Файл: Кремниевые планарные транзисторы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 207

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

лельного соединения все большего

числа малых структур в опре­

деленный момент произойдет перераспределение

тока в транзисторе

таким образом, что максимально допустимая

рассеиваемая

мощ­

ность

почти

достигнет

насыщения

и дальнейшее увеличение ее

будет

незначительным

(рис. 10.12).

 

 

 

2. Термическая устойчивость, очевидно, будет лучше при низ­

ких уровнях

мощности.

 

 

 

Условия

стабильного или нестабильного

распределения

тока

для транзисторных структур с различной топологией могут быть получены путем решения нестационарного уравнения теплопро­ водности при соответствующих граничных условиях. В работе [224], в частности, найдено, что в случае многоэмиттерного тран­ зистора с полосковой конфигурацией активных областей условие тепловой стабильности может быть записано как Р0атІк/Х^ 1, где Р 0 — средняя плотность мощности; Ік — толщина тела коллектора; X — коэффициент теплопроводности.

Из анализа, проведенного авторами указанной работы, стано­ вится очевидно, что для обеспечения тепловой устойчивости тран­ зистора очень большое значение имеет расстояние от р-п перехода — источника тепла — до теплоотводящей поверхности. Так, если бы удалось осуществить отвод выделяемого тепла со стороны эмиттера (а не со стороны коллектора, как это принято обычно), то можно было бы увеличить максимальную стабильную плотность мощности

в5 раз (при толщине кристалла 75 мкм).

3.Существенным параметром, определяющим термическую ста­ бильность прибора, является температурный коэффициент эмит­ терного тока, который был представлен ранее соотношениями (10.2)

и(10.6). Соотношение (10.6), определяющее температурный коэф­

фициент

эмиттерного тока ат с учетом фактического

напряжения

Us р-п,

приложенного к переходу эммитер — база,

имеет важный

физический смысл, поскольку объясняет, почему реальные тран­ зисторы способны выдерживать более высокие нагрузки, чем те, которые определяются величиной ато, не обнаруживая при этом тепловой нестабильности. Как уже отмечалось, причина заклю­ чается в стабилизирующем влиянии эмиттерного и базового после­ довательных сопротивлений. Таким образом, ато соответствует

случаю

малых токов Іэ, когда

U3p-nw U, а

влияние эмиттер­

ного и

базового сопротивлений

пренебрежимо

мало.

В

10

î:

случае больших плотностей тока U3p.n

становится

все

 

меньше

по сравнению

с Uaa именно

 

из-за

влияния г'э

и

Гбп,

при

этом

 

ат меньше, чем ат о [&т ~

«г о//э с о г "

 

ласно равенству (10.6)1. Это может

 

Рис. 10.12. Зависимость

максимально

допу­

1 Z 3 ¥ ff

стимой мощности от количества

параллель­

ных транзисторов: п — число транзисторов.

 

286


 

I

1

:

I

і _

50 WO 150) Г, "С

О

200

WO

SOO

L*A

Рис. 10.13. Зависимость тока коллек­ тора от температуры, U3<s = const [229]:

прибор А;

прибор Б.

Рис.

10.14. Зависимость аТо> а т

от

тока

коллектора [229] для двух

раз­

ных

транзисторов.

 

служить частичным объяснением того хорошо известного факта [186, 187], что мощные ВЧ транзисторы обладают наилучшей теп­ ловой стабильностью и устойчивостью по отношению к образо­ ванию горячих пятен и вторичного пробоя (при данном уровне по­ стоянной мощности) ' именно в диапазоне малых напряжений — больших токов.

Зависимость температурного коэффициента ат от тока коллекто­ ра можно найти экспериментально путем предварительного снятия зависимости / к от температуры при фиксированном значении U3Q [229] и использования затем соотношения (10.2). Это проиллюстирровано на рис. 10.13, 10.14.

На рис. 10.14 для сравнения приведена кривая для ато, по­ строенная без учета влияния эмиттерного и базового сопротивлений. Видно, что в области больших токов действительное значение тем­ пературного коэффициента эмиттерного тока существенно меньше, чемаго, в то время как в области малых токов а г ~ а г о . прибли­ жаясь к значению 0,075 1/°С.

Как уже отмечалось, для мощных транзисторов не существует понятия гиперболы постоянной мощности рассеяния (как, напри­ мер, для маломощных транзисторов), что связано с появлением горя­ чих пятен и возрастанием теплового сопротивления по мере увели­ чения коллекторного напряжения (при постоянном уровне мощ­ ности). В каждом конкретном случае, таким образом, необходимо построение кривой, определяющей область безопасной работы тран­ зистора. Для этой цели необходимо определить явную зависимость температурного коэффициента ат от тока коллектора [229].

287


10.3. Методы повышения термической устойчивости и защиты от вторичного пробоя

Как следует из вышеприведенных рассуждений относительно температурного коэффициента эмиттерного тока, значительно умень­ шить ат можно введением добавочных сопротивлений эмиттера.

