ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 11.04.2024
Просмотров: 206
Скачиваний: 0
og |
: Vo |
О, .v'o-i--e' + ~ |
0 2^tVÖ ; 2е' -f- -±- 0 2, |
(1.6) |
Mm |
O g^M iX f |
ß' |
■0,1t Mi 2 e' |
О,2- |
|
|
|
|
(1.7) |
Очевидно, что преобладание первых двух процессов ведет к обра зованию окисла с избытком кислорода, тогда как доминирование двух последних процессов сопровождается образованием фазы с дефицитом кислорода.
Следует иметь в виду [5], что энергия квазихимических реакций состоит из двух слагаемых, одно из которых связано с изменением числа точечных дефектов, а второе — с изменением энергии связи в кристалле, т. е. изменением эффективной валентности.
Взаимосвязь между нестехиометрией бинарного кристалла, концентрацией в нем точечных дефектов и парциальным давлени ем летучего компонента в равновесной газовой фазе была впервые получена Шоттки и Вагнером [2]. Рассмотрим их модель на при мере окисного кристалла МО с доминирующими дефектами типа Френкеля в катионной подрешетке. Предполагается, что кислород ная подрешетка полностью упорядочена, а изменение Р о 2в газовой фазе сопровождается накоплением внедренных катионов (для фа зы с дефицитом кислорода) или накоплением катионных вакансий (для фазы с избытком кислорода).
Полная функция распределения для такого кристалла может
быть выражена уравнением |
NA 'I |
|
N\ |
X |
|
Е- S,Ni Na\ OY- Na)\ |
( W m)% |
|
|
|
|
X (Xo K o fM+Na~Nl exp |
— {N° E° w N,E,) ] ’ |
(L8) |
в котором N — число катионных узлов в кристалле, Nu — общее число металлических атомов, Ni — число междоузлий, УѴ0 — чис ло катионных вакансий, Я,м и ко-— абсолютные активности метал лических атомов и атомов кислорода в узлах решетки, /См и Ко — нормальные частичные функции распределения для металлических атомов и атомов кислорода соответственно, Еа — энергия обра зования катионных вакансий, а /Д — энергия внедрения дополни тельного атома М в междоузлия решетки.
Для нахождения наиболее вероятного распределения дефек тов заменим в уравнении (1.8) логарифм суммы логарифмом мак симального слагаемого и частную производную от этого слагае мого по числу дефектов приравняем к нулю:
дIn [макс, слаг 2 1
= 1п(ѵѴ — N0) — ln Na + ln (k0Ko) — kT = 0 ,
(1.9)
15
д ln [макс, слаг |
H l |
|
. |
Е, |
0. |
dN, |
— = ln (Nд — Ni) — ln N, — ln (koKo) |
||||
|
|
|
kT |
( 1. 10) |
|
|
|
|
|
|
|
Перегруппируй |
слагаемые |
уравнения (1.9) |
и |
потенцируя, |
находим |
|
N° |
= коКо ехр / |
Е'3 |
|
( 1. 11) |
|
N — N,□ |
|
kT |
|
|
Аналогично из уравнения |
(1.10) следует |
|
|
|
N.
n a - |
n { |
• ехр |
кпК, |
||
|
|
опо |
( 1. 12)
kT
Очевидно, что число междоузлий в решетке зависит от типа кри сталлической структуры и числа нормальных узлов. В общем слу чае Ад = соѴ, где а — константа, характеризующая данный тип кристаллической структуры. Для составов близких к стехиометри ческому Na «С N, N/<^N д и уравнения (1.11) и (1.12) преобра зуются следующим образом:
^□ = д а д о е х р ( - ^ - ) , |
(1.13) |
|
А/ - а А ( М О д Г Іе х р Г - - ^ \ |
(1.14) |
|
Ч |
kT / |
|
N/Na = (N0f = a m exp |
£/ )• |
(1.15) |
Для кристалла строго стехиометрического состава мольная долм дефектов, характеризующих собственное разупорядочение, равна
Сі = |
V а ехр |
Еа + Еі |
(1.16) |
|
2kT |
||||
|
|
|
где сумма (Еа+Еі) обозначает энергию образования пары дефек тов «вакансия + внедренный ион (атом)». Очевидно, что отклоне ние от стехиометрии можно выразить соотношением
8 = (Na — N!)/N.
Считая положительными значения б для фазы с избытком кисло рода, находим
6 = ЯоКоехр ( - - ! £ ) - - |
« Р ( - ѵ ) ' |
( 1 •17> |
Из уравнений (1.17) и (1.16) следует, что для окисла стехиомет рического состава 6= 0
16
гEr |
■E, |
(1.18) |
(koKof = a exp |
kT |
|
|
|
|
Ci |
exp |
(1.19) |
XQ = -r |
kT
Уравнение (1.17) можно также преобразовать следующим обра зом:
біо - >&Ко ехр ( _ І - ) - ^ ехр ( -
откуда следует, что абсолютная активность кислородных атомов
внестехиометрическом кристалле
ö± / ö 2 + 4 С?
Хо = |
( 1.20) |
Деля почленно уравнения (1.20) и (1.19), находим
б ± Кб* 4С?
