Файл: Дорфман В.Ф. Газофазная микрометаллургия полупроводников [Текст] 1974. - 190 с.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 07.07.2024
Просмотров: 176
Скачиваний: 1
ределить скорости разрастания каждой из фаз и плотно сти их центров, а также протяженность границ зерен различных фаз и средний размер заполненных участков поверхности в произвольно выбранном направлении (т. е. с учетом анизотропии). Значение этих параметров при эпитаксии принципиально, поскольку структура . и _ свойства эпитаксиальных слоев определяются конкуриру ющими процессами между зародышами и зернами с раз личной ориентацией, структурой и составом.
Вопросы морфологической стабильности при росте из газовой фазы и, в частности, отмеченный выше переход от правильных геометрических фигур к неограненным формам роста, в количественном отношении почти не ис следованы. Представляется, что здесь весьма эффектив ной может оказаться теория Д . В. Кана [168] (в частно сти, «хвостовая часть» функции распределения плотности по нормальной координате, по-впдимому, должна быть чувствительна к форме вершины зародыша).
Попытка непосредственного учета роли химической реакции при кристаллизации из газовой фазы сделана в цикле работ Джойса [28, с. 43; 169] и в работе Гретца, Джексона и Хирса [170]. Джойс исследовал кристалли зацию кремния при пиролизе моносилана из молекуляр ных лучков в глубоком вакууме [28, с. 43]. ’Состав оста точных газов в камере исследовался масс-'спектрометри чески. Изучалась зависимость плотности зародышей от плотности пучка SiH 4 и температуры подложки. Энергия активации и порядок реакции распада определялись по зависимости парциального давления водорода от темпе ратуры и от плотности пучка.
Экспериментальные данные обрабатывались автора ми в терминах формулы Льюиса и Кемпбелла [171], преобразованной ими для случая, когда рост происходит
с участиемNaKnхимических реакций. |
n E d ~ n E A |
||
ЛК |
\-і/(л+і) j n q / ( n + \ ) exp En +( n |
+ 1) k0T |
|
где |
Ns |
— плотность зародышей; |
|
No |
|
||
|
|
— число мест сорбции на единицу поверхности; |
|
|
Ѵо — частота колебаний адсорбированных атомов; |
||
г" |
п — число атомов в критическом заррдьіщр; |
||
' (^^-рорядрк реакции разложения; |
|
101
Ji, |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Е а |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Е п— плотность пучка; |
|
|
|
|
|
|
|
||
E d — энергия активации для реакции разложения; |
|||||||||
— изменение энергии при образовании зародыша; |
|||||||||
— энергия активации |
поверхностной |
диффузии. |
|||||||
Представленная в таком виде экспериментальная за |
|||||||||
N s |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
висимость для плоскости (111) имела вид |
|
|
|
||||||
|
(ßA |
|
|
q = |
|
|
|
|
|
|
= const 4 ,25±<U exp ( — 41,5/ÄoT), |
|
|
||||||
|
|
= 0,81 + |
0,1 эВ ; |
|
|
2). |
|
п |
рав |
Отсюда число атомов в критическом зародыше |
|
||||||||
но ~ 3; для плоскости (100) |
/г 'ближе к й. |
Интенсивное |
|||||||
образование зародышей начинается |
только |
после |
того, |
■ как пучок SiH 4 восстанавливает окисную пленку на крем ниевой подложке. Этим обусловлен длительный (до нескольких десятков .минут) индукционный период.
К сожалению, во многих исследованиях [28, 170] роль химической реакции весьма упрощенно сводится к изменению эффективной скорости -масеопотока к по верхности. Это частичку оправдано в работе [28, с. 43], поскольку в ней исследуется кристаллпзаіция при высо ких температурах п низких давлениях (ом. стр. 98), но не может служить основой для анализа процессов газо фазной металлургии в типичных условиях.
