Файл: Шичков А.Н. Температурный режим листопрокатных валков.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 19.07.2024

Просмотров: 103

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

I n { V i P d p )

Kn ( K t P d p )

 

1/„ (ѴШ)

2 (vra)

PVn (PnftP? dp

m1 — m2

 

 

 

X

 

J P ^ O W ) dP

 

 

0

 

X Vn (М-плР) e ^ 0] e PdFo [Nacos (ncp) +

sin (ncp)]. (1.74)

При рассмотрении выражения (1.74) можно сделать все те же выводы, что и для температурного поля валка без внутреннего ох­ лаждения. Отличие заключается в следующем:

1. Осесимметричная составляющая представляет собой неуста­ новившееся температурное поле с температурами: на внешней по­ верхности Ѳ и на внутренней поверхности

2.Время неустановившегося процесса определяется также осе­ симметричным полем, но в этом случае оно зависит от рх = R J R q. Например, при рх = 0,2 Fo « 0,4, т. е. практически в два раза меньше времени неустановившегося процесса в сплошном цилиндре.

3.Неустановившийся процесс в неосесимметричной составляю­ щей поля также зависит от чисел Pd и Fo, но критерий Pd является

аргументом

комбинации функций

Іп { у i Pd) и К п І У i Pd). Интег­

ралы знаменателей Cok и Cnk в этом случае равны:

 

 

1

 

2 [dp (pQfr)

( W

l) ] .

 

 

J РѴІ (цоаР) Ф

 

 

•n'2tx0&^0 (tl0fe Pi)

 

 

 

о

 

 

 

 

IpV* (Fnfep) Ф

2 [Jl (Pnk)~j2n OW l)] _

 

 

 

nYnkJn (^nfePl)

 

 

Если Pd =

0, T. e. вращение

отсутствует,

то (1.74)

с учетом

(1.64) примет вид

 

 

 

 

 

 

 

Ѳ(р, ф, Fo) = y~ - p ln p + Ѳ—

 

 

 

 

 

ln I/Pi

 

 

 

03

1

9 — 0!

 

Fo(PofeP) Pdp

 

 

 

 

ln p -j- Ѳ — 90

 

 

 

 

ln 1/Pi

 

 

 

 

^F0+

 

 

 

 

 

Vo(Foftp)e

&=і

 

Jp^o (Po*P)dP

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

29



сю

 

сю

(р/£і)

(Pi/рL K;l(jinfep)pc/p

 

[ р

 

Pi

 

л —n

пП

x:

 

 

 

РГ'!-

р?

 

 

 

 

j Pv l(p,tkp)dp

 

п= 1

 

 

 

 

к = \

0

 

 

XV„(n„tp)e l‘nfcFo] [ ^ ncos(mp) + Mrtsm(/iq))].

(I.75>

На квазистационарном и стационарном режимах (при Fo

оо)

выражения (1.74) и (1.75)

упростятся,

ибо исчезнут решения А 0 (plf

р, Fo) и Ап (р!, р,

Fo).

 

 

 

 

Запишем выражения,

описывающие квазистационарный режим:

Ѳ(Р, ф) = т—т^Іпр + Ѳ — ln 1/Pj.

СО

I,XVi Pdp)

■Sп—\ • ' . О Л м )

и при Pd = О

Ѳ(Р> ф) = г т г 1

ІП 1/Рі

X „(K <Pdp)

7 . ) f r ( y ) w L . é «F .

+ M nsin (пф) ].

СО

S(P/Pl)n — (Рі/р)

1пр + ѳ

рГ " - рГ

Л=І

cos (Щ) +

(1.76)

X

X [M„cos(nop) + iWnsm(ncp)].

(1.77)

Для анализа неосесимметричной составляющей в решениях (1.74)

и(1.76) можно рассмотреть, как и в предыдущем случае, поведение модулей комплексных функций, т. е., если

_

/„(VTpdp)

_ KniVTpâp)

 

IniViPd)

Kn iVi Pd)

 

т1 тг

1тг \

/я (Ѵ 7рІр)

І'яД Kn (K iPdp)

 

/„(lA p d )

Kn { V iPd)

| mx | — | ;n2 |

то достаточно исследовать поведение модуля каждого сомножителя. Из теории Бесселевых функций известно, что модуль функции

Макдональда равен

I К п (vTPd) I = ]/~ker2 (]/Pd) + kei* (]/Pd) = da (j/P d ).

