Файл: Дорфман В.Ф. Газофазная микрометаллургия полупроводников [Текст] 1974. - 190 с.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 07.07.2024
Просмотров: 163
Скачиваний: 0
яівляется и в аналогии .наблюдаемых фигур роста и трав ления). Изложенное дает определенные основания рас сматривать сэндвич-метод как обратимый массообмен между твердыми фазами.
Случаи аномального пер,вноса в процессах Г М П
Термодинамическое рассмотрение отдельных реакции не всегда приводит к .правильным предсказаниям на правления переноса в процессах ГМіП. Можно назвать три рода факторов, которые иногда вызывают «обраще ние» переноса: 1) взаимное влияние параллельно проте кающих реакций, в частности, соосаждение различных компонентов и сопряженные реакции; 2) кинетические особенности; 3) условия массо обмена.
.Взаимное влияние различных реакций, если только оно не связано с кинетикой, может быть также рассчита но термодинамически, но обычно это затрудняется недос таточностью табличных данных. Кроме того, такие реак
ции обычно приводят к пассивации твердых |
фаз и поэ |
тому нестационарны. Рассмотрим в качестве |
примера |
некоторые эмпирически исследованные системы с ано |
мальным переносом. В системе Sb — I перенос возможен только в направлении более высоких температур (если, конечно, не происходит прямой сублимации сурьмы). Но в системе Sb — I -— Ge сурьма соосаждается вместе с гер манием в низкотемпературной зоне по реакции типа •
2/з sbl3r + Gel2r 2 2/з SbTB + Gel4r •
Это совершенно изменяет условия легирования эпи таксиальных слоев германия сурьмой [60].
В системе Si — Ge — I при определенных условиях протекает встречный перенос кремния и германия по со пряженным реакциям
GeTB + |
Sil4r 2 |
Gel4r + SiTB и GeTB + |
Sil2p ; Gel2r + SiTB, |
хотя |
в тех |
же условиях в индивидуальных системах |
|
Si — I и Ge — I перенос происходит |
только в направле |
нии более низких температур1.
'В системе Ge — Ga — I при определенном расположе нии .источников германия и галлия германий осаждается
1 В системе Ga—I—Cu медь переносится в сторону более низких температур (1000°С -> 800°С), в то время как в бинарной системе Си—I імедь .в этом температурном диапазоне вообще не переносится.
47
в несвойственных для «его температурных зонах по гете рогенной (Gel2i. + 2 Оаж -* 2GaIr+ GeTB) и квазигомогенной
(Galr + GeLr « -G a ^ + GeTB) реакциям, причем первая из
реакций приводит к пассивации источника галлия геріманиевой коркой и подавлению переноса галлия.
Определенные осложнения переноса могут иметь мес то и вследствие одновременного протекания реакций и фазовых превращений. Большинство полупроводнико вых соединений, в частности, переносится путем тран спортных реакций с участием одних компонентов и испа рением — конденсацией других. Так, при .переносе соеди
нений /1ІИ |
В ѵ |
компонент |
А |
находится в газовой фазе |
в |
|
виде летучих соединений, a ß — в виде молекул ß 2 или |
В ь |
|||||
с |
||||||
Такой процесс, вообще |
говоря, может не протекать |
практически наблюдаемой скоростью в строну более вы соких температур даже при благоприятном значении
А Н . Для реакций со сравнительно низким тепловым эф фектом существенны также агрегатное состояние и структурная модификация исходного и конечного продук
тов, |
а при переносе твердых растворов— их концентра |
||
ция. |
|
|
|
В табл. 3 приведенынекоторыхзначенияреакций, используемыхтеплового вэффектагазофазнойне- |
|||
Тепловой эффект |
ммкрометаллургии' |
Таблица 3 |
|
|
Реакция |
Д/Y. |
Литературный |
GeTB+ |
ккал/моль |
источник |
|
I2f:CGeISr |
—2000 |
[56] |
|
SiH 4r-i-SiTB-f- 2 Hor |
—7820 |
[40] |
|
SbTD+ |
Ior^ S b I3 |
—2400 |
__* |
Au + |
- j - Is^AuI |
-200 |
[48] |
(в твердом состоянии) . |
[63] ін [-18]. |
|
|
* Вычислено по данным |
|
48
которых тран'опортных реакций, используемых в ГМ П . В табл. 4—7 для сравнения приведены значения теплового
эффекта некоторых химических реакций и физических процессов.
