Файл: Курносов, А. И. Технология производства полупроводниковых приборов учеб. пособие.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 14.10.2024

Просмотров: 122

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

водниковых кристаллов с р-я-переходами на металлической ленте с последующей герметизацией пластмассой.

Данная технология дает возможность механизации и автомати­ зации процессов сборки и герметизации приборов, изготовляемых ранее по планарной технологии: транзисторов, импульсных диодов, варикапов, стабилитронов, выпрямительных диодов, тиристоров.

Основным элементом конструкции с пластмассовым корпусом является металлическая лента. На рис. 10.5 представлены профили металлических лент, используемых для сборки и герметизации дио­ дов и транзисторов. Для расчета конструкции профиля металличе­ ской ленты необходимо исходить из размера планарной структуры

 

 

 

 

 

кристалла с р-я-перехода-

 

 

 

 

 

ми,

тепловых

характери­

 

 

 

 

 

стик прибора, возможно­

 

 

 

 

 

сти

монтажа

 

готового

 

 

 

 

 

прибора на печатную пла­

 

 

 

 

 

ту

электронной

схемы,

 

 

 

 

 

максимальной

прочности

 

 

 

 

 

на отрыв выводов от кор­

 

 

 

 

 

пуса, простоты конструк­

 

 

 

 

 

ции.

и

экономии

мате­

 

 

 

 

 

риала.

 

 

 

схе­

 

 

 

 

 

Технологическая

 

 

 

 

 

ма

изготовления

прибора

 

 

 

 

 

в пластмассовом

корпусе

 

 

 

 

 

(рис. 10.6) включает в се­

 

 

 

 

 

бя все процессы стандарт­

Р и с.

10.5.

Р а зл и ч н ы е п р о ф и л и м е т а л л и ч е ­

ной

планарной

техноло­

гии,

кроме сборки

кри­

 

ск и х

л ен т

д л я сб о р к и

п р и б о р о в :

а — транзисторов;

б —диодов:

/ — металлическая

сталлов

с р-я-переходами

лента;

2 — полупроводниковыЛ кристалл; 3 — золо­

и герметизации

готовой

 

 

 

тая проволока

 

 

 

 

 

 

конструкции.

 

 

 

Присоединение кристалла кремния с р-я-переходом к металли­ ческой ленте осуществляют с помощью сплава эвтектического со­ става (сплавления золота с кремнием). Поскольку процесс сплав­ ления золота с кремнием является неравновесным, то количество кремния, растворившегося в золоте, зависит от времени процесса сплавления при заданной температуре, а количество жидкой фазы сплава золото — кремний от максимальной температуры процесса сплавления. Качество присоединения кристалла кремния к метал­ лической ленте зависит от трех основных факторов: времени, тем­

пературы сплавления и величины усилия прижатия

кристалла

к ленте. Наличие большого количества жидкой фазы

золото —

кремний приводит к вытеканию ее из-под кристалла кремния к его периферии. Это обусловливает образование механических напря­ жений, трещин и раковин в структуре кристалла кремния при за­ твердевании жидкой фазы сплава золото — кремний, что снижает механическую прочность сплавной структуры и ухудшает электри­ ческие параметры прибора.

300


кристалл , Лента
а1
Лента

При минимальных значениях времени, температуры и силы при­ жатия кристалла к ленте сплавление золота с кремнием происхо­ дит лишь в отдельных точках поверхности, вследствие чего на со­ бранной структуре может возрасти пря­ мое падение напряжения.

Металлическую ленту изготавливают из латуни, меди, молибдена, стали, ни­ келя. Наибольшее распространение полу­ чила лента из ковара, покрытая слоем ни­ келя и имеющая полоску, плакированную золотом, шириной 1,5—2 мм.

Впроцессе присоединения кристаллов

ср-ц-переходами к ленте осуществляют перемотку ленты с одного барабана на Другой.

Путем термокомпрессионной сварки выводы из золотой проволоки диаметром 30—50 мкм присоединяют к позолочен­ ным поверхностям кремния и коваровой ленты.

Режим термокомпрессионного процес­ са можно выбрать'следующим: темпера­ тура верхнего нагревателя 600—700° С; нижнего нагревателя не выше 250° С; время процесса 2,5 сек, сила прижатия Деталей друг к другу 4 -107 н/м2. Опти­ мальный режим термокомпрессионной сварки обычно выбирают с учетом мак­ симальной механической прочности со­

единения вывода с кристаллом и метал­

е)

 

 

 

 

 

 

лической лентой и сохранения электриче­

 

 

 

 

 

 

ских параметров прибора.

