Файл: Утевский, Л. М. Дифракционная электронная микроскопия в металловедении.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 14.10.2024
Просмотров: 114
Скачиваний: 0
Рис. |
4. |
Относительные |
на |
|
правления |
смещений о б р а з |
|||
ца |
и его |
и з о б р а ж е н и я |
(ти |
|
пичный |
случай) |
|
Экран
Рис. 3. Схема хода |
лучей |
в |
электронном |
|
|
|
|
|
|
|
|||||||
микроскопе: |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
О — образец; |
Ф0 |
— з а д н я я |
фокальная пло |
Рис. |
5. |
|
Схема |
определения |
|||||||||
скость |
объектива; |
|
# 0 |
— плоскость |
изобра |
п о л о ж е н и я проекции |
оси на |
||||||||||
|
клона |
|
по |
с м е щ е н и ю |
кикучи- |
||||||||||||
жения |
объектива; |
Я к |
— к о н е ч н о е |
изобра |
|
||||||||||||
линий |
|
|
П о л о ж е н и я |
образ |
|||||||||||||
жение; |
Ип |
— промежуточное |
и з о б р а ж е н и е |
|
|
||||||||||||
ца О: |
|
|
|
|
|
||||||||||||
Ц и ф р а м и |
1, |
2, |
3 |
обозначены |
соответствен |
а |
— д о |
и |
б — после |
наклона; |
|||||||
но объективная, |
промежуточная и |
проек |
К |
и |
К' |
— точки |
пересечения |
||||||||||
ционная |
линзы |
|
|
|
|
|
|
кикучи-линий |
|
|
вить направления перемещения образца и соответству ющего сдвига его изображения при разных увеличениях. Обычно направления эти оказываются почти противо положными (рис. 4).
Затем наблюдают перемещение узора кикучи-линий при наклоне образца в известную сторону вокруг гори зонтальной оси. Если дифракционная картина не повер нута на 180° относительно образца, то кикучи-узор сме
щается примерно (с точностью до суммарного |
магнит |
|
ного поворота в линзах) так, как будто он жестко |
связан |
|
с наклоняемым образцом |
(рис. 5). Это позволяет непо |
|
средственно сопоставить |
повороты микро- и дифракци- |
38
/1Ф, Z ступень |
Рис. 7. |
График |
разворота |
изо |
|
|
б р а ж е н и я относительно |
дифрак |
|||
|
ционной |
картины: |
|
|
|
|
ЭГ — направление |
канта |
кадра |
||
|
электронограммы; |
МФ — то |
ж е , |
||
|
микрофотографии: |
номера |
сту |
||
|
пеней |
соответствуют р е ж и м а м |
|||
|
работы |
п р о м е ж у т о ч н о й |
линзы . |
||
|
Во всех случаях негативы рас |
||||
|
сматриваются со стороны э м у л ь ' |
||||
|
сии |
|
|
|
|
^57
ют кристаллы трехокиси молибдена а-МоОз, которые можно получить на любой пленке-подложке, пронеся
объектную сетку с пленкой через дым над |
накаливаемой |
||||
током молибденовой |
проволокой. |
|
|
||
Длинные |
прямые |
края |
пластинки кристалла М о 0 3 |
||
параллельны |
направлению |
[001] (рис. 6,а). |
Изображе |
||
ние кристалла при увеличении, принятом |
за |
стандартное |
(перед переходом на режим микродифракции, см. гл. 15), и дифракционную картину (рис. 6,6) можно экспо нировать на одну пластинку или совместить по кантам кадра, если они сняты раздельно (рис. 6, в). Съемкой при других режимах токов в промежуточной и проекци онной линзах получают зависимость угла поворота изо бражения относительно дифракционной картины при различных увеличениях.
Если в образце имеются дефекты упаковки или коге рентные (плоские) двойниковые границы, то угол по ворота дифракционной картины относительно изображе
ния можно определить |
как |
угол между нормалью |
|
к линии изображения |
дефекта, |
параллельного пучку |
|
э л е к т р о н о в и направлением |
на |
электронограмме, ко |
торое имеет заранее известные индексы плоскости этого дефекта.
Удобно пользоваться графиком, аналогичным приве денному на рис. 7, на который можно прямо положить
1 Аналогичные измерения по следу наклонного дефекта ненадеж ны (см. гл. I I ) .
40
и |
взаимно сориентировать негативы микрофотографии |
и |
микроэлектронограммы — под углом, отвечающим |
данному току промежуточной линзы при стандартном токе проекционной линзы.
10. КАЛИБРОВКА УСТРОЙСТВА ДЛЯ НАКЛОНА ОБРАЗЦА
Для калибровки угломерного устройства гониометри ческого столика и определения направления проекции оси наклона образца на микродифракционной картине можно использовать величину и направление смещения узора кикучи-линий на электронограммах от одного ито го же участка фольги при изменениях ориентировки кристалла в результате его наклона в столике. При этом предполагается, что механизм столика обеспечивает на клон образца вокруг оси, перпендикулярной (с точно стью 1—2°) падающему пучку электронов, и положение этой оси не меняется во всем интервале углов наклона образца1 . Количественные измерения при работе с го ниометрическим столиком нужно проводить только с «вы бранным» люфтом, т.е. подводить столик к измеряемо му положению наклоном только в одну и ту же сторону.
