Файл: Кремниевые планарные транзисторы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 245

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

5.4. Зависимость предельной частоты fr от тока коллектора

В предыдущих разделах мы получили общее выражение (5.54) для предельной частоты (ог = 2л/ г . Большой практический и фи­ зический интерес представляет поведение этого важного параметра

транзисторов в

зависимости

от постоянного

тока коллектора Ік.

Зависимость

/у от тока Ік

при постоянном коллекторном на­

пряжении (UKa

= const) для германиевых

дрейфовых транзисто­

ров исследовал Кирк в 1962 г. [66], причем было экспериментально обнаружено, что зависимости fT = fT(IK) |u K 8 = c o n st имеют вид кри­ вых с максимумом в области средних токов коллектора. Аналогич­ ный характер носят зависимости предельной частоты /V от тока кол­ лектора для кремниевых планарных транзисторов (см., например, рис. 5.4 для маломощного прибора П307 и рис. 5.5 для переключаю­ щего транзистора КТ603). Из рисунков видно, что параметр fT, как и статический коэффициент усиления по току В с т , убывает в об­ ласти малых токов (/„ < 1 мА) и в области больших токов коллек­ тора.

Спад /г при малых токах I к происходит за счет увеличения инер­ ционности эмиттерной цепи, т. е. постоянной времени т э = 1/гдр.пСд, поскольку дифференциальное сопротивление эмиттерного р-п

перехода гэ р.п возрастает с убыванием тока / э « Ік

по закону

гд р.п = Фг//к-

 

Поэтому при малых токах предельная частота fT

определяется

в основном предельной частотой эмиттерной цепи coY [см. формулу

(5.14)], поскольку

предельные частоты

cof [см. равенство (5.40)]

и к>к [см. равенство (5.46)] не зависят от тока / к , т. е.

 

 

 

/ г = / к / 2 я Ф г С э .

 

 

(5.65)

По этой причине микромощные транзисторы (/>р а с

«

ЮмкВт),

работающие при токах / к « 1 мкА, имеют довольно

низкие пре­

дельные частоты fT.

Например, при Сд

= 20 пФ, что является ти­

пичным для маломощного транзистора

КТ312, и / к

=

1 мкА на

О

100

200

Ік,мА

Рис. 5.4. Зависимость предельной ча­ стоты fr от тока коллектора для ма­ ломощного транзистора П307 в не­ прерывном режиме.

Рис. 5.5. Зависимость предельной ча­ стоты fr от тока коллектора для переключающего транзистора КТ603 (в импульсном режиме).

147


основании

формулы

(5.65) получим fT = 3 • 105

Гц = 0,3 МГц.

Кроме того, из (5.65) видно, что при малых токах / к

предельная ча­

стота /г убывает прямо пропорционально /,„ поскольку

емкость

эмиттерного р-п

перехода С э

в

соответствии

с

формулами (5.11)

и (5.12)

меняется

незначительно

в диапазоне

рабочих напряжений

^эр-п =

 

0,4 — 0,6

В. При

достаточно больших

токах

1/соѵ

1/cof

+

1/k и выражение

 

(5.52) принимает

следующий вид:

сог = (1/cof + 1/ C Ö K ) - 1 .

 

 

 

 

 

 

Таким образом, в диапазоне средних токов частота fT

должна

быть постоянна, поскольку cof и сок здесь не зависят от / к .

Однако

с ростом коллекторного тока начинает увеличиваться падение на­ пряжения на толще коллекторного слоя, и обратное напряжение

смещения на коллекторном р-п переходе убывает по закону | £/к р - п | =

=

| ( 7

к б | IKRK

ля

схемы

с общей базой)

или \UKP.N\

=

\UK3\ — U Э Р . П

IKRK

(ДЛЯ схемы с общим эмиттером).

 

 

В

результате

при

 

I K R K

0,5 \UK5\ и

при | £ / к | / / n 0

^ 5 х

X 10s

В/см (в случае не очень сильных полей в коллекторном

слое)

в соответствии с выражением (3.20) ширина коллекторного р-п пе­

рехода

уменьшается: Хк

р.п

-> R P.N(UK

Р.П

=

0).

Это приводит

к увеличению емкости коллекторного р-п перехода

С к

= ee0 SK P .n /

%к р-п ( У к

Р-П), а ширина

квазинейтральной

базы

W6 = W60

— (^ко — х к ) на основании

(3.40) растет и стремится к ширине тех­

нологической базы W60.

Все это вызывает

медленное

уменьшение

предельных частот cof [см. равенство

(5.40)] и сок

[см. равенство

(5.46)],

а

следовательно,

и

спад предельной

частоты

транзистора

fT сог/2я.

Однако резкий спад /г начинается после смены полярности на­ пряжения на коллекторном р-п переходе (переход из активного ре­

жима в режим насыщения) при токах Ік > Ік1,

где ток / к 1

опре­

деляется по формуле (4.44).

 

 

В

выражении (4.44) для простоты считаем

коллекторный

слой

тонким

In < lg, R S , так что R K = ç>nl'nlSgP.n

(для п-р-п триода).

fe< Теперь необходимо учитывать новую составляющую емкости

коллекторного

р-п

перехода — диффузионную емкость

Ск

Д И ф,

как и в обычном прямо смещенном диоде:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С,к Лиф = AQp /At7K 6 ,

 

 

(5.66)

где Qp = t/S3

Г [р{х)—pn]dx

—избыточный

заряд неосновных

носителей - дырок

в

коллекторном слое для п-р-п

транзисторов.