2Q
Принимая во внимание, что абсолютная активность атомов "кислоро да в решетке окислов пропорциональна (РогУІг (по определению Х0 =
= Poleß0/kT, где р.о — стандартный химическим потенциал атомов кис лорода), получаем
Р п |
б 3 ± і / б 2 + 4С? |
(1.21) |
- ^ - = 1 |
----------і— Л — |
|
^o, |
2Сі |
|
где Р°о, и Ро, — равновесное давление кислорода в газовой фазе над окислом стехиометрического и нестехиометрического состава соответственно.
Если построить зависимость ро, = / (б) для различных уров-
0,
ней собственного разупорядочения кристалла, то получим кри вые, изображенные на рис. 1Л. Легко видеть, что величина нестехиометрии существенно зависит от степени собственного разупо рядочения. Если концентрация собственных дефектов велика, то сравнительно малое изменение давления летучего компонента (в данном случае кислорода) по отношению к равновесному давле нию над стехиометрическим кристаллом вызывает значительное отклонение от стехиометрии. И наоборот, если собственное разупорядочение невелико, то отклонение от стехиометрии будет ни
чтожным даже при значительной разности давлений |
Рог и Ро,- |
Важно подчеркнуть, что строго стехиометрическим |
кристалл |
Ю. Д. Третьяков |
17 |
Б х р .у ; г -.-» » |
-'Н А Л I |
является лишь при одном (для Т = const), вполне определенном
значении давления Рог = Рог< Итак, чтобы оценить способность бинарного кристалла к не-
стехиометрии, следует знать величину Сь а она в соответствии с уравнением (1.16) может быть рассчитана из энергии разупорядочения.
Предложено несколько ме тодов определения энергии разупорядочения, основанных на измерении электропровод ности как функции температу ры и парциального давления летучего компонента (6, 7], на измерении парциальной моль ной энтальпии растворения кислорода [8, 9] и на расчетах с использованием термохими ческих данных ![96]. Для ион ных кристаллов, какими явля ются многие окислы, энергия разупорядочения может быть рассчитана также с помощью цикла Борна •— Габера, вклю чающего возникновение заря женных дефектов за счет уда ления ионов из кристалла в га зовую фазу, превращение ио^ HQB в атомы и конденсацию атомов с образованием соеди нения [10].
Важно отметить, что рас сматриваемая выше модель, строго говоря, справедлива лишь для бинарных кристаллов, удов
летворяющих следующим условиям:
1)малая величина отклонения от стехиометрии;
2)отсутствие взаимодействия между точечными дефектами;
3)невозможность ионизации дефектов.
В связи с этим возникает вопрос, в какой мере эта модель применима к окисным кристаллам, большинство которых имеют существенно ионную связь. Как показали Шоттки [12] и Бребрик
[13], модель, учитывающая возможную ионизацию дефектов, приво-
Р0 дит к соотношению между —Ң-, б и Си которое выражается
рог
кривыми, подобными кривым рис. 1.1. Разница заключается лишь
в том, что форма кривых |
/ (б) зависит не только от сте- |
18
пени собственного атомного разупорядочения Сь но и собствен ного электронного разупорядочения (Оз=±е' + /г, где е' — свобод ный электрон, а к —• дырка).
Равновесие дефектов в нестехиометрических окислах и ферритах
Для системы, состоящей из бинарного окисла и равновесной ему газовой фазы, концентрация любого сорта дефектов является однозначной функцией параметров состояния, например Т и Р. Спрашивается, какая взаимосвязь существует между концентра цией различных дефектов, одновременно присутствующих в кри сталле. Для кристалла МО с разупорядочением типа Френкеля взаимосвязь между концентрациями доминирующих дефектов бы ла получена раньше. Как следует из уравнения (1.15), в бинарном кристалле любого состава (как стехиометрическом, так и нестехио метрическом) произведение концентраций внедренных атомов ме талла и металлических вакансий при постоянной температуре яв ляется константой, значение которой может быть рассчитано из величины энергии разупорядочения.
Статистические расчеты в принципе позволяют найти соотно шение между концентрациями любых точечных дефектов в кри сталле с любым типом разупорядочения. Однако эти расчеты слишком громоздки и, как показали Шоттки и Вагнер [2, 4], могут быть заменены более простым методом «квазихимических реак
ций».
Сущность метода заключается в том, что структурные эле менты рассматриваются как химические индивиды, реагирующие друг с другом. Иначе говоря, если между структурными элемен тами кристалла (А, В, С, D), будь то регулярные составляющие решетки или дефекты, имеет место квазихимическая реакция
ѵхА + ѵ2В ѵаС + v4D,
то в состоянии химического равновесия
[С]ѵ‘ • [D]v* |
^ |
|
— Аі |
где /Сравн — константа равновесия квазихимической реакции, ко торая, как и у обычных химических реакций, зависит от темпе ратуры
где А5° и АН0 — стандартное изменение энтропии и энтальпии рассматриваемой квазихимической реакции. Здесь, как и в далш нейшем, концентрация структурных элементов обозначается сим волом соответствующих химических элементов, заключенным в квадратные скобки.
2* |
19 |