В связи с этим необходимо отметить, что в случае, когда рас­ пределение тока в структуре транзистора можно считать равно­ мерным (транзисторы малой и средней мощности), оказывается дос­ таточным введение внешнего эмиттерного сопротивления. Роль этого внешнего (стабилизирующего) сопротивления можно пояс­ нить следующим образом. Повышение температуры с ростом тока коллектора может привести к возникновению термической поло­ жительной обратной связи, что подтверждается появлением участка с отрицательным сопротивлением [183] на кривой, характеризую­ щей зависимости тока коллектора от напряжения перехода эмит­ тер — база при UKB = const (см. рис. 10.6). Введением дополни­ тельного внешнего эмиттерного сопротивления можно добиться, чтобы ход этой зависимости приближался к кривой /, для которой характерно отсутствие участка с отрицательным наклоном.

Таким образом, когда распределение тока в структуре тран­ зистора при условии постоянного смещения во всех случаях можно считать однородным (например, для маломощных транзисторов), добавление внешнего эмиттерного сопротивления приводит к появ­

лению отрицательной обратной связи,

которая снижает

величину

ат и удерживает

рабочий ток через прибор в безопасных

пределах,

повышая его устойчивость.

кривой зависимости Ік =

Как уже отмечалось, изменения на

= f(U3 р.п)c/K3=const,

указывающие на

возникновение

термически

нестабильного состояния, характерны

и для мощных

ВЧ и СВЧ

планарных транзисторов с большой активной площадью

 

[230, 231].

Когда распределение тока в транзисторной структуре существенно неоднородно, такие изменения (т. е. появление участка с отрица­ тельным сопротивлением) являются прямым следствием возникно­ вения областей локального перегрева из-за концентрации тока.

В связи с этим для мощных ВЧ транзисторов добавочное эмиттерное сопротивление во внешней цепи не приведет к более одно­ родному распределению тока внутри самой структуры и не будет способствовать лучшей устойчивости к вторичному пробою.

Наилучшим способом обеспечения равномерной токовой на­ грузки и термической устойчивости является создание стабилизи­

рующих

(балансных)

резисторов,

включенных

последовательно

с каждым

отдельным

эмиттером.

 

 

 

При

этом в случае правильного

подбора номинала отдельных

сопротивлений ко всему транзистору

в целом

оказывается под­

ключенным небольшой дополнительный

резистор, так что влияние

его на выходные параметры транзистора на высокой частоте будет незначительным.

288


Если в транзисторной структуре возникают такие условия, при которых плотность тока через какую-либо отдельную эмиттерную область начинает увеличиваться, то соответственно возрастает падение напряжения на добавочном резисторе, включенном последо­ вательно с этим эмиттером. За счет этого уменьшается напряжение смещения, приложенное к эмиттерному переходу в данном месте, и величина инжектируемого тока начинает падать. Наличие такой отрицательной обратной связи способствует тому, что ток может не достигнуть такого уровня, при котором может развиваться вто­

ричный пробой и произойти деградация

транзистора.

 

Величину

стабилизирующих

сопротивлений

можно оценить

на

основании

количественного

анализа

явлений,

происходящих

в

структуре ВЧ или СВЧ транзистора

в случае

неравномерного

распределения тока между отдельными эмиттерами или между от­ дельными транзисторными структурами, если прибор представляет собой параллельную комбинацию малых транзисторов, выполненных

на

 

одном

кристалле

[183,

228, 232]. В

этих

работах,

однако, не

учитывались

температурная

зависимость эмиттерного

тока

 

[232],

а

также

технологический

разброс

эмиттерных

сопротивлений и

толщины

базы под площадью

эмиттера

[183]. Наиболее

полный и

строгий

расчет

г э

с т

дан в

работе

[233].

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Расчет

гэ ст

проводился

следующим

образом. Эмиттерный

ток

в

тран­

зисторе п-р-п

типа с учетом формулы (3.23) можно записать в следующем

виде:

 

 

 

 

 

 

Ia

=

 

qSBK(ls)

 

 

 

 

ф

 

 

 

 

 

(10.15)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

— =

І а Л Г 0

( д ф | 1 .

 

 

exp

 

 

эо (l-La/La)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

— l

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Na

э0)

 

V

 

l

, 2 е е о ( Ф к к + і ^ к р - п | )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

qNdKLl

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

К (/э) <

1 — коэффициент, учитывающий

эффект оттеснения

тока

к

краю

эмиттера

(см. § 4.1).

Согласно

(6.14)

коэффициент

диффузии

электронов

Dn

 

{Хэ) на границе эмиттерного р-п

перехода с квазинейтральной базой при ти­

пичных

значениях

концентрации

примеси у

эмиттера Na э)—(хэ)

 

=

(1—5)-101 7

 

с м - 3 можно считать

не зависящим от температуры.