Емкость С К Д И ф

является

частотно-зависимой

величиной,

как

видно из рис. 5.6, а,

б для транзистора

КТ602. С ростом

частоты

С к д и ф

0, а С к

->- С к п ,

где С к п барьерная

емкость пассивной

части

коллекторного

р-п

перехода. На

высоких

частотах

if >

>10 МГц для приборов П307 и КТ602) изменение заряда неоснов­

ных носителей AQP под действием переменного сигнала

Д £ / К б (/) =

— ^кб me xp (/©0 с увеличением частоты уменьшается,

поскольку

И8

 


a) ö)

Рис. 5.6. Зависимость емкости коллектора от коллекторного тока для тран­

зистора

КТ602:

 

а — на

частоте f=0,465 Мгц; б — на

частоте { = 20 МГц.

за полупериод сигнала 772

= я/со неосновные носители не успевают

переместиться за счет диффузии на большое расстояние от границы металлургического перехода хк0.

Расчет зависимости С к д и ф = С к д и ф к, со) весьма сложен, так как необходимо учитывать наличие тормозящего поля для не­ основных носителей в высокоомном коллекторном слое и двумер­ ный характер распределения носителей в нем из-за эффекта эмиттер­ ного вытеснения (под краями эмиттера плотность тока / к максималь­ на и концентрация р(х, у) — максимальна, а под центром эмиттера и р(х, у) минимальны). В низкочастотном пределе (со 0) и в одно­ мерном приближении (без учета эффекта оттеснения эмиттерного

тока) величина

С к

д и ф

в зависимости

от тока

коллектора

была вы­

числена впервые в работе [83].

 

 

 

 

 

 

 

р(х)

dx

При

этих

допущениях

уравнение

(4.52)

 

умножаем

на

и интегрируем левую часть в пределах от p(xl)

до р(Хп) та 0, а пра­

вую часть по толщине высокоомного слоя:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

"(хп)

 

 

 

 

 

.

х п

 

 

 

 

 

 

 

j

[2p + NdK]dp=

-

I

M

 

^p{x)dx

 

 

 

 

 

 

P ( * K )

 

 

 

 

 

хк

 

 

 

 

или

 

 

Qp^S3^[p2(x^)

 

 

+

Ni лр(х'к)}.

 

 

(5 . 67)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I I

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Тогда

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

'к диф :

 

dQp

 

 

dQp

 

 

 

dp (хк)

 

 

 

 

 

dUK6

/ K = const

dpix'û) | / K =

const

dUK6

 

 

 

Производную

dQpldp(x'i)

находим

с помощью

равенства

(5.67),

а производную

dp(х)/аикП

из

выражения

(4.55),

поскольку

при /„ >

/ к і ,

£/к б

=

—(£/„ с

л +

Ф Й,),

U*Р-„ та ф р к

и dp (x"K)/dUK6

=

•™-dp(x'K)ldUKca,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

149



Врезультате получаем

ас учетом (4.55)

 

 

 

 

 

 

і /кі I

 

(5.68)

 

 

 

 

 

 

I/к I

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

I /кі I = <7Цп (^к с л / Q

<7p,„ (| Ux6 \/ln) NdK,

поскольку

UKс л =

=

I ^кб I

+ Фкк «

I ^кб I п Ри I ^кб I »

Фкк ~

0,5 B .

 

 

 

 

Из формулы (5.68) видно, что емкость С к

Д И ф быстро возрастает

с током коллектора при / к >

/ к 1 и стремится к предельному

зна­

чению

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с к диф макс = SaqNdKln/2(pT.

 

 

(5.69)

 

Величина С к даф может достигать весьма

больших

значений. Так,

например, при NdK

= 1 • 1015

с м - 3 , Гп

=

10 мкм, ф г

= 40 В - 1 ( 7 '

=

=

300 К) и / к 1 / / к

= Ѵ2 , С к

д и ф / 5 Э = 1,6 мкФ/см2 .

При Sa

 

=

= 2,7 • 10_ î с м - 2 , что характерно для транзистора

КТ603, С к д

и ф

=

=

430 пФ. Для сравнения заметим, что барьерная емкость коллек­

торного р-п перехода для этого типа

приборов С к « 10 пФ при

ия0

= - ь в .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В упоминавшейся выше работе [83] диффузионная емкость кол­

лектора в режиме

насыщения

определяется

выражением

 

 

 

r

_

dQp

 

 

dQp

dp (х'к)

 

 

 

и

к диф

 

: COnst

dp « )

dU,к p-n

 

 

 

 

 

 

 

 

где UKp.n — прямое смещение на коллекторном р-п переходе, при условии, что справедливо граничное условие Шокли

 

 

 

р(лгк) = рп ехр(£/К р.л /ф7-).

(5-70)

Однако,

как легко проверить с помощью формулы

(4.55), уже при

| / к | ^

1,2/к 1

и | [ / к б | ^ 2 В ,

р'к)

^

10 NdK,

следовательно,

коллекторный

р-п

переход уже «залит»

полностью подвижными

носителями, т. е. он исчезает

(UKp.n

=

 

ф к к ) , граничное условие

Шокли (5.70) уже не применимо и выражение

 

 

 

Г

о 2Р « ) Р(х'к)

/кі ,

 

 

 

 

 

Фг

NdK

 

 

полученное в [83], дает сильно завышенные ( « 100 раз) значения диффузионной емкости по сравнению с формулой (5.68).

Сопротивление коллекторного высокоомного слоя RK, через который протекает емкостный ток, перезаряжающий емкость С к д и ф , убывает с ростом тока / к = / К 5 Э при | / к | > / к 1 . Действительно, в соответствии с выражением (4.53) убывает протяженность области

150