Файл: Кристаллизация тугоплавких металлов из газовой фазы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 17.10.2024

Просмотров: 77

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

анализ вольфрамовых поверхностей показал, что при травлении возникает большое число участков, ориентированных в направ­ лении [110]. Результаты этих исследований приведены в табл. 5.25.

Таким образом, хотя химическое травление и приводит к не­ которому увеличению работы выхода, эффект практически ни­

велируется в результате после­

 

 

Т а б л и ц а

5.25

дующей термообработки, ве­

 

 

дущей

к сглаживанию поверх­

Влияние обработки поверхности на

ности.

При

травлении

 

выяв--

работу выхода кристаллов вольфрама

ляются большие и малые эле­

 

 

Работа выхода, э в

менты

структуры, причем их

Материал

поли­

травле­

термо­

соотношение

различно

на раз­

 

 

обра­

личных

поверхностях

[236].

 

 

ровка

ние

ботка

 

 

 

 

 

В

процессе

 

термообработки

W (111) . . .

4,48

4,85

4,50

малые элементы сглаживаются

W (100) . . .

быстрее, поэтому поверхность,

4,54

4,80

5,42

W поликристал-

4,57

4,75

4,59

содержащая

 

такие структур­

лический . .

ные

элементы,

будет

 

иметь

W из газовой

 

 

 

относительно

стабильную

ра­

фазы . . . .

4,50

4,68

4,59

боту выхода. Процесс сглажи­

некоторую

функцию

f =

вания

можно

учесть,

введя

= ^ехр[—Q /(/?r)], где

t — время; Q — энергия

активации

про­

цесса;

Т — температура.

Тогда

функции

<р =

= T{log[/ехр(—Q/RT)]}

могут оказаться

полезными

для прак­

тических целей предсказания времени жизни эмиттеров и др. Однако целесообразность применения этой функции для харак­ теристики результатов термообработки пока не доказана.

В работах [369, 370] были изучены три типа обработки по­ верхности вольфрамовых эмиттеров, полученных вдородным восстановлением его гексафторида и гексахлорида: 1) терми­ ческое травление в вакууме 10~7—ІО-8 мм рт. ст. при темпера­

туре 2073—2673° К в течение 6 ч; 2)

химическое

травление в

растворе:

100 частей КзРе(СМ)б + 5

частей NaOH + 95 частей

НгО; 3)

электрохимическое

травление в 10%-ном водном ра­

створе NaOH при различной

плотности тока р.

Результаты

представлены в табл. 5.26. Из приведенных данных следует, что термическая обработка не влияет на работы выхода эмиттеров.

Химическое и электрохимическое травление фторидных

вольфрамовых

эмиттеров,

имеющих

текстуру [100]г увеличи­

вает влияние

термической

обработки

поверхности на

работу

фторидных вольфрамовых

эмиттеров

на несколько

десятых

электрон-вольта, однако последующая термообработка при

температуре

2673° К полностью

устраняет

этот

эффект

(см.

табл.

5.26).

Хлоридные вольфрамовые эмиттеры

с текстурой

[110],

подвергнутые

химической

и

электрохимической

обра­

ботке,

имеют более

низкую работу

выхода,

чем до обработки.

Последующая термообработка может как несколько увеличить,

239



Работа выхо­ да исходного образца, з в

Т а б л и ц а 5.26

Влияние обработки поверхности на работу выхода фторидных и хлоридных вольфрамовых эмиттеров

 

­

 

Работавыхо­

­

мообработки,

 

Вид травления

Работавыхо­ последа тра ,вленияэ в

Параметры последующей

последа тер

вэ

 

термообработки

 

 

 

 

 

 

Фторидные вольфрамовые эмиттеры

 

4,58

Термическое

 

 

 

4,52

2073°К,

600

ч

4,52

4,50

Электрохимическое б тече-

 

 

 

 

 

 

ние

30

мин,

 

р =

4,72

Несколько

часов

при

 

= 61

ма'см2

 

 

4,52

Электрохимическое

в

те-

 

2053—2673°К

4,50

 

 

 

 

 

 

чение

10

мин,

 

р =

4,64

2073°К,

196 ч

4,58

4,51

= 183 ма:'см2

в

те-

Электрохимическое

 

 

 

 

 

 

чение

30

мин,

р =

4,73

2073К,

196 ч

4,59

4,52

-- 61 ма 'см2

 

 

Химическое в течение 2 ч

4,67

6 ч при

2273 — 2673 °К

4,50

То же

 

 

 

 

4,76

через 200°

 

4,54

 

 

 

 

2073 °К,

1000 ч

4,62

 

 

Хлоридные вольфрамовые эмиттеры

 

5,01

Термическое

 

в

те­

5,01

2073°К, 1040 ч

 

5,05

Электрохимическое

4,89

2173°К, 8 ч

 

 

чение

30

мин,

р =

 

2273°К, 16 ч

 

 

= 51

ма!см2

 

 

 

2473°К, 16 ч

 

4,93

Химическое в течение

15

4,85

2673°К, 9 ч

 

2673°К, 7 ч

 

мин

так и уменьшить работу выхода (см. табл. 5.26). Таким обра­ зом, результаты, полученные различными исследователями, по­ казывают, что химическая и электрохимическая обработка по­ верхности эмиттеров не является эффективным средством уве­ личения работы выхода при рабочей температуре преобразова­

теля

выше 1800° С. Чтобы

выяснить, приведет ли такая обра­

ботка

к положительному

результату при температуре ниже

1800° С, необходимы дальнейшие исследования. Наилучшим спо­ собом для стабилизации катодных поверхностей, работающих при 1800° С, и воспроизводимости эмиссионных характеристик (370) является термообработка в вакууме при 2400° С.

