Файл: Дорфман В.Ф. Газофазная микрометаллургия полупроводников [Текст] 1974. - 190 с.pdf

ВУЗ: Не указан

Категория: Не указан

Дисциплина: Не указана

Добавлен: 07.07.2024

Просмотров: 163

Скачиваний: 0

ВНИМАНИЕ! Если данный файл нарушает Ваши авторские права, то обязательно сообщите нам.

яівляется и в аналогии .наблюдаемых фигур роста и трав­ ления). Изложенное дает определенные основания рас­ сматривать сэндвич-метод как обратимый массообмен между твердыми фазами.

Случаи аномального пер,вноса в процессах Г М П

Термодинамическое рассмотрение отдельных реакции не всегда приводит к .правильным предсказаниям на­ правления переноса в процессах ГМіП. Можно назвать три рода факторов, которые иногда вызывают «обраще­ ние» переноса: 1) взаимное влияние параллельно проте­ кающих реакций, в частности, соосаждение различных компонентов и сопряженные реакции; 2) кинетические особенности; 3) условия массо обмена.

.Взаимное влияние различных реакций, если только оно не связано с кинетикой, может быть также рассчита­ но термодинамически, но обычно это затрудняется недос­ таточностью табличных данных. Кроме того, такие реак­

ции обычно приводят к пассивации твердых

фаз и поэ­

тому нестационарны. Рассмотрим в качестве

примера

некоторые эмпирически исследованные системы с ано­

мальным переносом. В системе Sb — I перенос возможен только в направлении более высоких температур (если, конечно, не происходит прямой сублимации сурьмы). Но в системе Sb — I -— Ge сурьма соосаждается вместе с гер­ манием в низкотемпературной зоне по реакции типа •

2/з sbl3r + Gel2r 2 2/з SbTB + Gel4r

Это совершенно изменяет условия легирования эпи­ таксиальных слоев германия сурьмой [60].

В системе Si — Ge — I при определенных условиях протекает встречный перенос кремния и германия по со­ пряженным реакциям

GeTB +

Sil4r 2

Gel4r + SiTB и GeTB +

Sil2p ; Gel2r + SiTB,

хотя

в тех

же условиях в индивидуальных системах

Si — I и Ge — I перенос происходит

только в направле­

нии более низких температур1.

'В системе Ge — Ga — I при определенном расположе­ нии .источников германия и галлия германий осаждается

1 В системе Ga—I—Cu медь переносится в сторону более низких температур (1000°С -> 800°С), в то время как в бинарной системе Си—I імедь .в этом температурном диапазоне вообще не переносится.

47


в несвойственных для «его температурных зонах по гете­ рогенной (Gel2i. + 2 Оаж -* 2GaIr+ GeTB) и квазигомогенной

(Galr + GeLr « -G a ^ + GeTB) реакциям, причем первая из

реакций приводит к пассивации источника галлия геріманиевой коркой и подавлению переноса галлия.

Определенные осложнения переноса могут иметь мес­ то и вследствие одновременного протекания реакций и фазовых превращений. Большинство полупроводнико­ вых соединений, в частности, переносится путем тран­ спортных реакций с участием одних компонентов и испа­ рением — конденсацией других. Так, при .переносе соеди­

нений /1ІИ

В ѵ

компонент

А

находится в газовой фазе

в

виде летучих соединений, a ß — в виде молекул ß 2 или

В ь

с

Такой процесс, вообще

говоря, может не протекать

практически наблюдаемой скоростью в строну более вы­ соких температур даже при благоприятном значении

А Н . Для реакций со сравнительно низким тепловым эф­ фектом существенны также агрегатное состояние и структурная модификация исходного и конечного продук­

тов,

а при переносе твердых растворов— их концентра­

ция.

 

 

 

В табл. 3 приведенынекоторыхзначенияреакций, используемыхтеплового вэффектагазофазнойне-

Тепловой эффект

ммкрометаллургии'

Таблица 3

 

Реакция

Д/Y.

Литературный

GeTB+

ккал/моль

источник

I2f:CGeISr

—2000

[56]

SiH 4r-i-SiTB-f- 2 Hor

—7820

[40]

SbTD+

Ior^ S b I3

—2400

__*

Au +

- j - Is^AuI

-200

[48]

(в твердом состоянии) .

