Файл: Макогон, Ю. Ф. Гидраты природных газов.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 21.10.2024

Просмотров: 98

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

кристаллов (я,é) в газовой среде

Рис. 42. Развитие шіекерных

73

I Â/c). Другие исследования показали максимальную скорость роста нитевидных кристаллов 593 Â/c. Скорость роста нитевидных кристаллов КВ, из растворов [4] составила около 5000 Â/c.

Наши исследования показали, что осевая скорость роста Броке­ ров как в газовой среде, так и в объеме воды для газов различного состава за период инкубации кристаллов находилась в пределах

500-10600 Â/c.

На рис. 42, а—е показана серия промежуточных снимков раз­ вития колонии впскеров, образованной природным газом в газовой среде при Т = 274° К и р = 96 кгс/см2. Зарождение гидрата про­ изошло на поверхности камеры при наличии пленки воды, сконден­ сировавшейся из газа в горизонтальной цилиндрической камере диаметром 60 мм и длиной 250 мм. При этом половина камеры была заполнена водой. Одновременно с зарождением гидрата па стенках камеры гидрат образовался на свободной поверхности контакта газ — вода, изолировав таким образом газовую среду от жидкой воды. Как видно из рис. 42, гидрат развивался веерообразно с одной фиксированной точкой, вокруг которой шел разворот образующейся

колонии кристаллов.

На приведенных фотографиях видно секционное строение кри­ сталлогидрата; видно, что величина вышележащих секций остается постоянной при развитии кристалла. Это совершенно четко доказы­ вает впскерный рост, когда питательное вещество (вода, газ) посту­

пают

к основанию кристалла.

В

ночное, неосвещенное время образовались темные полосы на

колонии кристаллов (т. е. их двойникование, когда, вероятно, шло формирование гидрата иной структуры, чем во время освещен­ ного периода). Следует отметить, что специальных исследований влияния световых волн на процесс формирования гидрата, на его структуру и состав нами не проводилось, хотя это представляет

определенный интерес. Первая

секция

колонии

сформировалась

в течение десяти освещенных часов; вторая — в

течение 22 ч, из

которых девять неосвещенных;

третья

секция — в

течение 26 ч,

II из которых были неосвещенными. Таким образом,

можно сделать

предварительный вывод: несмотря на значительную разницу ампли­ туды световых волн и размеров элементарных решеток гидрата, имеется определенное активизирующее влияние световых волн на процесс гидратообразования газов.

В данной серии экспериментов использовался природный газ следующего состава.

Компонент

Содержа­

 

ние, %

 

об.

СІ-І4

94

,2

С2Н6

3

,5

С зН 8

1.3

С4 И 10

0

,5

No+

0,2

c ö 2

0,3

74


Определение скорости образования газовых гидратов

Скорость образования и накопления гидратов необходимо знать при определении условий закупорки призабойной зоны пласта н скважин, газопроводов и аппаратов, при определении параметров для получения гидратов газов.

Скорость образования гидратов определяется термодинамиче­ скими условиями формирования гидратов, составом исходного газа и типом кристаллизации. Процесс образования газовых гидратов состоит из двух характерных стадий. Первая стадия начинается с образования зародышей кристаллизации на свободной поверхности воды (рис. 43, а—в). Вокруг зародышей кристаллизации происходит интенсивный рост поверхностно-пленочного гидрата до полного перекрытия свободной поверхности воды. Вторая стадия характе­ ризуется объемио-диффузиоипым образованием гидрата, когда гидратообразователь диффундирует к поверхности гидратообразоваиия из газового потока или через гидрат, образовавшийся па контакте газ — вода. При отсутствии жидкой воды в период формирования зародышей процесс кристаллизации гидрата, минуя стадию поверх­ ностно-пленочного образования, сразу становится объемно-диффу­ зионным.

