Файл: Кремниевые планарные транзисторы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 244

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

 

Параметр гб представляет собой некоторое эффективное сопро­

тивление

для переменного базового

тока / б 7 П

ехр (/со/)

между ба­

зовыми контактными площадками и центром эмиттера.

 

Таким

образом, Гб включает в себя три последовательно

соединенных

сопротивления: K — контактное

сопротивление

между

базовой

металлизацией и кремнием, Г б ' п —

сопротивление

пассивной базы

(между краем эмиттера и ближайшим краем базовой

контактной

площадки), г б а — сопротивление активной базы

(между

центром

и краями эмиттера). Поскольку концентрация

примесей

на по­

верхности пассивной базы всегда поддерживается

достаточно

высо­

кой

(Nsœ

101 9 — 102 0 см - 3 ), то ширина

запирающего

слоя

 

между

металлом

(обычно AI) и кремнием

становится

чрезвычайно

малой

( «

50 — 100 А), и носители тока проходят через эти слои

почти

без сопротивления за счет туннельного

эффекта.

Поэтому гб 'к <

/"б'п +

і~ба и в результате имеем

 

 

 

 

 

 

 

 

Гб = Гбп+Гб

а-

 

 

 

(5.55)

Сопротивление пассивной базы г б 'п. очевидно, зависит только от геометрии пассивной базы и от концентрации примеси в ней. Если эмиттер состоит из N узких прямоугольных полос, ширина которых

/ э значительно

меньше длины

Z3(lJZa

< 0,1 — 0,2),

тогда г б п

находится весьма просто:

 

 

 

 

 

 

Л5л =

;

Ad

=

 

àdRsп

(5.56)

 

 

 

,

 

 

 

 

 

2NZa

ѵ

 

 

2NZB§

q\i

(x)N(x)dx

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

где Ad — расстояние

между

краем эмиттера и базовым

контактом

(см. рис. 4.1),

a R s

n =

9[x(x)iV(x)dx] 1

— поперечное

(или по-

 

 

о

 

 

 

 

 

верхностное) сопротивление пассивной базы, В реальных

приборах

обычно R s n «

200 — 600 Ом/квадрат. В

 

случае кругового эмит­

тера с радиусом R s и внутренним радиусом базового контакта R 6 ,

так что R 6

— R 3 =

Ad,

сопротивление rén находим

следующим

 

 

 

 

 

 

образом. Очевидно,

Г б П

=

§ dr6, где dr6

— сопротивление цилин-

дрического

слоя высотой

к , радиусом

основания г

и толщиной

стенок dr, и равное

 

 

 

 

 

 

,

 

 

dr

d r

 

 

dr6 =

хк

 

2лг R s n

 

 

 

 

 

 

 

2nr j

q\y, (x) N (x) dx

 

 

142


Следовательно,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

гб 'п = ^

Ч

п

^ .

 

(5.57а)

Но lnR5/R3

=

In (1 + Ad/Ra)

 

»

Ad/R3,

поскольку

всегда

< V 3 «

1.

Например,

в

приборах

КТ312, КТ602

Ra =

= 75 мкм, Ad = 20 мкм. Итак, окончательно для транзистора с

круговым эмиттером

получаем

 

 

r6n=RsnAd/2nR3.

(5.576)

Теперь перейдем

к вычислению сопротивления активной базы

Г б а - В данном случае

уже нельзя пользоваться простой

методикой

расчета, использованной выше при определении сопротивления пас­ сивной базы Г б п , ибо базовый ток не является постоянным под эмит­ тером: как отмечалось в § 4.1, базовый ток изменяется от максималь­

ного значения / б ( ± / э / 2 )

или

I6(R3)

у края

эмиттера

до

нуля

в центре

эмиттера

/б (0)

= 0.

Кроме того, величина

г£а

должна

зависеть

от

величины

постоянного

тока эмиттера I э ,

поскольку

при больших

токах

/ э

из-за эффекта оттеснения тока к краям эмит­

тера базовый ток будет проходить меньшее расстояние

под эмитте­

ром, что приведет к уменьшению г^а

с ростом I э.

С ростом частоты

переменного сигнала, очевидно,

должны возрастать емкостные

со­

ставляющие базового тока, заряжающие барьерные емкости эмит­

терного С э

и коллекторного С к

р-п переходов, а также диффузион­

ную емкость эмиттера

С Э д и ф

=

dQ6/dU Э р . „ ,

где Q6 — заряд не­

основных

носителей в

базе. Это

приведет к

увеличению падения

напряжения вдоль базового слоя под эмиттером и высокочастотному

эффекту оттеснения эмиттерного тока, что, очевидно,

вызовет

уменьшение

Г б а с ростом частоты переменного

сигнала.