Дальнейшее развитие работ по улучшению эмиссионных ха­ рактеристик катода, вероятно, должно происходить в направ­ лении изучения условий осаждения, при которых получаются поверхности WF5 и \ѴС15 с текстурой [110] высокой степени со­ вершенства.

240


Глав а 6

ПОЛУЧЕНИЕ СПЛАВОВ

ПОЛУЧЕНИЕ СПЛАВОВ ПРИ РАЗЛОЖЕНИИ КАРБОНИЛОВ И ПРИ ВОДОРОДНОМ ВОССТАНОВЛЕНИИ ХЛОРИДОВ МЕТАЛЛОВ

На возможность получения молибден-вольфрамовых спла­ вов методом осаждения из газовой фазы указывал еще Лендер в 1947 г. [304]. Он получал сплавы Мо—W путем совместного осаждения молибдена и вольфрама из карбонилов этих метал­ лов. Подача паров карбонилов осуществлялась из одного испа­ рителя, в который помещалась смесь карбонилов. Лендер полу­ чил сплав молибдена с 18—19 ат. % W. По его данным, сплав имел очень низкое содержание углерода, но твердость его была

гораздо выше, чем у чистого молибдена,

полученного таким

же методом. В работе [109] исследовалось

получение сплавов

тугоплавких металлов путем совместного водородного восста­ новления их хлоридов. Этим способом были получены сплавы Мо—W, Мо—Nb, W—Nb. Описание установок для получения сплавов приведено в гл. 3. Хлориды металлов предварительно очищали от примесей двойной дистилляцией в вакууме. Очист­ ка водорода производилась пропусканием его вначале над по­ верхностью нагретой медной стружки, а затем через ловушку с жидким азотом. Схемы очистки водорода рассмотрены также в гл. 3. Осаждение сплавов проводили на молибденовую подлож­ ку, нагреваемую прямым пропусканием электрического тока до температуры 800—1500° С и при давлении 10—20 мм рт. ст. в системе. Температура испарителей хлоридов молибдена, воль­ фрама и ниобия изменялась от 130 до 200° С.

Были исследованы зависимости скорости осаждения и кон­ центрации сплавов, их плотности, микротвердости и характера поверхности от различных параметров (температуры, давления пара и т. д.).

Установлено, что на скорость роста слоев сплавов значи­ тельное влияние оказывает температура подложки. На кривой температурной зависимости скорости осаждения (рис. 6.1) су­ ществует максимум, положение которого различно для разных сплавов. Так, например, у сплавов Мо—W максимальная ско­ рость осаждения 1,2 мкм/мин наблюдается при 1100° С, у спла­ вов Mo—Nb — 2,25 мкм/мин при 1200° С, у сплавов W—N b— 2,5 мкм/мин при 1300° С. Дальнейшее увеличение температуры поверхности осаждения приводит к уменьшению скорости роста

241


осадка вследствие развития гомогенной реакции (см. гл. 4 и 5). Изменение в определенных пределах соотношения парциаль­ ных давлений соединений компонентов сплава при постоянном общем давлении практически не отражается на скорости роста

слоя сплава.

показывают,

что однофазные

сплавы

обра­

Исследования

зуются во всем интервале температур от 800 до

1500° С. Состав

сплава является

однородным

по

толщине осаждаемого

слоя,

2,5

 

 

V\

 

 

* 2,0

 

\~Т—V ---- 1-----

 

 

I

 

1/

\

 

 

 

/ ( ) /

\

 

 

*1,5

§

 

 

 

 

V

 

5:

 

 

 

л

 

сц

 

 

 

 

*

 

 

 

V

\

 

§

1,0

 

 

 

о

 

 

 

X

 

 

§

 

 

 

 

 

 

£

0,5

 

 

 

 

 

 

700

зоо

т о

1300

woo

 

 

Температура подножки, °С

 

 

Р ис. 6.1.

Температурная

зависимость

скорости

 

 

осаждения сплавов:

 

 

 

1 — Мо—50% W;

2 — Мо—75% Nb; 3 — W—75

вес.% Nb.

это подтверждает совпадение данных химического, рентгено­ структурного и локального спектрального анализов. На состав сплавов температура подложки влияет слабо. В сплавах Мо—W это влияние вообще не наблюдается, а состав сплавов Мо—Nb

иW—Nb зависит от температуры подложки в том случае, если она ниже 800° С или выше 1400° С.

Основное влияние на состав сплавов оказывает соотноше­ ние парциальных давлений хлоридов металлов.

Исследования зависимости состава сплавов Мо—W, Мо—Nb

иW—Nb от соотношения концентраций хлоридов металлов (при температуре подложки 1100° С) показали возможность по­

лучения этих сплавов любого состава путем изменения темпе­ ратуры испарителя хлоридов.

242