 

 

 

 

Концентрация носителей в собственном кремнии растет с температурой

по

 

закону

[234]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

п\ =

1,2-

10»і Т%п

 

 

 

expl-(<êg0-QTf.n)/kTp.n]t

 

 

(10.16)

где

Ѳ =

4 , Ь Ю - 4

эВ/град — температурный

коэффициент ширины

 

запре­

щенной зоны для кремния.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Температура р-п перехода зависит от рассеиваемой мощности по закону

(9.18). Подставив

выражения

(10.16),

(9.18) в

(10.15),

получим

 

 

 

 

 

/э

=

F (Тк - f /э^кэ^т п - к ) 3

ехр

 

 

 

э

р-п

 

 

 

(10.17)

 

 

k (TVt + Za UKB

 

Ят'п-к)

 

k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10

 

Зак.

190

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

289


где F =

 

qSa К

 

в)

Dn

 

(x"a)

 

1,2-103 1 ,

 

a

напряжение

U3p-n

 

зависит от

тем­

 

 

 

 

 

 

Ф

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пературы р - п перехода.

Напряжение

на

эмиттерном* р - п переходе

у

края

эмиттера

 

 

[/ э

 

 

( ±

 

 

можно

выразить через

внешнее напряжение

U3Q И

падение

 

напряжения

 

на

эмиттерном

стабилизирующем сопротивлении

лэ с т и

сопротивлении

 

пассивной

базы Л д п ;

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р-п

 

( ± У 2

> =

и э в (Т Р-П)-7 Э э

с

г

+

г'бпст).

 

 

(Ю . 18)

Это соотношение легко может быть получено из

(10.5),

если

пренебречь

сопротивлением

диффузионного слоя

эмиттера

по

сравнению с гэ С т и едини­

цей

по сравнению

с 5 С Т .

Комбинируя

выражения

(10.17)

и

(10.18),

найдем

напряжение (Уэб

 

р_п):

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

^ э б

(TP-n)

 

= С ^ о -

Ѳ Т Р - п

+

ЧІ0

С0 с т

+ r'6jBci)~

 

kTp,n

 

In (FT».n/Io).

(10.19)

Таким образом, согласно (10.19) одно

 

и то же значение тока эмиттера

 

может

быть достигнуто при разном

внешнем

 

напряжении с/э д в зависимости от тем­

пературы

 

Тр_п

 

 

эмиттерного

р-п

перехода.

Выразим

напряжение <Уэд

 

р_п)

для

эмиттера,

 

разогретого

протекающим

постоянным

током

/ э , через

напря­

жение

 

U3Q к )>

соответствующее

ненагретому

 

эмиттеру

{ Т Р _ П

= Т К ) .

Последнее условие — отсутствие разогрева — имеет место, например,

в им­

пульсном

 

режиме. Дл я

этого

запишем

аб (T'p-n)

в виде

ряда

Тейлора,

в котором

производные получены

из выражения (10.19):

 

 

 

 

 

 

иабр.п)

 

= иобк)

+

 

dU3

 

 

 

 

(ТР-П~ТК)

 

 

 

дТр.п

 

 

 

X

 

 

дТ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р-п

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(TP-n-TKf

 

 

 

 

д * и э б

 

 

 

 

 

 

—Т ) 3

 

 

 

 

(10.20)

 

 

 

 

 

 

X -

 

 

 

 

 

 

 

дТ'р-п

 

 

 

 

ѵ

Р-п

 

1 к>

4-.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

o - q U 3 6 ( T u )

+

q[3

 

3

ст

-r'6n/BCT)

+

3kTK

 

 

дТ

 

 

т„

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

т

 

 

 

 

 

 

 

р-п

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

к

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р-п-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3k

д3

Цзб

 

 

 

 

 

3k

 

 

 

(10.21)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тк

 

 

 

 

 

 

 

 

= —,; и т. д.

 

 

 

 

 

дТІ-п

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р-п

 

 

 

 

 

Tk

 

 

 

 

 

 

Легко

проверить,

что

при

Тр

п

— Тк

<

200° С и типичных

значениях

и э р

. п

( ± /э/2) s Ѵэ

р . „ к)

=

и д б

( Г к ) - 1 9

в C T

+

^ n / S C T ) < 0,8В второй член

в разложении (10.20) больше последующих

членов

в 25—30 раз. Пренебре

гая

малыми членами,

из (10.20)

получим

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и,

 

 

 

)

/ ; /

 

/гр

ч І

г

 

I

 

I

О Н 1

 

dUgQ

 

 

 

13U

naRi

П-К>

 

 

 

n

1

1

э

 

 

 

Т

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

эб

Wp.

 

 

 

 

 

р.п( к)-Г'

 

 

 

 

Во.

 

дТ

р-п

 

р-п-

Э ^ К Э А т

 

поскольку

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(10.22)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и,6

 

( Т н ) = и'э р - п Ѵк) + 10 С 3 с т + г'б n / ß C T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Согласно

 

равенству

(10.21)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(10.23)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

 

 

 

К

 

и,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

дТ р-п

 

Т р-п

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где Кц — температурный коэффициент эмиттерного напряжения при постоян­ ном токе эмиттера.

290