Файл: Сухвало, С. В. Структура и свойства магнитных пленок железо-никель-кобальтовых сплавов.pdf
ВУЗ: Не указан
Категория: Не указан
Дисциплина: Не указана
Добавлен: 15.10.2024
Просмотров: 90
Скачиваний: 0
При температуре ниже Ти (вторая область) устойчивое су ществование жидкой фазы непосредственно на подложке тер модинамически невозможно. В данном случае в образовании пленки существенную роль начинают играть процессы конден сации пара на поверхности подложки. Очевидно, в соответст вии с этим в литературе [24, 26] описаны два механизма об разования тонких пленок: механизм пар—жидкость—кристалл (ПЖК) в области температур Ts—Ти и механизм пар—кри сталл (ПК) при всех температурах подложки, не превышаю щих jTk. Описанное разделение хорошо подтверждается при электронномикроокопическом изучении пленок [24, 26—29].
Важно обратить внимание на тот факт, что вещества, склонные к полиморфизму, в зависимости от количества поли морфных модификаций могут иметь несколько тройных точек (Т’к,, ТК2, ..., TKj). В результате в общем температурном диапа зоне кристаллизации пленок наблюдается несколько областей, в которых возможно существование жидкой фазы, иногда смеси жидкой и кристаллической фаз. Область существования жидкой фазы при более низких температурах подложки отве чает .низкотемпературной модификации кристаллической структуры пленки, а при более высоких—высокотемпературной модификации. Подобные закономерности кроются в физиче ском механизме гистерезиса всякого фазового превращения, соответствующего переходу 1-го рода [30—/33].
В общем случае изменение гистерезиса процесса кристал лизации обусловлено изменением любого параметра равнове сия. Из этого следует, что критическое переохлаждение жид кой фазы зависит от степени термодинамического пересыще ния. Температурный гистерезис представляет собой частный случай, отличающийся тем, что при этом происходит не только уменьшение или возрастание пересыщения, но и существенное изменение подвижности и числа перемещающихся атомов, обусловленное воздействием температуры.
Согласно [33], величину относительного неизбежного пере охлаждения жидкой фазы как меру гистерезиса .процесса за твердевания при малых скоростях охлаждения можно описать
с помощью соотношения |
|
|
|
ALi |
(1 - е ) |
( 1. 12) |
|
Тк |
|||
|
2L ’ |
где e— AV/V — относительное изменение объема при превра щении; V — удельный объем; %с — величина, пропорциональ ная модулям сжатия исходной и возникающей фаз; L — теп лота превращения.
Таким образом, способность беспримесных металлов и сплавов в жидком агрегатном состоянии к переохлаждению
20
определяется в основном величиной энтропии твердой фазы,
возрастающей с ухудшением |
совершенства кристаллической |
||
решетки. В этом суть влияния |
условий |
кристаллизации |
на |
величину АТк. |
|
|
|
В случае появления различных метастаб ильных кристал |
|||
лических фаз в тонких пленках величина |
АТК изменяется |
в |
соответствии с изменением термодинамических характеристик конечных фаз превращения.
Наличие полиморфных переходов при прочих равных усло виях сопровождается снижением теплоты и энтропии плавле ния. Чем больше число полиморфных переходов и чем больше их скрытая теплота превращения, тем меньше теплота и эн тропия плавления вещества. Поскольку энтропия превраще ния соответствует разности энтропий расплава и кристалличе ского состояния, при отсутствии полиморфных переходов эта разность, как правило, больше, чем при наличии. При поли морфном переходе к низкотемпературной модификации может значительно увеличиваться критическая степень переохлажде ния жидкой фазы, если энтропия низкотемпературной фазы мала. Значительное уменьшение энтропии следующей поли морфной фазы может сопровождаться, таким образом, воз никновением новой критической температуры Тк. Вследствие этого возникают описанные выше температурные области су ществования переохлажденной жидкости, которые могут каскадно появляться с изменением температуры подложки в со ответствии с последовательностью ряда полиморфных превра щений в твердой фазе. При растянутом полиморфном переходе может наблюдаться омесь жидкой фазы и твердой более вы сокотемпературной модификации. Проанализированные зако номерности обнаружены, например, при кристаллизации пле-. нок железа, кобальта и других полиморфных веществ [24, 34, 35].
Учитывая изложенное, выделим еще раз вклад температу ры подложки Тп и переохлаждения на фронте кристаллизации вследствие изменения Тп в общее термодинамическое пересы
щение. Этот вклад в соответствии с уравнениями |
(1.4) и (1.6) |
должен определяться как |
|
AZnT = AS(Ts- T n) = L - ^ |
(1.13) |
S |
|
В этом соотношении использовано приближенное выражение
ввиде полинома Тейлора первой степени. Для лучшего при ближения в случае высоких переохлаждений можно использо вать полином второй степени [36], тогда получим
(1.14)
21
где с%—Ci — разность теплоемкостей пленки в жидком и твер дом состояниях. Отметим, что в уравнениях (1.13) и (1.14)
имеются в |
виду истинные величины Та и АТ с учетом объема |
и скорости |
охлаждения, значения которых для пленок уже об |
суждались.