Скорость образования формирования гидратиой пленки на сво­ бодной поверхности раздела газ — вода определяется скоростью формирования зародышей кристаллизации J и радиальной скоростью роста гидрата вокруг зародышей ѵГ. Скорость формирования заро­ дышей кристаллизации на свободной поверхности контакта газ — вода для метана может быть получена по рис. 44.

Скорость образования зародышей кристаллизации с повышением молекулярного веса газа-гидратообразователя и давления, с ростом переохлаждения увеличивается. Скорость формирования зародышей кристаллизации возрастает в результате депрессии химических потенциалов воды. Однако скорость образования зародышей, с пере­ охлаждением достигнув максимума, понижается, что можно объяснить повышением числа молекул в кластерах, укрупнением роев класте­ ров, возрастанием их жесткости и вязкости воды и затрудненным проникновением молекул газа в сформировавшиеся кластерные ячейки.

Радиальная скорость образования гидратной пленки на свобод­ ной поверхности контакта газ — вода определяется составом гидратообразователя, структурным состоянием воды, давлением, темпе­ ратурой и степенью переохлаждения.

На рис. 45 приведены экспериментально полученные кривые зависимости изменения радиальной скорости поверхностно-контакт­ ного роста гидрата метана и этана ѵг от давления р и степени пере­ охлаждения А t.

Зная скорость образования зародышей кристаллизации / и ра­ диальную скорость роста поверхностно-пленочного гидрата ѵг,

75


76

кристаллизации метана па поверхности контакта газ — вода

Рис. 44. Скорость обра-

.чопаішя центров кри­ сталлизации гидрата ме­ тана иа поверхности свободной воды.

1'Г,МУ/С

Рис. 45. Зависимость радиальной скорости поверхностно-контакт­ ного роста гидрата (а) метана п (б) этана от переохлаждения

П,мм
Рве. -'іб. Осевая скорость объемно-диффу­ зионного роста гпдратов

можно определить величину образовавшейся гидратиой пленки F за время т нз выражения:

F — пѵііт. (II. 4)

Из рис. 46 хорошо видно различие линейной скорости объемнодиффузионного образования гидратов различных газов (кривые 17).

Если радиальная скорость образования гидратиой пленки па поверхности свободного контакта газ — вода остается постоянной при неизменных термодинамических условиях процесса, то в ана­ логичных условиях линейная скорость объемно-диффузионного роста гидрата в начальный период возрастает, а достигая опре­ деленной величины, экспо­ ненциально замедляется.

Иногда объемно-диффузион­ ный рост одного или группы кристаллов гидрата прекра­ щается полностью и начи­ нается формирование кри­ сталлов на других затравках.

Массовая скорость образо­ вания объемно-диффузион­ ных кристаллогидратов во времени значительно замед­ ляется. Это можно объяс­ нить понижением трансля­ ционного подтока гидрато-

образователя через монолитную гпдратную пленку на поверхности раздела газ — вода (при образовании гидрата в газовой фазе — моле­ кул воды, а при образовании гидрата в объеме воды — молекул газа). Пленка гидрата со стороны воды впешие остается первоз­

данной, а со стороны газовой

фазы

обрастает наростами различ­

ной формы: бисерными иголками,

кустообразными разветвле­

ниями, спиральными

лучами,

сплошными иаростообразованиями

и т. д.

гидрата

при

объемно-диффузионном образо­

Задача накопления

вании на плоской поверхности гидрата может быть решена следу­ ющим образом. Массовая скорость диффузии воды М шчерез плоскую гидратную пленку толщиной h и с поверхностью F может быть определена из выражения:

MW= DWJ ^ L , (II.5)

где Dw — коэффициент диффузии воды через пленку гидрата. Экспе­ риментально определенная величина Dw для гидрата метана соста­ вила 5 (10"6 -г 10-8) см2/с (для природного газа относительной плотности 0,6, Dw = 1 -10_6 см2/с); Д/ — разность летучести паров

78


воды над жидкостью и гидратом; рш— плотность воды в гпдратпом состоянии, рш = (0,792 -f- 0,757).