Однако

расчет Г б а с

учетом последнего эффекта весьма

сложен.

Ограни­

чимся вычислением г'ь а для случая низких частот, принимая во вни­ мание эффект оттеснения постоянного эмиттерного тока.

Из Т-образной эквивалентной схемы на рис. 5.2 для достаточно

низких

частот (/ « 1 Мгц для

транзисторов

fT >

100

МГц),

ис­

пользуя условие холостого хода на входе эт

=

0) и

короткого

замыкания на выходе (UK6m

=

0), находим общее выражение

для

полного

сопротивления базы

 

 

 

 

 

 

 

,

 

дѵ^\

 

 

( 5

> 5 8 )

Следует заметить, что мы рассматриваем случай таких частот, когда можно не учитывать так называемое диффузионное сопротив­ ление базы гб даф, которое отражает влияние модуляции толщины квазинейтральной базы (эффект Ирли) на величину эмиттерного напряжения £ / э Р . п . Как показано в [46], для дрейфовых тран­ зисторов уже при / ^ 1 МГц можно пренебречь диффузионным сопротивлением.

Г43


В

равенстве (5.58)

входное

напряжение

U36

можно предста­

вить

в виде £/.,(5 = ( / э р - n - | - с / І

І б ,

где Un6

падение напряжения

при

протекании базового

тока

в пассивной базе,

U'3p.n— напря­

жение на эмиттерном

р-п

переходе

у края

эмиттера. Тогда

 

д11э

 

 

dU_n±

(5.59)

 

 

 

- const

 

 

 

дік

 

 

В формуле (5.59)

 

 

 

 

 

 

 

Гбп

dUu6 I

 

dU П б

 

 

 

дІк

\'a =

const

dis

 

 

 

 

 

 

представляет собой сопротивление пассивной базы [равенства (5.56) и (5.576)1, а

ÔU э р-п

__

дНэр-п

о/к

/ „ = const

 

— сопротивление активной базы. Как видно из этого определения, параметр Гб'а учитывает тот факт, что приращение базового тока àl6(t) = /6 m exp(/cù^) вызывает изменение падения напряжения вдоль базового слоя, а следовательно, и величины эффекта оттес­

нения эмиттерного тока. В результате для сохранения

постоянства

эмиттерного тока

(I э = const)

необходимо изменить

напряжение

на эмиттерном р-п

переходе на

величину А1/эр.п

=

Д / б Г б ' а -

Кон­

кретная методика

вычисления

г б а определяется

геометрией

эмит­

тера.

 

 

 

 

 

Рассмотрим случай прямоугольного эмиттера с двумя базовыми контактными площадками по обеим сторонам эмиттера. Восполь­ зуемся результатами расчета эффекта эмиттерного вытеснения,

приведенными в § 4.1. Согласно (4.3)

и (4.4)

 

 

 

 

иэ р . п (IJ2) = фг In / э (/э /2)//э 0 .

 

(5.60)

Плотность эмиттерного тока /а (/э /2) в зависимости от полного

эмиттерного тока определяем из формулы (4.18):

 

 

 

 

 

 

 

(5.61)

 

 

L Za

sin

 

 

 

 

 

 

 

Параметр Л зависит от величины базового тока Іб

=

/ э ( 1 - а ) "

согласно (4.156). Поэтому с учетом (5.60), (5.61) получаем

 

 

 

cos N sin2A

dA(I6)

 

 

sin

sin2

dl6

 

 

где dA(I6)/dIö

находим с помощью равенства (4.156)

как

производ­

ную неявной функции от / б :

 

 

 

 

 

 

dA(I5)

 

Is R&

 

 

 

 

dl6

9 r 8 Z 3 ( t g A - b A c o s - 2 A ) '

 

 

144


jq\i (x) N (x) dx

-поперечное сопротивление активной базы. С учетом последних выражений

получим окончательное выражение

Д Л Я г'ба.

г'

_

hRsa

(sin 2Л—2Лcos 2Л)

 

(5 62а)

6

3

8Z3 AtgA

sin2A-J-2A

'

'

Исследуем поведение гб 'а от параметра Л, а следовательно, и от тока / б . При малых токах эмиттера / э , следовательно, и при малых токах базы / б , эффектом эмиттерного вытеснения можно пренебречь. Тогда Л « 1 и, разлагая sin 2Л и cos 2Л в ряды и ограничиваясь первыми двумя членами:

sin2A = 2 A J l ~

у

 

COS2A - 1 — 2Л 2 ,

 

 

t g A = A ( l + A 2 / 3 ) « A ,

 

 

 

получаем

 

 

 

 

 

 

 

^ • І ^ ^ І а д Г '

 

( 5 - 6 2 б )

Выражение (5.62 б) для /-б 'а

хорошо

известно в

литературе [80].