Отметим также еще одну роль температуры подложки в изменении термодинамического пересыщения. Она связана с тем, что при увеличении Тп возрастает интенсивность хемо сорбции газовых химически активных примесей. Это означает изменение химического состава пленки, приводящее к измене нию слагаемого Hpid/ii в уравнении (1.6). Некоторые особен ности подобных процессов будут рассмотрены ниже.
Давление остаточных газов. Практика получения тонких пленок свидетельствует о значительном влиянии на их свойст ва давления остаточных газов в кристаллизационной камере [37—42]. Это влияние обусловлено существенным изменением термодинамического пересыщения в зависимости от давления остаточных газов.
При рассмотрении взаимосвязи между термодинамическим пересыщением и давлением остаточных газов необходимо различать в общем случае одновременное действие ряда неза висимых факторов. Термодинамическое пересыщение изменя ется прежде всего в результате отклонения величины давления от его равновесного стандартного значения рк, которое обычно используется при кристаллизационных процессах.
Очевидно, величина давления р в процессе кристаллизации
будет определяться суммарным давлением остаточных газов и |
|
давлением пара испаряемого вещества |
('p= pi+Pnapa). Тогда |
в первом приближении можно считать, |
что величина термоди |
намического пересыщения при изменении только величины давления по отношению к его стандартному значению рк при постоянстве всех прочих обобщенных сил и температуры пря мо пропорциональна разности равновесного и неравновесного давлений:
& р ^ (Vt - V,) (Рк - р) = AV (рк - р ) . |
(1.15) |
При этом коэффициентом пропорциональности является раз ность удельных объемов исходной Vi и возникающей V% фаз. Чем больше различие в удельных объемах фаз 1 и 2, тем боль ше значение термодинамического пересыщения при заданной величине отклонения давления от равновесного.
При больших отклонениях давления от равновесного точ нее будет учитывать еще и второй член в степенном ряду раз
ложения, т. е. |
|
&Zp ~<y2- V 1)(pK- p ) + ~ ^ - ( Р к- рГ, |
(1.16) |
где Ах — коэффициент. |
|
22
Подсчет показывает, что AZv в широком диапазоне давле ний невелико и не может оказать существенного влияния на условия кристаллизации. Покажем это на примере изменения
температуры плавления |
пленок вследствие изменения дав |
|
ления. |
Клаузиуса—Клапейрона, |
запишем |
Используя уравнение |
||
dT/dp = TAVIL, |
(1.17) |
|
где L — теплота превращения; dp — изменение |
давления; |
dT — изменение температуры вследствие изменения давления. Отсюда, полагая в первом приближении, что AV и L не зависят от температуры и давления, и интеприруя (1.17), на ходим вид зависимости температуры плавления от величины
давления р: |
ДК |
|
|
Т = Тпл-ехр |
(1.18) |
||
( Р - 1 ) |
где 7пл — равновесная температура плавления при нормаль ном (стандартном) давлении.
На основании (1.17) и (1.18) влияние давления при равно весных других условиях можно расценивать эквивалентным изменению переохлаждения при кристаллизации на величину АТр. Так, например, для никеля три отклонении давления от стандартного значения на 1 ат (98 кн/м2) ДТрлПО-3 град.
Таким образом, повышение давления остаточных газов при постоянном давлении пара может изменять термодинами ческое пересыщение главным образом благодаря физико-хи мическим свойствам остаточных газов, играющих роль при месей. Влиянием же самого давления в диапазоне его величин, используемых при кристаллизации пленок, можно пренебречь.
Увеличение давления нейтральной газовой среды (аргон и пр.) изменяет свойства пленок меньше, чем остаточная атмо сфера других газов [43], в связи с отсутствием в первом слу
чае химической активности. |
Наиболее значительно |
влияние |
|
химически активных примесей. |
газов |
не выше 10-8—10~7 мм |
|
При давлении остаточных |
|||
рт. ст. количество газовых примесей |
сравнительно |
невелико |
[44]. При давлениях, превышающих указанный предел, в ос таточной атмосфере присутствуют молекулы воды, моно- и двуокиси углерода, водорода, кислорода и азота [41, 45]. В вакууме 10_6 мм рт. ст. остаточное давление обеспечивается в основном присутствием Н20, СО и С02. Количественное со держание отдельных компонентов остаточных газов при таком давлении следующее [45]:
Газ |
Н20 |
N, |
Н. |
СО |
0 2 |
СО. |
Аг |
СН. |
СаН, |
С,Н,„ |
р, ММ |
5-10'7 |
2-10-’ |
2-10"7 |
5• 10"® |
4-10-8 |
Э-ИГ3 |
5-H)-3 |
<10-‘° |
2-Ю"9 |
М О '3 |
рт. ст. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
23