Положение кикучи-линий на электронограмме жест ко связано с положением соответствующих атомных пло скостей в кристалле относительно первичного пучка. Любое изменение ориентировки кристалла вызывает смещение всего узора кикучи-линий, причем каждая точ
ка узора движется |
по линии |
пересечения |
плоскости |
|
электронограммы с |
конусом, ось которого — ось поворо |
|||
та образца, а образующая — направление |
от |
образца на |
||
данную точку узора. Так, при |
повороте |
кристалла во |
круг направления первичного пучка электронов каждая точка узора кикучи-линий перемещается по одной из
концентрических |
окружностей, центр которых — это |
след первичного |
пучка. При наклоне кристалла вокруг |
оси, перпендикулярной пучку (рис. 8), точки кикучи-узо-
ра |
смещаются |
по гиперболам, общей |
действительной |
|
1 Имеются в виду приспособления для наклона вокруг постоян |
||
ной |
оси, однако все |
сказанное далее относится |
и к столикам с дву |
мя осями наклона при последовательном использовании каждой в от
дельности |
(наклон вокруг другой должен отсутствовать), а также |
|
к столикам |
с |
переменной осью наклона, положение которой при же |
лании можно |
фиксировать. |
|
4 - 230 |
|
41 |
Рис. 8. Траектория с м е щ е н и я точек пересечения кикучи-линий
при |
наклоне о б р а з ц а |
О вокруг |
оси, |
перпендикулярной |
п а д а ю щ е |
му |
пучку электронов |
|
осью которых служит направление у проекции оси на клона, проходящее через центр электронограммы, а мни
мой |
осью — направление х, перпендикулярное |
оси у. |
Чем |
ближе к центру (следу первичного пучка) |
проходит |
такая гипербола—траектория смещения, тем меньше ее отличие от прямой линии1 .
Таким образом, по направлению смещения точек пе ресечения кикучи-линий на электронограммах, снятых при разных наклонах образца, можно определить с точ ностью ± 1 ° направление проекции оси наклона гонио метрического столика относительно канта кадра на не гативе при съемке микроэлектронограмм, т. е. при стан дартных токах в промежуточной и проекционной линзах и почти стандартном фокусирующем токе в объективной линзе, хотя последний приходится несколько менять, приспосабливая к каждому данному расстоянию образ ца от средней плоскости объективной линзы.
Смещения точек узора кикучи-линий дают в масшта бе электронограммы угол и направление наклона кри сталла относительно горизонтальной оси. Сопоставление величины этого угла (в минутах или градусах) с разно-
1 Если при наклоне образца точки пересечений кикучи-линий перемещаются по заметно криволинейным траекториям, проходящим вблизи центра дифракционной картины, то это свидетельствует о не параллельности оси наклона гониометрического столика плоскости экрана (фотопластинки) — дефекте конструкции, изготовления или установки механизма для наклона.
42
стью показаний угломерного устройства до и после на клона кристалла дает цену деления шкалы этого устрой ства.
Образец для калибровочных съемок должен быть не слишком тонким, с чистой поверхностью, без дефектов и немагнитным. Достаточная толщина фольги необходи ма для получения контрастных кикучи-линий; загрязне ние поверхностей фольги приводит к повышению интен сивности однородного фона электронограммы, в кото ром «тонут» слабые кикучи-линии; дефекты кристалли ческого строения нежелательны, поскольку вызывают локальные разориентировки и уширение (размытие) ки кучи-линий; собственное магнитное поле образца влияет при наклоне фольги на направление прямо прошедшего пучка и осложняет измерения. Для повышения точности измерений нужно четко обозначить кант кадра, исполь
зовать большее число |
кикучи-линий |
(как светлых, так |
и темных), добиться |
минимальных |
размеров рефлек |
са — следа прямого пучка на электронограмме и мини мальной ширины кикучи-линий. Первые два требования можно выполнить подбором такой экспозиции, при кото рой получается достаточно интенсивный фон1 . Однако тогда увеличивается ширина ярких кикучи-линий, а так же размеры и интенсивность нулевого рефлекса. Поэто му нужно хорошо сфокусировать дифракционную карти
ну (изменением тока в промежуточной |
линзе), |
умень |
|
шить угол сходимости первичного пучка |
(уменьшением |
||
тока во второй конденсорной линзе) и |
почти |
на |
все |
время экспозиции прикрыть след прямого пучка |
под |
вижной шторкой, имеющейся в микроскопах и специаль но предназначенной для сокращения экспозиции от дельных рефлексов. Точность измерений повысится, ес ли изменение положения кикучи-линий при наклоне об разца фиксировать не на разных, а на одном негативе,
уменьшив |
соответственно |
|
время |
экспозиции |
каждого |
|||
снимка. |
|
|
|
|
|
|
|
|
Не |
следует |
забывать, |
что все |
электронограммы при |
||||
разных |
наклонах образца |
должны быть получены стро- |
||||||
1 Д л я четкого |
обозначения |
канта кадра после съемки дифрак |
||||||
ционной |
картины можно |
перейти |
на изображение и сэкспонировать |
|||||
на тот же |
негатив |
два |
(слева |
и |
справа |
вдоль одного |
края кадра) |
изображения селекторной диафрагмы так, чтобы они перерезались
кантом |
кадра. |
4* |
43 |