Файл: Кремниевые планарные транзисторы..pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 10.04.2024

Просмотров: 246

Скачиваний: 1

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

для разных значений постоянного базового тока, задаваемого от

генератора тока в цепи эмиттер—база.

Наклон

выходных

характе­

ристик dIK

ldUKa

можно вычислить следующим образом:

 

 

 

 

 

d!K

t

 

 

г

dBCT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

. —

'б——

/ g =

c o n s t

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dUK

 

б. - c o n s t

 

dU, 'ко

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dyn

7/7 ßn

 

б>

 

(7.5)

 

 

 

 

 

 

dUw

 

db'Ka

 

 

 

 

 

 

 

 

ß*

 

0 - Y » ß«)a

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

если воспользоваться выражением (3.28) для ß C T . В

случае транзи­

сторов, в которые не проводилась

диффузия

золота,

как указы­

валось в §3.4, коэффициент

переноса Р>п можно считать равным 1.

Тогда формула

(7.5) упрощается:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

diu

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dUKa

/ . = c o n s t

 

 

0 - Y J Y « D U

 

 

 

 

Подставляя

в последнее

равенство

выражение

(3.57) для уп,

с учетом

(3.58)

получаем

 

 

 

 

 

 

 

 

 

du

 

 

 

 

 

Na« V2™o/qNdK

L\ N-1 (*„„)

 

 

 

 

/ « =

const

/ ф к к + І ^ к э І З . 4 {1

-exp

•(xZ-XBo)V-Ld/La)ILd)]}

 

(7.6)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При

выводе

формулы

(7.6) мы приближенно

считали, что

I с/к р.„ I =

I £УКЭ

I — и э

р . п / „ Я К

Ä: I (7К Э I — иэр.п,

т. е. пренебрегали

при

малых

токах

/ к

омическим

падением

напряжения

UKс л

= IKRK

на

высокоомном коллекторном

слое.

Кроме

того, пола­

гали, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

2^o(<fKK

+ \UKp.n\)

 

 

2 е е 0

( ф к

 

к р-п

I

 

 

 

 

 

 

4NLl

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ибо

при типичных

значениях

А^к =-(0,5 — 5,0) • 1015

с м - 3 , L a

= (0,15 - 0 , 2 0 ) W6Q,

б 0 =

0,5 -f- 2,0 мкм, Ф к

к + | U.п

I >

 

 

 

 

| 2 е 8 о ( ф к к f

 

 

\UKpn\)lqNdKLl>\Q.

 

 

 

 

Из (7.6) можно найти выходное дифференциальное

сопротивле­

ние

транзистора

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

^9 9

dUKa

 

 

 

У ф :пк "

UKa\

3,4УѴ„ (дсьо)

X

 

 

 

dl»

 

 

 

 

 

 

 

c o n s t

 

IKNDKV~2eeo/qNdKLa

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

X

1 —ехр

х'э—хя0

 

 

 

 

 

(7.7)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При

выводе формулы (7.7) при достаточно больших

коллекторных

напряжениях (| (7 К Э | > 1 В) полагали приближенно, что

 

 

 

 

Фкк + 1 ^ к Р - п 1 = Фкк +

1 и к а \ — Uэ р-п

lt/иэі-

 

 

174


Согласно формуле (7.7) выходное сопротивление

г 2 2

обратно

пропорционально коллекторному току

/ к и растет с

напряжением

на коллекторном р-п переходе пропорционально

]/срі ; к +

| UK р.п

|.

При токах /,(=14-100 мА и напряжениях

| ( 7 к р . „ | ^ 1

В

величина г 2 2 = 100

1 кОм, поскольку

 

 

 

 

 

 

 

хэ

— *во

I ^

Ld_

 

ïlOO

 

 

1 —ехр

Ld

\

L a

 

 

 

 

 

 

 

 

при обычных значениях Na(xa0)lNdH(3—10)-

 

102 и L a

(0,15

0,20) Wü0.

 

 

 

 

 

\UKa\

 

При достаточно

больших токах / к

и напряжениях

на­

клон выходных характеристик dIJdUK3

будет больше,'чем

наклон,

определяемый по формуле (7.6), а выходное

сопротивление

г 2 2

меньше, чем следует из формулы (7.7), не учитывающей

 

разогрев

транзистора протекающим током. Подробно

термические

эффекты

в кремниевых транзисторах рассмотрены в

гл.

10.

 

 

 

 

Инверсный активный режим. Данный режим работы в отличие от нормального активного режима характеризуется весьма малыми коэффициентами передачи тока at 0,1—0,3 и B c r i < 1, что не позволяет использовать кремниевые планарные транзисторы в та­ ком режиме в обычных усилительных схемах. Причины существо­ вания таких малых значений коэффициентов усиления по току за­ ключаются в следующем.