Необходимо подставить зависимости для модулей в (1.78) и иссле-

30


довать это выражение при изменении р. Эти исследования упро­

стятся, если

принять во

внимание, что при ]/HPd<5 d„(]/Pd) >

> dQ(l/~Pd),

а

при

l / P d > 5 d „ ( ' K P d ) « d o ( / P d ) « 0 .

 

При значениях

аргумента

] / P d > 4

функции

Кельвина 2-го

рода можно рассчитать по асимптотическим формулам

 

 

кя ( т

=

і

j / =

^

-

- ^

- c

o

s ( m

+

j L

) ;

, , 79)

 

 

 

/

^

е

-

^

Ц

Щ

+

f

) .

(,.80,

§ 4. Неосесимметричная составляющая температурного поля валка

Как уже отмечалось, метод Г. А. Гринберга позволил получить решения дифференциального уравнения (1.2) радиального темпера­ турного поля валка (1.48) и (1.74), которые состоят из осесиммет­ ричной и неосесимметричной составляющих этих полей и зависят

от ряда аргументов, в том числе У Pd р, т. е.

где Рс1г = со0г2/а (г — текущий радиус). В общем случае R ±

или 0 < г < /? 0-

С уменьшением р при ]/P d = const неосесимметричная состав­ ляющая поля затухает и при расстоянии от поверхности б (р = рб) становится пренебрежимо малой. При р<Рб можно считать, что

поле только осесимметричное. Чем больше аргумент У Pd, т. е. чем больше, при прочих равных условиях, скорость вращения валка, тем ближе р0 к единице.

На рис. 3 приведены графики, показывающие изменение модуля

выражения (1.53) от аргумента ]/Pd- р = У Р й г. Принято, что неосесимметричная составляющая исчезает, еслң модуль (1.53) равен 0,01. Можно с любой степенью точности определить эту ве­

личину.

 

 

По оси

абсцисс этих графиков отложено значение

Pd^ =

= a 0Rl/a,

а по оси ординат рб = r6/R0.

 

В связи с тем, что на существующих станах значение

Pd^ мо­

жет меняться в широких пределах, по оси абсцисс приведены три шкалы и соответствующие им три кривые.

 

Например, а = 45-ІО-3 м2/ч; R a = 0,3

м; со01

= 3,14 рад/с; со02 =

=

31,4 рад/с. Тогда: 1) Pd^ = соОІР 2/а «

23800; 2) Pd^ =

со02Rjj/a ä ;

ä ;238000. Следовательно, Р б1= 0,95-0,3 = 0,285

м; R 6»=

0,99-0,3=

=

0,297 м.

 

 

 

3t


Влиянием внутреннего отверстия на глубину затухания неосе­ симметричной составляющей практически можно пренебречь, так как если с определенной степенью точности принято, что неосесим­ метричная составляющая затухает на глубине, меньшей, чем внут­ реннее отверстие, т. е. Рб>Рі, и

/„ (іЛ -PdpJ /fi(K»PdpJ

/„ (VTpd)

/„ (VTpd)

»I

In ( / Т О

0, 01;

Рис. 3. Зависимость — от PdD при

R0

!n V ^ R 0

 

то числитель выражения (1.78) равен нулю, ибо

т2 Іп

= 0.

i n i V i Pd)

 

Обычно на станах рх не превышает 0,1 — 0,3, а при этих значе­ ниях рб соответствует весьма малым скоростям вращения валка.

Рассмотрим качественную картину неосесимметричной состав­ ляющей радиальнрго температурного поля, построив его для боль­ ших значений Pd^ , имеющих место на действующих станах горя­

чей прокатки листа. В этом случае, как было отмечено выше, ко­ лебания температурного поля в пределах одного оборота затухают на небольшой (3—5 мм) глубине от поверхности. Для построения и анализа такого поля воспользуемся не полученным решением уравнения теплопроводности, а методом электротепловой аналогии, который в данном случае позволит упростить исследования.

32

Шичков .Н .А 3

Рис. 4. Квазистационарное поле поверхностного слоя валка при tpx = азах = 4°; ф2 = Ф* = 6°: wo = 25,12

33

34

Pd. s =5,03

Рис. 5. Квазистационарное поле поверхностного слоя валка при

= азах = 8°; ср2 = 35°; <р4 = 30°; (о0 = 3,14