

 

 

 

 

 

 

0,11

 

0,39

3,4

11

6,135

50

400

0,2

 

 

2,4

 

а 3,18

150

 

 

 

'

с 5,16

 

 

 

 

 

 

 

0,13

 

0 g ****

3,37

10

5,450

120

120

0,07

 

0,5

3,4

12

5,653

8 600

400

0,045

 

0,39

3,9

15

6,095

4 000

650

0,07

 

0,40

3,37

12,1

5,8687

4000

650

0,028

 

0,33

3,42

12,5

6,05S

30 000

240

0,0133

 

0,18

3,75

IS

6,4787

76 000

5000

 

(78 К)