Площадь коллекторного р-п перехода всегда значительно боль­ ше площади эмиттерного р-п перехода ( 5 К > 3 — 5 5 э ) , так что об­ ратно смещенный эмиттерный р-п переход может собирать только малую часть инжектированных из прямо смещенного коллекторно­ го р-п перехода электронов (в случае п-р-п триода). Кроме того, база всегда сильнее легирована, чем высокоомный коллекторный слой я-типа, из которого инжектируются неосновные носители — электроны, так что коэффициент инжекции электронов из коллек­ тора будет значительно меньше единицы пі < 1). Далее, в базе для электронов, движущихся в эмиттер, существует тормозящее поле [формула (3.76)], которое в нормальном активном режиме было ускоряющим. Это тормозящее поле, очевидно, будет уменьшать ко­

эффициент переноса рпі.

Точный расчет токов I э і и Ікі,

а следова­

тельно, и коэффицинетов

усиления at и ß C T i , весьма

сложен, так

как при этом необходимо учитывать неравномерность инжекции

электронов

по площади коллектора.

 

Следует

также отметить, что в инверсный активный

режим

транзистор

обычно переходит из режима насыщения, для

которого

весьма типично

наличие большого уровня инжекции электронов

в высокоомном

слое и в части базы, прилегающей к коллекторному

р-п переходу. Возникновение большого уровня инжекции приводит к исчезновению тормозящего поля -в этом участке базы. Все это также значительно усложняет решение многомерной задачи о рас-

175


пределении подвижных носителей в транзисторе, находящемся в инверсном активном режиме. Можно, однако, отметить из качест­ венных соображений следующую особенность данного режима ра­ боты. При малых уровнях инжекции

 

 

 

 

Хехр

QVT

 

(^l\^NdK-Na(x"K),

 

 

 

 

 

 

 

\

J

 

 

 

 

 

 

 

 

 

п {х'к)

пр (4) ехр І^)

= —

^

X

 

 

 

 

 

 

 

Х е х р ( ^ ) « Л /

а ( Х к ) - ^ к

 

 

 

 

 

 

 

 

\

9Фг /

 

 

 

 

 

 

 

и,

следовательно,

как и в обычных диодах,

токи Іаі,

Ікі

зависят

от напряжения

по закону Іді,

І к і

~ ехр

 

{UKp-n/qq>T).

 

 

 

 

В случае

больших

уровней

инжекции

р(х'^)>

NdK

— Na

(х«)

и п ( Х к )

> Na(х'к)

NdK.

Это означает,

что

потенциальный барьер

в

коллекторном

р-п переходе

исчезает

и

зависимость

токов

Іді,

Ікі

от напряжения UKp.n

должна

быть

более слабая, чем экспо­

ненциальная ехр

(UKp-n/qq>T).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Режим насыщения. В этом режиме работы транзистора на эмит­

тер ный р-п переход подается прямое напряжение смещения (Ug р.п

>

>

0), а на коллекторном р-п переходе возникает прямое напряжение

смещения

(UK

р.п

> 0). Для

лучшего

понимания

возможности

возникновения таких полярностей напряжений на переходах рас­ смотрим транзистор, включенный по схеме с общим эмиттером с ис­ точниками регулируемого эмиттерного напряжения £ э 6 и постоян­

ного коллекторного напряжения ( і : К э = const).

В цепи коллектор—

эмиттер включено сопротивление нагрузки Rn.

Если Е д б > 0 и до­

статочно мало, то в цепи эмиттера протекает ток / э , а в цепи коллек­ тора — ток сс/к . При этом напряжение коллекторной батареи равно сумме падений напряжений на обратно смещенном коллектор­

ном р-п переходе UK р . п ,

омического падения напряжения

на вы-

сокоомном слое UK с л

и на сопротивлении нагрузки R H :

 

•^кэ = I

р-п I +

сл + Uэ р-п Л- Ун — I и к р . п

I - f

 

 

+

L

R K + U 3 p n

+ U R n ,

"

(7.8)

где R K — сопротивление

растекания

высокоомного

слоя

(в сплав­

ных бездрейфовых транзисторах R K пренебрежимо мало вследствие высокой концентрации примесей в коллекторном слое). При увели­ чении эмиттерного смещения Еэ б возрастает ток / к и увеличивается падение напряжения на сопротивлениях R K и R H . При некотором токе / к = / к падение напряжения на коллекторном р-п переходе

176


обращается в нуль (£/„р . п = 0). Следовательно, из (7.8) можно найти

 

I^(EK,-U3p.n)/(RK

+ RH).

(7.9)

В кремниевых

низковольтных

транзисторах типа

КТ312,

КТ603 с пробивным напряжением с/Кбо ^

50 В толщина высокоом-

ного коллекторного

слоя lnQ

невелика п0

да 10 мкм), а

удельное

сопротивление этого слоя р„ меньше

5 Ом-см. У этого типа тран­

зисторов Rк да 10 Ом <^ Ru,

и ток коллектора перестает расти при

дальнейшем увеличении эмиттерного тока ( / э > Гк). В маломощных высоковольтных кремниевых приборах типа КТ602, КТ604, КТ605

пробивным напряжением

£ / к б 0 ^ 150 В, / п 0 =

40—150

мкм,

р п

^ 10 Ом• см) сопротивление

коллекторного слоя

достигает весь­

ма

больших значений: RK = 200—500 Ом. Поэтому при RH

œ RK

в этих транзисторах увеличение эмиттерного тока

э >

вызы­

вает дальнейший рост коллекторного тока до предельного значения

Ік ~ (Еко

Uap-nlIR^.