[63] ін [-18].

 

* Вычислено по данным

 

48



которых тран'опортных реакций, используемых в ГМ П . В табл. 4—7 для сравнения приведены значения теплового

эффекта некоторых химических реакций и физических процессов.

 

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а

4

Тепловой эффект образования некоторых твердых растворов [61]

 

Матричная решетка

Растворяемый элемент

 

 

ДН ,

ккал/моль

 

G e

A g

 

 

 

 

5 6 ,0

 

 

As

 

 

 

 

2 0 , 0

 

In

In

 

 

 

 

7 ,4

 

G e

 

 

 

 

11, 9

 

G a

G e

 

 

 

 

8 , 3

 

 

Si

 

 

 

 

16, 2

5

 

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а

Тепловой эффект образования некоторых полупроводниковых

 

 

соединений [62]

 

A tf, ккал/моль

 

Соединение

 

 

 

In A s

 

— 7 ,4 ± 0 ,6 4

 

 

G aSb

 

— 4 ,9 7 ± 0 ,2 2

 

 

InSb

 

— 3 ,4 ± 0 ,3 ч - 4 ,3 ± 0 ,2

 

 

 

 

 

 

 

Т а б л и ц а

6

Тепловой эффект аллотропических превращений

 

Вещество

некоторых веществ

[48]

 

 

AH , ккал/моль

AH , ккал/моль

Вещество

H g S

1 , 0

p

 

 

 

— 1 0 ,3 «

 

CuoS

1,34

G eO o

 

4 2 *2

 

C u 2Se

1, 13

AI

2

O

3

2 0 , 6

 

*' Для превращения ,РЖСЛТ-* Р черн-

по данным

[68].

 

и Для превращения Ge0=-reTp ->G e0 -'m IC ,

 

49


Т а б л и ц а 7

Тепловой эффект плавления некоторых полупроводниковых

___________________________ материалов________________

Элементарный полупро­

M i ,

Полупроводниковое

Д

H,

водник

 

ккал/моль [64]

соединение

ккал/моль [62]

S i

 

m

i

In P

6 ,0 ± 1 ,5

Ge

 

7,6

Ga As

10,5±2,5

Те

 

4,18

InAs

13,0± 1,5

As

 

6,62

GaSb

6,0±0,36

 

 

 

 

InSb

4,5 ± ! , 5—

 

 

 

 

W o3

6,1 ±0,37

* Тіо данным

[63].

 

 

112,0*

______________________________________________________________________

■ Причиной

аномального

направления переноса мо­

гут быть по крайней

мере два кинетических

фактора:

1) принудительный перенос газовой фазы, не достигшей полного равновесия с твердой; 2) .концентрационное рас­ слоение в газовой фазе по молекулярным массам компо­ нентов.

Первый эффект наблюдается, например, в системах

Ge— I—іН и Ge— I—«CI. В системе Ge— I—H из-за относительно малой .скорости реакций иода и иодидов с водородом первоначально достигается частичное равно­ весие G — I в среде водорода как инертного газа. В ре­ зультате газовая фаза оказывается пересыщенной гер­ манием, и при достаточно большой скорости потока газа-

носителя

протекающие затем реакции Gel4 Н2 Г Gel2 +

+ 2 HI и

2 Gel2 ~ Gel4 -f Ge приводят к кристаллизации

германия ів последующей зоне, даже если температура в ней выше, чем в предыдущей (400—500°~*600—800°С).

При малых скоростях потока (или достаточно длин­ ной зоне источника) перенос протекает только от горячей зоны к холодной. Таким образом, направление переноса зависит от кинетических условий, а реакция переноса может быть определена ів этом случае как «кинетическая транспортная реакция». Такое изменение направления процесса в зависимости от кинетических условий возмож­ но не только в транспортных реакциях. Например, в сис­ теме Ge — Cl — іН возможны следующие реакции:

СеС14р +

Н2 TI GeCl2r +

2 НС1Г ->- GeCl2r Т:

•*— GeTnTD +

GeCl4 GeCl4

-j- GeTnT B ^; 2 GeCl2

 

 

1

50