Зная массовое содержание воды в образующихся гидратах,, взяв производную по времени и продифференцировав полученное

выражение, получим

 

/г = | / і ^ Ѵ Х;

' (П.о)

где т — время образования гидрата; п — массовое

соотношение

воды и газа в образующемся гидрате.

Аналогичную задачу можно решить и для сферически радиаль­ ного тела. Представим, что в неограниченный объем воды вводятся пузырьки газа. По мере всплывания этих пузырьков на сферической их поверхности образуется и наращивается пленка гидрата.

Рассмотрим в простейшей постановке задачу определения ско­ рости накопления гидратов при переходе пузырьков газа, находя­ щегося в объеме воды, в гидратное состояние в условиях объемнодиффузионного роста, когда VG — Ѵы, т. е. давление процесса соответствует величине, при которой удельный объем свободного газа равен удельному объему образующегося гидрата. Давление и температура неизменны. Выразим массовую скорость подтока воды, диффундирующей через пленку гидрата, следующим образом.

 

MW= D

 

х рю,

 

 

(II-7)

 

 

 

гн

rw

 

 

 

где гн — внутренний

радиус

гидратного

пузырька

па

контакте

с

газом; rw — внешний

радиус

гидратного

пузырька

иа

контакте

с

водой.

 

 

 

 

 

условиях,

 

Масса газа, содержащегося в пузырьке в начальных

будет:

Мс=§ § ,

 

 

 

 

 

 

 

(II.8).

где р — давление в пузырьке; г0 — начальный радиус пузырька.

4 я д г І!

M lG 3zRT

Изменение массы газа будет:

Ш г .

4 л A f l ( r j j — r 3G )

ЗгRT

 

Массовое соотношение воды и газа в гидрате определяется как

11 = Gw

-G '

Обозначим

М„

dGw

dx '

 

7S>


где т — время. Тогда получим

 

dCG -

d(AMG)

М ш= п ■ dx

dx ■

Решив уравнения (II.7), (И.8) и (II.9) совместно, будем иметь

D = •

А/

Р’Ъ d rH

_1_

zRT dx

 

 

' I I Гw

 

Разделим переменные в последнем уравнении н возьмем интеграл. Для простоты расчета примем: r 0 с^гт. Решив полученный резуль­ тат относительно времепп, найдем:

Р'І'І

( л _

3 , я

GDAfzRT

\

г%

2'я '

'О

Аналогично при ограинчешш гидратообразования только тепло­ проводностью, пмеем

ргрк

3/-I I

2'Я

Ьк AtzRT

 

 

где к — скрытая теплота гидратообразования; к — коэффициент теплопроводности гидратов, который зависит от состава гидрата (для гидрата метана к ~ 4,8• 10"3 кал/см-с-град); Аt — средняя разность температуры.

По соотношению

X

__

п к А і

1 7

=

D A ß

можно оценить влияние диффузии и теплопроводности на скорость образования гидратов. Сравнение полученных результатов пока­ зало, что время на полное образование гидрата весьма мало по сравне­ нию с ограничением диффузией. Это говорит о том, что в рассматри­ ваемых задачах определяющую роль играет диффузия.

§ 5. Виды кристаллогидратов газов

Морфология (форма роста) кристаллогидратов газов весьма разнообразна. Форма образующихся гидратов газов зависит прежде всего от состава газа и формы молекул газа. При исследовании іформ роста гидратов отснято несколько тысяч кадров различных видов кристаллогидратов отдельных газов и их смесей, выращивае­ мых при различных термодинамических условиях. В даніюаі разделе приведены отдельные наиболее характерные для данного газа виды кристаллогидратов, а также дано краткое описание условий их образования.

Общая закономерность заключается в следующем. Чем меньше молекулярный вес газа-гидратообразователя и ближе форма моле­ кулы к среде, теді жестче и прямолинейнее получаются кристаллы

80