Другая сторона проблемы зародышеобразования — изменение свойств малых ансамблей атомов кристалли зуемого вещества («зародышей») с увеличением их раз меров. В приложении к эпитаксии эта проблема приобре тает два дополнительных аспекта: во-первых, как пре образуются свойства малых зерен в контакте с ориенти рующей подложкой, во-вторых, как влияет подложка на ориентацию зерен с учетом кинетики протекающих про цессов. Нет сомнения, что для анализа свойств зароды шей, содержащих всего несколько атомов, единственно корректным подходом является электронная теория. Од на из первых таких попыток была сделана в работе [172], где определен размер ансамбля атомов, допуска ющий выделение поверхностного и объемного вкладов в свободную энергиюЗначение такого анализа принци пиально, поскольку разложение свободной энергии на поверхностные и объемные компоненты прямо или ко свенно используется во всех работах по зародышеобразованию. Следующим этапом могли бы послужить ре шеточные модели,, давно и плодотворно используемые
для исследования фазовых переходов. Весьма интерес- 'ной здесь .представляется работа ['173], где описана ре шеточная модель с учетом границ. Заметим. что даже (Простейшая модель межатомных связей позволяет вы явить зависимость равновесной огранки малых зерен о г их размеров [і174]. Однако в целом ни одна из извест ных моделей не описывает удовлетворительным образом особенностей эпитаксиального зарождения, отмеченных выше, и решение этой актуальной проблемы еще впе реди.
, Вероятно, определенные результаты в этом направле нии могут быть получены с помощью термодинамической теории кристаллизации, на основе которой удалось объ яснить в последние годы ряд важных явлений эпитаксии (отметим работы, где анализируются условия существо вания критического многослойного покрытия на инород ной подложке [і175] и сделана попытка определения критической температуры эпитаксии [176], работы Л. Н. Александрова по трехмерному зародышеобразованию при эпитаксии, например [177]).
Во всех количественных исследованиях, проведенных до настоящего времени, роль химических реакций при кристаллизации из газовой фазы специально не учиты валась или учитывалась предельно упрощенно. Как по казано выше, микроизбирательность гетерогенных реак ций и активная роль хемосорбциоиного слоя позволяю-,, по крайней мере качественно, объяснить весь основной комплекс экспериментально наблюдаемых особенностей кристаллизации из газовой фазы. Поэтому детальное исследование механизма физико-химических микропро цессов на поверхности растущего кристалла представля ется первоочередной проблемой в данной области.
ЛИМИТИРУЮЩАЯ СТАДИЯ ПРОЦЕССОВ ГАЗОФАЗНОЙ МИКРОМЕТАЛЛУРГИИ
Представление о лимитирующей стадии используется в наиболее простых и распространенных моделях крис таллизации из газовой фазы. Если ввести в рассмотре ние «пропускную способность» отдельных стадий, 1/А,- [33], эта модель приобретает полную аналогию в элект рических .цепях (аналогия наиболее адэкватна, если электрическая цепь содержит элементы с пороговым включением).
103
Лимитирующая стадия и формирование кристалла
рассмотрим теперь влияние лимитирующей стадии на избирательность и анизотропию роста >в цепи
г з |
------ ---------- |
^ 5 'і |
, |
|
|
4t та |
4t] |
U |
4t V |
U 3 ------- у 4" |
------- ►S' |
Здесь стадии /—4 соответствуют вводу исходной газо вой фазы в реактор, маесообмену в реакционном объе ме, маесообмену ів .пограничном слое и гетерогенным ре акциям; ветви 3^~4'-^-5' и 3-*4"-+5" отвечают различ ным «каналам» кристаллизации, например, росту в
различных кристаллографических |
направлениях или |
||||
■ путем разрастания |
различных центров (типов) зароды |
||||
шей. Стадии |
5' |
и |
5" |
отвечают образованию зародышей |
|
и движению |
ступеней, а тз, т4, |
Ts — тангенциальному |
маесообмену в пограничном слое газовой фазы, в хемооорбциониом слое и в «двумерном газе». Избиратель ность одной из стадий приводит к селективной кристал лизации (соответственно анизотропность стадии — к анизотропии кристаллизации), если на этой и последу
ющих стадиях |
тангенциальный маесообмен |
протекает |
|
сравнительно |
медленно. В частности, если |
— > — > |
|
|
|
< |
К\ |
|
|
|
1I
—да— , то в отсутствие тангенциального массооомена
*5 к 6
избирательность гетерогенных реакций определяет из бирательность и анизотропию роста кристалла:
+Л+Л > . 7 - +
Дз к . /<, Кз
Легко видеть, что интенсивный тангенциальный массообмен в пограничном слое не только не ослабит, но да же усилит избирательность гетерогенных стадий:
і-<4Ѵ + - 4 I> ( т\кг» + к-. |
, I |
\ |
. |
||
+ - - |
|
I • |
|||
± |
+ _ L + |
> |
Кб / |
||
|
|
|
|||
Кз |
К I |
Кг |
|
|
|
Этот эффект, играющий определенную положитель ную роль при селективной эпитаксии, может быть весьма неблагоприятным при наращивании однородных слоев,
1С4
вызывая автокаталитическое разрастание морфоло
гических |
неоднородностей за счет |
микромассопото- |
ков [451. |
Мы видим, таким образом, |
что наилучшие ус |
ловия .тля образования гладкой (в частности, безвицинальной) поверхности эпитаксиального слоя создаются в том случае, когда нормальный массообмен в погранич ном слое лимитирует, а тангенциальный массообмен в пограничном слое развит слабо. Это достигается, напри мер, при очень тонком пограничном слое и по возможно сти высокой температуре кристаллизации; в свою оче редь, тонкий пограничный слой формируется при высо ких скоростях потока, а также при экранировании (см. выше, стр. 31). Очень часто пользуются более простым правилом: поскольку массообмен в газовой фазе изотро пен, а гетерогенные стадии анизотропны и избирательны, гладкие однородные слои должны получаться в «диффу зионной» области режимов процесса. Это правило неред ко оправдывает себя, но с учетом изложенного ясно, что оно не иоспт общего характера.