на

ленте

 

 

 

 

 

 

 

Герметизацию

собранных

Р и с .

10.6.

 

Т е х н о л о ги ч е ­

кристаллов с р-п-переходами можно осу­

 

ск а я с х е м а сб о р к и п р и б о ­

ществлять двумя

методами:

заливкой

ров

в

 

п л а ст м а с со в ы х

в силиконовые формы и литьем под дав­

 

к о р п у са х :

 

лением (трансферным литьем).

 

а — присоединение

кристал­

Герметизацию методом заливки раз­

ла к

ленте;

б — присоедине­

ние

золотой

проволоки к

личных компаундов в силиконовые

фор­

кристаллу

и

ленте;

в — об­

мы широко применяют в производстве

резка ленты со стороны кри­

сталлов;

 

г — герметизация

транзисторов

и

диодов.

Планарные

р-л-переходов

пластмассой;

д— готовые

 

пластмассовые

структуры, размещенные на металличе­

корпусы

на

ленте;

е — об­

резка

ленты

и

отделение

ской ленте, опускают в специальные фор­

приборов

друг

от

друга

мы из силиконовой резины, заполненные

 

 

 

 

 

 

 

компаундом.

Металлическую ленту

раз­

 

 

 

 

 

 

 

резают на части, каждая из которых со­ держит 20 планарных элементов. Эту часть ленты крепят с по­

мощью пружин в специальное приспособление, которое соединяет­ ся с заливочной формой направляющими штифтами. После затвер­

301


девания пластмассы готовые приборы извлекают из формы и подвергают термической обработке. Основные технологические операции данного процесса герметизации приведены на рис. 10.6. Заливку компаунда в силиконовые формы производят с помощью шприца.

При герметизации путем трансферного литья герметизируемую ленту с кристаллами укладывают в пресс-форму, имеющую систе­ му каналов (литников) и загрузочную камеру для пресс-материала. Преес-форму помещают между двумя плитами-нагревателями двухходового гидравлического пресса. При работе гидравлического пресса происходит смыкание двух половин пресс-формы и выдав­ ливание пресс-материала, перешедшего под действием температуры и давления в вязкотягучее состояние, через матричные отверстия пресс-формы в рабочую зону. Пресс-материал заполняет рабочую зону и тем самым полностью обволакивает герметизируемую ленту с кристаллами. После снятия давления и охлаждения пресс-формы пресс-материал затвердевает и принимает форму матричного рабо­ чего объема. В одной пресс-форме может содержаться до несколь­ ких сот приборов.

Этот метод обладает высокой производительностью и позволяет спрессовывать изделия при низких удельных давлениях от 5-105

до 5 -106 н/м2.

ГЛАВА ОДИННАДЦАТАЯ

КОНСТРУКТИВНОЕ ОФОРМЛЕНИЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ

§ 11Л. Назначение корпусов и теплоотвод в них

Н а з н а ч е н и е к о р п у с а

Как уже отмечалось, кристалл полупроводника с выпрямляю­ щими и омическими контактами, покрытый лаком, эмалью или ка­ ким-либо иным защитным покрытием, помещают в жесткий корпус. Корпус полупроводникового прибора, являясь надежной защитной оболочкой, предохраняет кристалл от механических воз­ действий и от влияния окружающей среды. Он препятствует кон­ денсации на поверхности кристалла влаги, предотвращает попада­ ние микро- и макрозагрязнений н доступ световых лучей, служит экраном от электромагнитных помех, обеспечивает отвод тепла, выделяемого в кристалле.

К корпусу полупроводникового прибора предъявляют высокие требования по обеспечению механической стойкости и герметично­ сти при ударах, вибрациях, ускорениях, циклическом воздействии повышенных и пониженных температур, а также в условиях тро­ пической влажности, холода и космической радиации.

Т е п л о о т в о д в к о р п у с а х

Прохождение тока через полупроводниковый прибор сопровож­ дается его нагревом. В общем случае все тепло выделяется в ^-«-переходе.