(7.10)

Возрастание коллекторного

тока до предельного

значения /«,

наблюдаемое всегда экспериментально, легко объяснить, если до­ пустить возможность модуляции сопротивления высокоомного слоя в результате появления прямого смещения на коллекторном р-п переходе (UK р . п > 0) и возникновения большего уровня инжек­ ции неосновных носителей в этом слое. С целью выяснения явлений,

имеющих

место в планарных транзисторах

при токах

эмиттера

/ э

>

/к, І'к, рассмотрим направления протекания тока в коллекто­

ре,

изображенные на рис. 7.2. Электроны,

инжектированные из

n-эмиттера

(в случае п-р-п транзистора), пролетают через область

базы,

коллекторный р-п переход, затем через высокоомный

слой

и

достигают низкоомного п+ -слоя. Поскольку / э > / к .

то

через

«+-СЛОЙ в коллекторный вывод уходит электронный ток

а часть

электронов (/ э /к)/<7 протекает через п+-слой параллельно коллек­ торному р-п переходу, затем через высокоомный слой и инжекти­ руется в базу р-типа. Очевидно, инжекция из части коллекторного

р-п

перехода за пределами

площади эмиттера возможна при нали­

чии прямого

смещения

U s

p . n

на этом переходе. Таким образом,

при

/ к

= /к = а / э

активная

часть

коллекторного р-п перехода (непо­

средственно

под эмиттером)

нахо­

дится

при

 

нулевом

 

смещении

(UK

p.n

= 0,)

а

пассивная

часть (за

пределами

площади эмиттера) под

обратным

смещением

UK р.п

< 0.

Рис.

7.2.

Потоки

электронов

 

в

п-р-п

транзисторе

в

режиме

насыщения.

177


При /„

= /к и

I Э > /к весь коллекторный р-я переход оказы­

вается под

прямым

смещением (Uк г . п > 0). Итак, в режиме на­

сыщения мы имеем прямое напряжение смещения на обоих перехо­ дах: с / э р . „ > 0 и UK р . п > 0. Напряжение на клеммах эмит­ тер—коллектор теперь будет равно разности напряжений на этих

переходах, включенных

навстречу

друг

другу,

плюс падение

на­

пряжения на модулированном сопротивлении коллекторной

толщи

сл (^к)-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

UKS

h ~

Уэр-п

UKр.п-\-UKCn

 

(Iк),

 

 

(7.1

la)

где

/ к < / к < / к .

 

 

 

 

К

/,<) напряжение

UK5 н

 

 

В

начале

режима

насыщения

будет,

очевидно, максимальным,

так как U.П

 

— 0,

a

UKCN(IK)

=

 

IKRK

мак симально. Следовательно,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

^кэні,

_ r

= Uap-n

+

I*RK.

 

 

(7.116)

В

режиме

глубокого

насыщения

( / „ >

/к)

напряжение (7К Э Н

весьма незначительно

( [ / к э н

< 0 , 1 В),

так

как

теперь

икр.пти

œ иэр.п>0,

a І 7 к с л ( / к )

также

мало

вследствие возникновения

большого уровня инжекции неосновных носителей в коллек­ торном слое:

Р ( * № „ > 1 , п(х)жр{х)

+

NdKœp(x).

Происхождение термина «режим

насыщения» становится по­

нятным, если учесть, что коллекторный ток достигает предельного

значения или значения насыщения

определяемого

формулой

(7.10).

 

 

Область насыщения всегда отчетливо проявляется на выходных

характеристиках транзисторов ІК = ІК

( с / к э ) / б в схеме

с общим

эмиттером, когда значения базового тока /д задаются с помощью генератора тока. На рис. 7.1 показаны две области, соответствую­ щие разным режимам работы низковольтных транзисторов: актив­ ная область, где ток коллектора весьма слабо зависит от обратного коллекторного напряжения (UK р.п < 0) [см. (3.23)], и область насыщения, в которой ток / к возрастает от 0 до почти постоянного значения / к = ß C T / e для каждого тока базы / б . На рис. 7.3 для сравнения показана взятая из работы [97] выходная характеристика для высоковольтного кремниевого транзистора с достаточно высокоомным коллекторным слоем. В этом случае область насыщения су­ ществует в широком диапазоне напряжений 0 < U K g i i < 7 В и со­ стоит из двух четко выраженных участков с разным наклоном на вольтамперной характеристике. Очевидно, что столь большие зна­ чения напряжения £/к э н « 5—7 В в режиме насыщения для вы­ соковольтных приборов обусловлены падением напряжения на высо­ коомном коллекторном слое, сопротивление которого сильно моду­ лировано подвижными носителями на начальном участке.

178