В целом представление о лимитирующей стадии мо жет быть эффективным средством при качественном ана лизе кинетических и структурно-морфологических усло вий формирования кристалла из газовой фазы. В каж дом конкретном случае эта стадия устанавливается по кажущейся энергии активации процесса, микрорельефу слоев и т. п. Но однозначным такой вывод может быть лишь в том случае, если известны кинетические парамет ры всех стадий процесса, а это делает излишним само представление о лимитирующей стадии. Поэтому данную простую модель можно рассматривать лишь как первое приближение в анализе процессов газофазной микроме таллургии.
О формах роста и морфологической стабильности при кристаллизации из газовой фазы
Этот вопрос пока мало изучен, и в настоящем разде ле мы вынуждены ограничиться лишь краткими заме чаниями.
При кристаллизации из расплава анализ форм роста и морфологической стабильности основан на одном из следующих факторов: интенсивности теплоотвода от фронта кристаллизации, зависимости свободной энергии поверхности раздела от ориентации и шероховатости граней; концентрационном или конституционном пере-
105
охлажд&нип (вследствие диффузионного перераспределе ния примесей или основных компонентов расплава в не которой зоне конституционного переохлаждения перед фронтом кристаллизации равновесная линия ликвидуса оказывается выше истинной температуры). Эти принци пы неоднократно использовались также и для описания морфологической стабильности при росте из собственно го пара.
Обычно вместо величины переохлаждения» -при
менялся параметр «пересыщение». |
Но в работе [28, |
|
с .115], например, учитывался также |
фактор |
теплообме |
на, причем было показано, что путем тонкого |
регулиро |
вания температуры газовой фазы перед фронтом кристал лизации удается создать условия, благоприятные для хо рошей огранки кристалла.
Однако кристаллизация из газовой фазы с участием химических реакций имеет явно выраженную специфику, II непосредственное применение для анализа этих процес сов классической теории морфологической стабильности, по-впдимому, не может быть эффективным. Выше мы от мечали роль мпкропзбирателы-іостп гетерогенных про цессов, поверхностной активности хемосорбционного слоя и диффузионных микромассопотоков в формировании микрорельефа. С другой стороны, исходная (газовая) фаза вследствие своей малой плотности имеет очень низ кие значения объемной теплоемкости и теплопроводности (на 2—4 порядка ниже, чем в твердом теле), а скорость кристаллизации обычно низка. Поэтому отвод тепла че рез исходную фазу практически не играет роли (заме тим, что при внешнем обогреве кристаллизация протека ет в условиях, близких к изотермическим).
Вместе с тем междурезультатами эксперименталь ных морфологических исследований при росте из газовой фазы и из расплава имеется определенная аналогия. С ячеистой структурой границы раздела при росте из рас плава можно сопоставить холмики роста эпитаксиальных слоев (рис. 24), хотя последние существенно менее упо рядочены. При низких скоростях кристаллизации в обо их случаях наблюдается тенденция к образованию ли нейчатой структуры (рис. 25). Наконец, при росте из га зовой фазы, как и из расплава, нередко наблюдается слоистый рельеф (рис. 26). При кристаллизации из рас плава этот эффект объясняется выделением большого ко личества тепла при движении групп ступеней, что привр-
106