В случае больших токов

эмиттера

(I а ->• оо)

эффект эмиттер­

ного вытеснения становится значительным, ибо

І6 -*• оо

и Л

->

—>- п/2, как видно из уравнения (4.156), следовательно, sin 2Л

->

->• 0, sin Л -> 1, cos 2Л ->• —1

и

формула (5.62а) с учетом (4.156)

принимает вид

 

 

 

 

 

 

 

г б а

| / б

_

= -

^ .

 

(5.62В)

Таким образом из (5.62 в) следует, что сопротивление

актив­

ной базы при очень больших базовых

токах гб 'а

убывает

обратно

пропорционально току базы. Следует заметить, что формула (5.62

в)

справедлива при таких токах эмиттера I э , когда транзистор еще не вошел в режим насыщения и не наступил большой уровень инжек­

ции в базе, т. е. при

I э

< / к 1 , / К 4 [см. формулы (4.44) и (4.46)].

При т о к а х / э ;> / к 1 ,

/ К 4

для определения эффекта оттеснения эмит­

терного тока непригодны формулы (4.156) и (4.17), выведенные для

малых уровней инжекции

в

базе,

и,

следовательно, зависимость

Гб'а будет отличной от (5.62

в).

 

 

 

На рис. 5.3 показаны зависимости

полного омического сопро­

тивления базы Г б = Гба +

гб

п от

тока эмиттера для разных частот

для кремниевых п-р-п планарных транзисторов с прямоугольным эмиттером типа 2N914 и 2N918, взятые из работы [81]. Из этого

рисунка

видно, что сопротивление

на частоте / = 1 МГц в диа­

пазоне тока эмиттера 0,01 — 10 мА убывает почти

в 2 раза. Такой

характер

изменения параметра можно объяснить

следующим об-

145


 

Рис.

5.3.

Зависимость

сопротивления

 

базы г б

планарного

транзистора с

пря­

 

моугольным эмиттером от коллекторного

 

тока и частоты переменного сигнала.

 

разом.

Сопротивление

активной

 

базы ré а согласно

(5.62в)

монотон­

 

но убывает

с ростом тока

базы / б

 

и,

следовательно,

тока

 

эмиттера

 

/э

= ВСТІ6.

Сопротивление

пас­

0,1 0,1

сивной

базы гб п

от тока

эмиттера

 

не

зависит,

но

оно

значительно

 

меньше

сопротивления

г б а вслед­

ствие сильного различия в величинах поверхностного сопротивле­ ния пассивной базы (Rsu — 300 — 600 Ом/квадрат) и поперечного сопротивления активной базы (Rsa » 5000 — 10 000 Ом/квадрат) в реальных п-р-п кремниевых приборах. Кроме того, из-за высоко­ частотного эффекта эмиттерного вытеснения г б убывает почти в 5 раз

на частоте / == 400 МГц при токах I э ^

1 мА по сравнению со зна­

чением г б

при / =

1 МГц.

 

 

 

Теперь проведем расчет активного сопротивления базы для

кругового

эмиттера. В данном

случае в выражении

(5.60) для

UBP.n(Ra)

необходимо

вместо

(5.61)

воспользоваться

формулой

(4.38). В результате

получим

 

 

 

 

 

/ э ( Я э )

=

 

 

(5.63)

Дифференцируя

выражение

(5.60) с учетом (5.63), находим

 

 

 

 

Rs а

 

(5.64а)

 

 

 

 

 

 

При малых базовых токах I5Rsj8mpT

<^ 1 получаем обычное выра­

жение для Г б а без учета эффекта оттеснения эмиттерного тока [80]

 

 

r'6a=RsJ&n.

 

(5.646)

При больших

токах эмиттера

(I э ~*~ оо) базовый

ток становится

значительным

(I6Rsj8nq>T

>

1) и

формула (5.64

а) упрощается:

 

 

г б а ! 7 б ^ 0 0 =

Ф г / / б

(5.64в)

Формула (5.646) впервые получена в работе [82]. Сравнивая выра­ жение (5.62в) И (5.64В), МОЖНО сделать вывод о том, что незави­ симо от геометрии эмиттера сопротивление активной базы при до­ статочно больших токах а убывает обратно пропорционально току базы.

146