Предельной мощностью рассеяния полупроводникового прибора называют такое значение подводимой к нему мощности, которое не приводит к выходу прибора из строя и не ухудшает его пара­ метров в течение всего срока службы.

При изготовлении полупроводниковых приборов важно обеспе­ чить наилучший отвод тепла, чтобы температура р-п-перехода как можно меньше отличалась от температуры окружающей среды.

Известны три механизма теплоотвода: теплопроводность, излу­ чение, конвекция. Весьма существенным является площадь поверх­ ности, через которую проходит тепловой поток. С увеличением этой

площади рассеяние тепла увеличивается. Поэтому для

повышения

мощности

прибора

увеличивают размеры кристаллодержателя

и корпуса.

Кроме

того, применяют теплоотводящие

радиаторы

303


в виде алюминиевой или медной платы определенной толщины и площади, на которую крепится прибор.

Основная роль в отводе тепла от р-я-перехода принадлежит теплопроводности, так как конвекция под корпусом прибора весьма мала, а поверхность радиации перехода — это очень узкая область.

Подводимая к прибору мощность Р приводит к перегреву /7-п-переходов относительно окружающей среды на температуру

где Тп — температура р-я-перехода; Т0кр— температура окружаю­ щей среды.

Эти две величины связаны между собой коэффициентом про­ порциональности, называемым тепловым сопротивлением:

R T, град/вт = АТ,Р.

Тепловое сопротивление складывается из сопротивлений тепло­ вому потоку отдельных теплоотводящих элементов конструкции — выводов, кристаллодержателя, радиатора и т. д. Поэтому при про­ ектировании прибора можно определить его предельную мощность рассеяния.

Тепловое сопротивление обратно пропорционально теплопровод­ ности материала и сечению выводов и прямо пропорционально длине участка теплоотвода. При последовательном соединении эле­ ментов конструкции

п

где / ; —длина участка теплоотвода; 5, — площадь теплоотводя­ щего участка; hi— теплопроводность.

В табл. 11.1 даны значения теплопроводности некоторых метал­ лов, используемых при изготовлении полупроводниковых приборов.

Важным параметром является также тепловая постоянная вре­ мени т, характеризующая скорость установления теплового равно­ весия. Эта же постоянная определяет скорость охлаждения при снятии мощности.

Изменение температуры при нагреве

при охлаждении

t

где Т0— начальная температура прибора; t — время.

304


Т а б л и ц а 11.1

Теплопроводность основных металлов и Ш

 

Материал

X, кал1(смх

ГЛ'МО»,

 

Х сек-гр а д )

:р а д ~ 1

 

 

С е р е б р о

..........................................................................

1,0

19,3

М ед ь ..........................................................................

 

0,92

16,5

З о л о т о ..........................................................................

 

0,74

14,3

В о л ь ф р а м .............................................................

 

0,4

4,4

М о л и б д ен ...................................................................

 

0,35

5,5

К р ем н и й ...................................................................

 

0,2

4,15

Г ер м а н и й ...................................................................

 

0,14

6,65

О л о в о ..........................................................................

 

0,15

1,7

Ж е л е з о ...................................................................

 

0,14

0,4

Н и к ел ь ...................................................................

 

0,14

1,3

С в и н ец ...................................................................

 

0,08

2,93

Ц и н к .................................................................................

 

0,06

0,8

При описании установления теплового равновесия используют не менее двух постоянных времени: тп — для характеристик про­ цесса установления равновесия между р-п-переходов и корпусом; токр —установления равновесия между корпусом и окружающей средой. Если т„ имеет порядок не более миллисекунды, то т0Кр может достигать нескольких минут.

Тепловые потери за счет излучения определяются разницей тем­ ператур между излучающим и поглощающим телами и излуча­ тельной способностью обоих тел.

Мощность теплового потока в этом случае

[(7’ит/100)-* —

где Я0 = 5,7-10-4 вг/ (градсм) — постоянная излучения абсолютно черного тела;

1] — излучательная способность (0 <

Т1ГГ— температура излучающего тела; Тпт— температура поглощающего тела.

Излучательная способность зависит от свойств поверхности из­ лучателя и для матовой, черной поверхности

Излучательная способность основных материалов

Полированный алю м иний .....................................................

0,04

Прокатанная м е д ь ...................................................................

0,06

Полированная медь ...................................................................

0,03

20

3897

305