|
|
|
|
|
|
Т а б л и ц а |
4 |
Тепловой эффект образования некоторых твердых растворов [61] |
|
||||||
Матричная решетка |
Растворяемый элемент |
|
|
ДН , |
ккал/моль |
|
|
G e |
A g |
|
|
|
|
5 6 ,0 |
|
|
As |
|
|
|
|
2 0 , 0 |
|
In |
In |
|
|
|
|
7 ,4 |
|
G e |
|
|
|
|
11, 9 |
|
|
G a |
G e |
|
|
|
|
8 , 3 |
|
|
Si |
|
|
|
|
16, 2 |
5 |
|
|
|
|
|
|
Т а б л и ц а |
|
Тепловой эффект образования некоторых полупроводниковых |
|
||||||
|
соединений [62] |
|
A tf, ккал/моль |
|
|||
Соединение |
|
|
|
||||
In A s |
|
— 7 ,4 ± 0 ,6 4 |
|
|
|||
G aSb |
|
— 4 ,9 7 ± 0 ,2 2 |
|
|
|||
InSb |
|
— 3 ,4 ± 0 ,3 ч - 4 ,3 ± 0 ,2 |
|
||||
|
|
|
|
|
|
Т а б л и ц а |
6 |
Тепловой эффект аллотропических превращений |
|
||||||
Вещество |
некоторых веществ |
[48] |
|
|
AH , ккал/моль |
||
AH , ккал/моль |
Вещество |
||||||
H g S |
1 , 0 |
p |
|
|
|
— 1 0 ,3 « |
|
CuoS |
1,34 |
G eO o |
|
4 2 *2 |
|
||
C u 2Se |
1, 13 |
AI |
2 |
O |
3 |
2 0 , 6 |
|
*' Для превращения ,РЖСЛТ-* Р черн- |
по данным |
[68]. |
|
||||
и Для превращения Ge0=-reTp ->G e0 -'m IC , |
|
49
Т а б л и ц а 7
Тепловой эффект плавления некоторых полупроводниковых
___________________________ материалов________________
Элементарный полупро |
M i , |
Полупроводниковое |
Д |
H, |
||
водник |
|
ккал/моль [64] |
соединение |
ккал/моль [62] |
||
S i |
|
m |
i |
In P |
6 ,0 ± 1 ,5 |
|
Ge |
|
7,6 |
Ga As |
10,5±2,5 |
||
Те |
|
4,18 |
InAs |
13,0± 1,5 |
||
As |
|
6,62 |
GaSb |
6,0±0,36 |
||
|
|
|
|
InSb |
4,5 ± ! , 5— |
|
|
|
|
|
W o3 |
6,1 ±0,37 |
|
* Тіо данным |
[63]. |
|
|
112,0* |
||
______________________________________________________________________ |
||||||
■ Причиной |
аномального |
направления переноса мо |
||||
гут быть по крайней |
мере два кинетических |
фактора: |
1) принудительный перенос газовой фазы, не достигшей полного равновесия с твердой; 2) .концентрационное рас слоение в газовой фазе по молекулярным массам компо нентов.
Первый эффект наблюдается, например, в системах
Ge— I—іН и Ge— I—«CI. В системе Ge— I—H из-за относительно малой .скорости реакций иода и иодидов с водородом первоначально достигается частичное равно весие G — I в среде водорода как инертного газа. В ре зультате газовая фаза оказывается пересыщенной гер манием, и при достаточно большой скорости потока газа-
носителя |
протекающие затем реакции Gel4 Н2 Г Gel2 + |
+ 2 HI и |
2 Gel2 ~ Gel4 -f Ge приводят к кристаллизации |
германия ів последующей зоне, даже если температура в ней выше, чем в предыдущей (400—500°~*600—800°С).
При малых скоростях потока (или достаточно длин ной зоне источника) перенос протекает только от горячей зоны к холодной. Таким образом, направление переноса зависит от кинетических условий, а реакция переноса может быть определена ів этом случае как «кинетическая транспортная реакция». Такое изменение направления процесса в зависимости от кинетических условий возмож но не только в транспортных реакциях. Например, в сис теме Ge — Cl — іН возможны следующие реакции:
СеС14р + |
Н2 TI GeCl2r + |
2 НС1Г ->- GeCl2r Т: |
•*— GeTnTD +‘ |
GeCl4 GeCl4 |
-j- GeTnT B ^; 2 GeCl2 |
|
|
1 |
50